本發明專利技術提供防著板支承部件及具有該防著板支承部件的離子源,能提高將防著板向等離子體生成容器安裝及將防著板從等離子體生成容器拆下時的工作效率。防著板支承部件(15)配置在等離子體處理裝置及離子束照射裝置中所使用的等離子體生成容器(4)內,具有至少一部分與等離子體生成容器(4)的內壁抵接的主體部(16)及從主體部(16)延伸設置的端部(17),在將防著板支承部件(15)組裝在等離子體生成容器(4)上時,端部(17)從等離子體生成容器(4)的內壁離開。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及用于將防著板安裝在等離子體處理裝置及離子束照射裝置中所使用的等離子體生成容器內部的防著板支承部件以及具有該防著板支承部件的離子源。
技術介紹
在被稱為等離子體CVD裝置或PLAD的等離子體摻雜裝置等等離子體處理裝置、離子注入裝置及離子束定向裝置等離子束照射裝置中,為了防止等離子體生成容器內壁受到腐蝕及高效地進行等離子體生成容器內的清洗,沿著等離子體生成容器內壁設置有如專利文獻I的圖3所示的、可裝拆的襯里(也稱為襯板、防著板)。專利文獻I :日本專利公開公報特開平5-182623號(圖3) 根據裝置的運行情況,需要對防著板進行更換。例如,在使裝置運行一定程度的期間之后,防著板上會附著堆積物。此外,由于等離子體生成容器內的熱量,有時會使防著板產生熱變形。如果任由這種狀態而不管,會給裝置的運行帶來障礙,所以例如要定期地對防著板進行更換。防著板通常用螺栓固定在等離子體生成容器的內壁上。因此,在將防著板安裝在等離子體生成容器的內壁上、或者將防著板從等離子體生成容器的內壁上拆下時,必須將固定防著板的螺栓全部安裝上或者將固定防著板的螺栓全部拆下,這樣的操作需要較長的時間。而且,如果定期進行這樣的操作,則會使裝置的維護的時間變長,會影響裝置的運行率。近年來,被處理對象物的尺寸在逐年増大。例如,對于離子束照射裝置而言,在被處理對象為玻璃基板(襯底)的情況下,其大小會達到約2200mmX2600mm。伴隨著這樣的基板大型化,等離子體生成容器的尺寸也變大了。在使用這樣大型的等離子體生成容器時,防著板的尺寸對應的也變大。因此,在安裝大尺寸的防著板時,需要更多的螺栓,防著板的安裝與拆下操作所需要的時間也會變得更長。而且,需要很多勞動カ來進行安裝及拆下防著板的操作。
技術實現思路
本專利技術的主要目的在于提供防著板支承部件及具有該防著板支承部件的離子源,能夠提高將防著板安裝在等離子體生成容器上或將防著板從等離子體生成容器拆下的エ作效率。本專利技術提供一種防著板支承部件,配置在等離子體生成容器內,所述等離子體生成容器在等離子體處理裝置及離子束照射裝置中使用,所述防著板支承部件的特征在干,具有主體部,至少一部分與所述等離子體生成容器的內壁抵接;以及端部,從所述主體部延伸設置,并且在將所述防著板支承部件組裝在所述等離子體生成容器上吋,所述端部從所述等離子體生成容器的內壁離開。使用所述的防著板支承部件,能夠提高將防著板安裝在等離子體生成容器上及將防著板從等離子體生成容器拆下時的工作效率。此外,為了進ー步提高工作效率,優選的是,所述端部沿著安裝所述防著板支承部件的所述等離子體生成容器的內壁延伸設置。這樣,防著板的安裝與拆下能夠順利地進行。此外,所述防著板支承部件由非磁性體和磁性體構成。此外,本專利技術還提供一種離子源,在等離子體生成容器內生成等離子體,從該等離子體產生離子束,并使所述離子束向規定的方向行進,在所述等離子體生成容器內配置有多個如上所述的防著板支承部件,在與所述離子束的行進方向大體垂直的平面上,所述防著板支承部件的端部沿著所述等離子體生成容器的內壁相互相對配置,并且在相對配置的所述防著板支承部件的端部之間配置有防著板。此外,本專利技術還提供一種離子源,在周圍配置有多個永磁體的等離子體生成容器·內生成等離子體,從該等離子體產生離子束,并使所述離子束向規定的方向行進,在所述等離子體生成容器內配置有多個如上所述的防著板支承部件,在與所述離子束的行進方向大體垂直的平面上,所述防著板支承部件的端部沿著所述等離子體生成容器的內壁相互相對配置,在相對配置的所述防著板支承部件的端部之間配置有防著板,并且構成所述防著板支承部件的磁性體的至少一部分隔著所述等離子體生成容器的壁面與配置在所述等離子體生成容器周圍的所述永磁體相對配置。通過在等離子體生成容器內配置防著板支承部件,并以使防著板相對于防著板支承部件滑動的方式來安裝或拆下防著板,因此能夠縮短對防著板進行定位所需要的時間。此外,由于防著板的端部由防著板支承部件支承,所以能夠減少固定防著板本身的螺栓的數量。此外,由于用于固定防著板本身的螺栓的數量減少,所以能夠縮短安裝或拆下防著板時所需要的時間。附圖說明圖I是表示本專利技術的離子源的一個實施方式的剖視圖。圖2是沿著圖I所示的A-A線在X方向上切斷等離子體生成容器時的剖視圖。圖3是表示防著板支承部件的立體圖。圖4是表示在圖I、圖2所示的等離子體生成容器的內部進ー步追加了防著板支承部件的情形。圖5是表示在圖4的結構中追加的防著板支承部件的立體圖。圖6是表示設置在等離子體生成容器周圍的永磁體的配置示例,圖6的(a)表示使Z方向朝向紙面的斜后方的時的情形,圖6的(b)表示使Z方向朝向紙面的斜前方時的情形。圖7是表示在圖6所示的等離子體生成容器的端部安裝有由磁性體與非磁性體構成的防著板支承部件的情形的立體圖。圖7的(a)是表示磁性體與非磁性體沿著圖示箭頭IB方向交替配置的防著板支承部件的例子,圖7的(b)是表示在非磁性體的內部配置有多個磁性體的防著板支承部件的例子。圖8是表示圖7的(a)所示的防著板支承部件的立體圖,圖8的(a)表示防著板支承部件的整體,圖8的(b)表示將構成防著板支承部件的磁性體與非磁性體分解時的情形。圖9是表示圖7的(b)所示的防著板支承部件的立體圖,圖9的(a)表示防著板支承部件的整體,圖9的(b)表示將構成防著板支承部件的磁性體與非磁性體分解時的情形。圖10是圖5所示的防著板支承部件的變形例,圖10的(a)表示防著板支承部件的整體,圖10的(b)表示將構成防著板支承部件的磁性體與非磁性體分解時的情形。圖11是表示防著板支承部件的另外的變形例的立體圖。附圖標記說明I——離子源4——等離子體生成容器 10-燈絲12——永磁體13——磁性體14——非磁性體15——防著板支承部件16-主體部17——端部20——防著板21——間隙具體實施例方式圖I中記載了表示離子束照射裝置中所使用的離子源I的一個實施方式的剖視圖。該離子源I是被稱為桶式離子源類型的離子源的ー種。 該離子源I具有長方體形的等離子體生成容器4,從等離子體生成容器4引出大體為帶狀的尚子束3。在等離子體生成容器4上通過未圖示的閥安裝有氣體源2,從該氣體源2供給作為離子束3的原料的氣體。此外,在該氣體源2上連接有未圖示的氣體流量調節器(質量流量控制器),由此調節從氣體源2向等離子體生成容器4內部提供的氣體的供給量。在等離子體生成容器4的一個側面上,沿著Y方向安裝有多個U形的燈絲10。這些燈絲10具有下述結構使用與燈絲10的端子之間連接的電源Vf,來調節流過各燈絲10的電流量。通過這樣的結構,能夠調節從離子源I引出的離子束3的電流密度分布。電流流過燈絲10,對燈絲10進行加熱,由此從燈絲10放出電子。該電子與供給到等離子體生成容器4內部的氣體(PH3、BF3等)發生碰撞引起氣體的電離,從而在等離子體生成容器4內生成等離子體9。在該離子源I中,在等離子體生成容器4的周圍安裝有多個永磁體12。由該永磁體12在等離子體生成容器4的內部區域形成會切磁場,將從燈絲10放出的電子關在預定的區域內。此外,多個永磁體12在以每個托架為數個的方式收納在未圖示的托架上的狀態下,安裝在等離子體生成容器4上。本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種防著板支承部件,配置在等離子體生成容器內,所述等離子體生成容器在等離子體處理裝置及離子束照射裝置中使用,所述防著板支承部件的特征在于,具有:主體部,至少一部分與所述等離子體生成容器的內壁抵接;以及端部,從所述主體部延伸設置,并且在將所述防著板支承部件組裝在所述等離子體生成容器上時,所述端部從所述等離子體生成容器的內壁離開。
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員:井內裕,土肥正二郎,谷井正博,
申請(專利權)人:日新離子機器株式會社,
類型:發明
國別省市:
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