【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術涉及離子源，尤其涉及用于離子注入裝置的離子源。
技術介紹
1、在平板顯示器制造工序、半導體制造工序中使用的離子注入裝置以將生成離子束的離子源固定于裝置主體的方式進行組裝。以往，在進行配置于離子源內(nèi)的部件的更換作業(yè)、離子源內(nèi)部的清掃作業(yè)等的情況下，在從裝置主體卸下離子源并進行了該作業(yè)之后，再次將離子源安裝到裝置主體。這樣，作為在進行離子源相對于裝置主體的拆裝作業(yè)時使用的離子源的移動機構，已知有專利文獻1所公開的移動機構。
2、專利文獻1所公開的移動機構具備使用鏈滑車(chain?block)能夠使懸掛在鏈上的離子源在垂直方向以及水平方向上移動的懸掛機構。該移動機構構成為：將離子源的一部分懸掛到鏈上之后，驅動鏈滑車，逐漸地吊起離子源，由此能夠將離子源從倒伏姿態(tài)改變成立起姿態(tài)。另外構成為：在用鏈懸掛離子源的狀態(tài)下逐漸地放下鏈，由此將離子源從立起姿態(tài)改變成倒伏姿態(tài)。
3、在以往的離子源中，在進行離子源內(nèi)部的維護作業(yè)的情況下，例如需要使用專利文獻1所公開的移動機構，從裝置主體卸下離子源整體，在進行了規(guī)定的作業(yè)后，再次將離子源整體安裝到裝置主體。該一系列的作業(yè)隨著離子源成為大型而成為大規(guī)模，因此要求能夠更容易地進行維護作業(yè)的離子源。
4、專利文獻1：日本專利公開公報特開2019-57385號
技術實現(xiàn)思路
1、本專利技術是為了解決上述問題而完成的，其目的在于提供一種與以往比較能夠容易地進行離子源的維護作業(yè)的離子源。
2、本專利技術的離子
3、根據(jù)該構成，在電極收納部固定于裝置主體的狀態(tài)下，能夠使等離子體生成部從電極收納部脫離。因此，在進行以等離子體生成部為對象的部件更換、清掃等維護作業(yè)的情況下，只要使等離子體生成部從電極收納部脫離即可，無需從裝置主體卸下容器整體。
4、進而，由于等離子體生成部構成為以規(guī)定的軌道從電極收納部脫離，所以使等離子體生成部從電極收納部脫離的作業(yè)中的等離子體生成部的動作是確定的，確保了該作業(yè)的安全性。
5、另外，本專利技術的離子源構成為：在所述電極收納部固定于所述裝置主體的狀態(tài)下，所述等離子體生成部通過進行以與水平方向平行的規(guī)定的旋轉軸為中心的旋轉動作，由此所述等離子體生成部從所述電極收納部脫離。
6、另外，本專利技術的離子源可以構成為還具備連結部件，所述連結部件將安裝于所述裝置主體的狀態(tài)下的所述等離子體生成部的下端部與所述電極收納部的下端部連結，并且能夠使所述等離子體生成部進行所述旋轉動作。
7、另外，本專利技術的離子源可以構成還具備按壓部件，所述按壓部件通過遠程操作被驅動，在所述等離子體生成部與所述電極收納部彼此對置的狀態(tài)下對所述等離子體生成部或所述電極收納部施加按壓力，由此使所述等離子體生成部相對地接近所述電極收納部。
8、根據(jù)本專利技術的離子源，與以往相比較能夠容易地進行離子源的維護作業(yè)。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術保護點】
1.一種離子源，其特征在于，
2.根據(jù)權利要求1所述的離子源，其特征在于，
3.根據(jù)權利要求2所述的離子源，其特征在于，
4.根據(jù)權利要求2或3所述的離子源，其特征在于，
【技術特征摘要】
1.一種離子源，其特征在于，
2.根據(jù)權利要求1所述的離子源，其特征在于，
3....
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：西村一平，
申請(專利權)人：日新離子機器株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：
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