一種抗感染化合物制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)關(guān)于一些具有結(jié)構(gòu)式如(I)

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】一種抗感染化合物
這項(xiàng)專利技術(shù)涉及到小分子化合物及其在治療細(xì)菌感染的應(yīng)用，尤其是在治療肺結(jié)核領(lǐng)域的應(yīng)用。
技術(shù)介紹
目前，全世界每年有180萬(wàn)人死于肺結(jié)核。與此同時(shí)，不適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)療法已經(jīng)產(chǎn)生了越來(lái)越多的耐多藥性肺結(jié)核病菌，而且隨著耐藥性的出現(xiàn)和傳播，這種情況可能會(huì)越來(lái)越嚴(yán)重(ChaissonR.E.&NuermbergerE.L.，NEnglJMed2012)。因此，在臨床上我們迫切需要專利技術(shù)有效藥物能夠成功縮減耐多藥/廣泛耐藥肺結(jié)核的治療時(shí)間，其成功率與易感性結(jié)核匹配。幸運(yùn)的是，在最近十年已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了一些頗有前景的可用于治療肺結(jié)核的藥劑(StoverC.K.etal.Nature2000；AndreisK.etal.Science2005)，其中有一些藥物正處于臨床開(kāi)發(fā)階段(DiaconA.H.etal.AntimicrobAgentsChemother2012；GlerM.T.etal.NEnglJMed2012)。然而，考慮到臨床開(kāi)發(fā)階段較高的磨損速率和耐藥性的出現(xiàn)，研究人員迫切需要研究其他的臨床治療方案。現(xiàn)在的化學(xué)療法主要是利用藥物作用于如DNA，RNA和蛋白質(zhì)等大分子的合成，或者是作用于細(xì)胞壁的主要成分來(lái)抑制肺結(jié)核分支桿菌。目前，應(yīng)用最廣泛的抗結(jié)核藥物包括異煙肼、乙硫異煙胺和吡嗪酰胺，但是這些藥物屬于前藥，在治療過(guò)程中需要進(jìn)一步活化。這些藥物能夠有效抑制細(xì)胞壁合成或者一系列分枝桿菌目標(biāo)的活性，但是相關(guān)的研究還沒(méi)有被完全表征出來(lái)。在開(kāi)發(fā)新的肺結(jié)核治療藥物的過(guò)程中，最富有挑戰(zhàn)性的困難之一在于缺乏預(yù)測(cè)性體外篩選方法能夠準(zhǔn)確復(fù)制體內(nèi)環(huán)境特征。盡管現(xiàn)在對(duì)于肺結(jié)核細(xì)菌在人體內(nèi)的持久性背后的生物機(jī)制還缺乏生物學(xué)上的深刻理解，研究人員認(rèn)為肺結(jié)核分支桿菌費(fèi)結(jié)核分枝桿菌主要存在于原發(fā)性肉芽腫和一些其它的細(xì)胞中(Houbenetal.，2006；Neyrollesetal.，2006)。芽孢桿菌主要生存在吞噬細(xì)胞，例如巨噬細(xì)胞和樹(shù)突狀細(xì)胞內(nèi)，芽孢桿菌強(qiáng)烈改變其代謝以適應(yīng)專業(yè)吞噬細(xì)胞中的惡劣環(huán)境(Rohdeetal.，2007).據(jù)此，我們?cè)谑芊谓Y(jié)核感染的巨噬細(xì)胞中使用顯型高內(nèi)容的成像技術(shù)去識(shí)別新的抗結(jié)核藥物(WO2010003533A2)，避免了其他方法中繁瑣累贅的步驟(Arainetal.，1996)。這項(xiàng)技術(shù)相比于其它傳統(tǒng)的表型成像技術(shù)比有如下若干優(yōu)點(diǎn)：(1)克服了該研究領(lǐng)域的一項(xiàng)難題，能夠在與體內(nèi)環(huán)境類似的條件下進(jìn)行成像(StanleyS.A.etal.，ACSChemBiol2012)。(2)使用能夠有效滲透進(jìn)巨噬細(xì)胞的無(wú)毒性的化合物(PetheK.etal.NatMed.2013)。(3)使用那些不是巨噬細(xì)胞流出機(jī)制的底物的化合物，能夠縮短新分子的發(fā)現(xiàn)和優(yōu)化時(shí)間。本專利技術(shù)的一個(gè)目的是鑒定對(duì)細(xì)菌感染有效的化合物，特別是在宿主巨噬細(xì)胞內(nèi)防止結(jié)核分枝桿菌增殖的化合物。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1.要解決的問(wèn)題針對(duì)上述的問(wèn)題，本專利技術(shù)提供一種抗感染化合物，結(jié)構(gòu)如通式I～I(xiàn)V所示，這種化合物可以治療細(xì)菌感染，特別是結(jié)核病。2.技術(shù)方案為了解決上述問(wèn)題，本專利技術(shù)所采用的技術(shù)方案如下：一方面，這項(xiàng)專利技術(shù)涉及到的某些化合物分子具有I所示的分子式：其中，n1和n2獨(dú)立取值為0，1，2或者3；m的取值是0或者1；A是以下基團(tuán)中的任意一個(gè)：R1選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，羥基，-OR3，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，芳基，雜芳基和雜環(huán)基基團(tuán)，其中所述烷基，環(huán)烷基，雜芳基和雜環(huán)基都可以用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R2選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，羥基，-OR3，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-NR6C(O)Rc，-(NRd)(V)pRe，芳基，雜芳基，雜環(huán)基和下面分子式Ia所示的基團(tuán)，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都可以用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；其中，O的出現(xiàn)是獨(dú)立的，每一次出現(xiàn)時(shí)，取值包括0，1，2，或者3。p為0或者1，q為0或者1；X1是C＝O，O，S，-S(O)2-，-S(O)2NR6-，-C(O)O-，-C(O)NR6-，-NHC(O)-或者–(NR6)-；X2是CRbRc，O，S，或者NR6；Y是C1-C6的亞烷基，O，S，或者NR6。V和W各自獨(dú)立出現(xiàn),每次出現(xiàn)時(shí)，是C1-C6的亞烷基；R3選自以下基團(tuán)包括氫，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，特別是C1-C10鹵代烷基，C1-C3鹵代烷基，C1-C6醚基，C2-C10烯基，C3-C10環(huán)烯基，C2-C10炔基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都可以用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R4選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，羥基，-OR6，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R6)C(O)R6，-C(O)R6，-C(O)OR6，-C(O)NRbRc，-S(O)R6，-S(O)2R6，-S(O)2NRbRc，芳基，雜芳基和雜環(huán)基。其中所述烷基，環(huán)烷基，-OR6，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R5可能是氫，鹵素，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，羥基，-OR6，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R6)C(O)R6，-N(R6)C(O)OR6，-C(O)R6，-C(O)OR6，-C(O)NRbRc，-CHOHR6，-S(O)R6，-S(O)2R6，-S(O)2NRbRc，芳基，如苯基，芐基，雜芳基和雜環(huán)基。其中，每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R6，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均可能獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基。其中，每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；Z選取于以下基團(tuán)包括C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，-OR7，芳氧基，芳基(如苯基或者芐基)，雜芳基，雜環(huán)基(如哌啶基或者嗎啉基)和分子式Ib所示的化合物。其中，每一個(gè)所述的烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基，雜環(huán)基及分子式Ib表示的基團(tuán)都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代。其中，p為0或者1；I為1，2，或者3；X3，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均可能獨(dú)立選取于氫CH或者N；X4選自C＝O，CRbRc，O，S或者NR7。分子式Ib中的Re基團(tuán),做為同一個(gè)C原子的取代基也可以出現(xiàn)兩次，其中每一次出現(xiàn)時(shí)都獨(dú)立選取；Ra，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基，含取代芳基如苯基，芐基，或者芳氧基的C1-C4烷氧基，C1-C3的鹵代烷基烷基，羥基，C1-C3的烷基羥基，-CN，NO2，-NRbRc，-C(O)NRbRc，-ORc，-C(O)Rc，-C(O)ORc，磺酰基，亞砜基，C3-C10的環(huán)烷基，雜環(huán)基，雜芳基和芳基如苯基，芐基，烷基芳香基，其中，每一個(gè)所述的烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基，和雜環(huán)基能隨意被1-4個(gè)C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基，芳基如苯基或本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種具有分子通式I的化合物：

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】2014.06.20 US 62/015,0561.一種具有分子通式I的化合物：其中，n1和n2可獨(dú)立取值為0，1，2，or3；m值為0或1；A是下組基團(tuán)其中之一R1選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，羥基，-OR3，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，芳基，雜芳基和雜環(huán)基基團(tuán)，其中所述烷基，環(huán)烷基，雜芳基和雜環(huán)基分別都可以用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R2選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，羥基，-OR3，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-NR6C(O)Rc，-(NRd)(V)pRe，芳基，雜芳基，雜環(huán)基和下面分子式Ia所示的基團(tuán)，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都可以用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；其中，在每一次出現(xiàn)時(shí)，o可以獨(dú)立取值為0，1，2或3；p為0或1；q為0或1；X1是C＝O，O，S，-S(O)2-，-S(O)2NR6-，-C(O)O-，-C(O)NR6-，-NHC(O)-或–(NR6)-；X2選自CRbRc，O，S，或NR6；Y是C1-C6亞烷基，O，S或NR6；在每一次出現(xiàn)時(shí)，V和W均自C1-C6亞烷基中獨(dú)立選取；R3選自以下基團(tuán)包括氫，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C10鹵代烷基，特別地是C1-C3鹵代烷基，C1-C6醚基，C2-C10烯基，C3-C10環(huán)烯基，C2-C10炔基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基分別都可以用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R4選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，羥基，-OR6，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R6)C(O)R6，-C(O)R6，-C(O)OR6，-C(O)NRbRc，-S(O)R6，-S(O)2R6，-S(O)2NRbRc，芳基，雜芳基和雜環(huán)基。其中所述的烷基，環(huán)烷基，-OR6，芳基，雜芳基和雜環(huán)基分別都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R5選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，羥基，-OR6，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R6)C(O)R6，-N(R6)C(O)OR6，-C(O)R6，-C(O)OR6，-C(O)NRbRc，-CHOHR6，-S(O)R6，-S(O)2R6，-S(O)2NRbRc，芳基如苯基，芐基，雜芳基和雜環(huán)基。其中，每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R6在每一次出現(xiàn)時(shí)，均可能獨(dú)立選取于氫，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基。其中，每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；Z選自以下基團(tuán)包括C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，-OR7，芳氧基，芳基如苯基或者芐基，雜芳基，雜環(huán)基如哌啶基或者嗎啉基和下圖分子式Ib所示的化合物；其中，所述的每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基，雜環(huán)基以及分子式Ib所示的基團(tuán)都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；其中，p的取值是0或者1；I的取值是1，2或者3；X3，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均可能獨(dú)立選取于CH或者N；X4選自C＝O，CRbRc，O，S或者NR7。分子式Ib中的Re基團(tuán),做為同一個(gè)C原子的取代基也可以出現(xiàn)兩次，其中每一次出現(xiàn)時(shí)都獨(dú)立選取；Ra，在每一次出現(xiàn)時(shí)，都獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基，含取代芳基如苯基，芐基或者芳氧基的C1-C4烷氧基，C1-C3的鹵代烷基，羥基，C1-C3的烷基羥基，-CN，NO2，-NRbRc，-C(O)NRbRc，-ORc，-C(O)Rc，-C(O)ORc，磺酰基，亞砜基，C3-C10的環(huán)烷基，雜環(huán)基，雜芳基和芳基如苯基，芐基，烷基芳香基，其中，每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基，和雜環(huán)基能任意被1-4個(gè)C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基，芳基如苯基，芐基，鹵素，C1-C3的鹵代烷基，羥基，和-NH2取代；這種取代如果發(fā)生，可以有一個(gè)以上的取代基，例如一個(gè)C原子可以同時(shí)與兩個(gè)或者三個(gè)取代基相連，而這兩個(gè)或者三個(gè)取代基可以相同也可以不同；Rb和Rc，在每一次出現(xiàn)時(shí)，都獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C6的醚基，C2-C10的烯基，C1-C4的烷氧基，C1-C3的烷基羥基，C3-C10環(huán)烯基，C2-C10炔基，C1-C10鹵代烷基，尤其是C1-C3鹵代烷基，芳基如苯基或者芐基，烷基芳香基，雜芳基，和雜環(huán)基，其中，每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基團(tuán)都能被1-4個(gè)C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基如甲氧基，鹵素，芳氧基，C1-C3鹵代烷基，例如三氟甲基，羥基，C1-C3的烷基羥基，-CN，-NO2，-NH2，磺酰基，亞砜，C3-C10的環(huán)烷基，雜環(huán)基，芳基如苯基，芐基，雜芳基取代；這種取代如果發(fā)生，可以有一個(gè)以上的取代基，例如每一個(gè)C原子上有兩個(gè)或者三個(gè)取代基,而這兩個(gè)或者三個(gè)取代基可以相同也可以不同；或者，Rb和Rc彼此連接以形成4，5或6元的飽和或不飽和的環(huán)或雜環(huán)，或者它們連接形成稠環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)；Rd，在每一次出現(xiàn)時(shí)，都獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，芳基如苯基或芐基，雜芳基和雜環(huán)基，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基可以被1至4個(gè)Ra基團(tuán)取代；Re，在每一次出現(xiàn)時(shí)，都獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，羥基，-OR7，-CN，-(CH2)lR7，其中I可以是1，2，或3，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R7)C(O)R7，-C(O)R7，-C(O)OR7，-C(O)NRbRc，-S(O)R7，-S(O)2R7，-S(O)2NRbRc，芳基如苯基或芐基，雜芳基和雜環(huán)基，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基可以被1至4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R7，在每一次出現(xiàn)時(shí)，都獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，芳基如苯基或芐基，雜芳基和雜環(huán)基，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基可以被1至4個(gè)Ra基團(tuán)和藥理學(xué)上可接受的鹽取代。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，具有如下分子通式II：其中，n為0，1，2或3；m為0或1；o為0，1，2或3；X2選自CRbRc，O，S，或NR6中；Y選自C1-C6亞烷基，O，S，或NR6中；R4選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，羥基，-OR6，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R6)C(O)R6，-C(O)R6，-C(O)OR6，-C(O)NRbRc，-S(O)R6，-S(O)2R6，-S(O)2NRbRc，芳基如苯基或芐基，雜芳基和雜環(huán)基；其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R6，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均可能獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，芳基如苯基或芐基，雜芳基和雜環(huán)基；其中，每一個(gè)烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；Z選自以下基團(tuán)包括C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，-OR6，芳氧基，芳基如苯基或者芐基，雜芳基，雜環(huán)基，和分子式Ib所示的化合物；其中，每一個(gè)所述的烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基，雜環(huán)基和分子式Ib中的基團(tuán)都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；其中，p為0或者1；I為1，2或者3；X3，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均可能獨(dú)立選取于氫CH或者N；X4選自C＝O，CRbRc，O，S或者NR7；分子式Ib中的Re基團(tuán),做為同一個(gè)C原子的取代基也可以出現(xiàn)兩次，其中每一次出現(xiàn)時(shí)都獨(dú)立選取；Ra，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基，含取代芳基如苯基，芐基，或者芳氧基的C1-C4烷氧基，C1-C3的鹵代烷基烷基，羥基，C1-C3的烷基羥基，-CN，NO2，-NRbRc，-C(O)NRbRc，-ORc，-C(O)Rc，-C(O)ORc，磺酰基，亞砜基，C3-C10的環(huán)烷基，雜環(huán)基，雜芳基和芳基如苯基或芐基，烷基芳香基，其中，每一個(gè)所述的烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基，和雜環(huán)基能任意被1-4個(gè)C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基，芳基如苯基或芐基，鹵素，C1-C3的鹵代烷基，羥基，和-NH2取代。這種取代如果發(fā)生，可以有一個(gè)以上的取代基，例如一個(gè)C原子可以同時(shí)與兩個(gè)或者三個(gè)取代基相連，而這兩個(gè)或者三個(gè)取代基可以相同也可以不同；Rb和Rc，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C6的醚基，C2-C10的烯基，C1-C4的烷氧基，C1-C3的烷基羥基，C3-C10環(huán)烯基，C2-C10炔基，C1-C10鹵代烷基，尤其是C1-C3鹵代烷基，芳基如苯基或者芐基，烷基芳香基，雜芳基，和雜環(huán)基，其中，每一個(gè)所述的烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基團(tuán)都能被1-4個(gè)C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基如甲氧基，鹵素，芳氧基，C1-C3鹵代烷基例如三氟甲基，羥基，C1-C3的烷基羥基，-CN，-NO2，-NH2，磺酰基，亞砜，C3-C10的環(huán)烷基，雜環(huán)基，芳基如苯基，芐基，雜芳基取代；這種取代如果發(fā)生，可以有一個(gè)以上的取代基，例如每一個(gè)C原子可以同時(shí)與兩個(gè)或者三個(gè)取代基相連，而這兩個(gè)或者三個(gè)取代基可以相同也可以不同；或者，Rb和Rc彼此連接以形成4，5或6元的飽和或不飽和的環(huán)或雜環(huán)，或者它們連接形成稠環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)；Re，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，羥基，-OR7，-CN，-(CH2)lR7，其中I可以是1，2，或3，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R7)C(O)R7，-C(O)R7，-C(O)OR7，-C(O)NRbRc，-S(O)R7，-S(O)2R7，-S(O)2NRbRc，芳基，雜芳基和雜環(huán)基，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基可以被1至4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R7，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫,C1-C10烷基，C3-C10環(huán)烷基，C3-C10環(huán)烷基，C1-C3鹵代烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基，其中所述烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基可以被1至4個(gè)Ra基團(tuán)和藥理學(xué)上可接受的鹽取代。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，具有如下分子通式III：其中，n為0，1，2或3；m為0或1；o為0，1，2或3；q為0或1；X2選自CRbRc，O，S，或NR6；Y為C1-C6亞烷基，O，S，或NR6；W為C1-C6亞烷基；R5選自以下基團(tuán)包括氫，鹵素，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，羥基，-OR6，-CN，-NO2，-NH2，-NRbRc，-N(R6)C(O)R6，-N(R6)C(O)OR6，-C(O)R6，-C(O)OR6，-C(O)NRbRc，-CHOHR6，-S(O)R6，-S(O)2R6，-S(O)2NRbRc，芳基如苯基或芐基，雜芳基和雜環(huán)基。其中，每一個(gè)所述的烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)取代；R6，在每一次出現(xiàn)時(shí)，均獨(dú)立選取于以下基團(tuán)包括氫，C1-C10的烷基，C3-C10的環(huán)烷基，C1-C3的鹵代烷基，芳基如苯基或芐基，雜芳基和雜環(huán)基；其中，每一個(gè)所述的烷基，環(huán)烷基，芳基，雜芳基和雜環(huán)基都能用1-4個(gè)Ra基團(tuán)...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：金在昇，姜善姬，康居姬，李世密，徐姜錚，徐沐楊，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：韓國(guó)巴斯德研究所，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：韓國(guó),KR