能夠防止塵埃的產(chǎn)生。搬運(yùn)裝置是將具有載置板狀的對(duì)象物的載置平面的保持構(gòu)件經(jīng)由框體的開口部從框體的外部的第一位置向框體的內(nèi)部的第二位置搬運(yùn)的搬運(yùn)裝置，所述搬運(yùn)裝置具備：第一軌道、第二軌道、第三軌道以及第四軌道，它們沿著水平方向設(shè)置；輥，其...

在載置板狀的對(duì)象物時(shí)，對(duì)象物等不易損傷。載置裝置是將板狀的對(duì)象物水平地載置于設(shè)置有孔的保持構(gòu)件的載置平面的載置裝置，所述載置裝置具備：基臺(tái)，其以能夠沿上下方向移動(dòng)的方式設(shè)置于保持部的鉛垂方向下側(cè)；第一移動(dòng)部，其使基臺(tái)沿上下方向移動(dòng)；以及...

提供反射型掩模坯料的制造方法，所述反射型掩模坯料具有基板和層疊于所述基板的表面且反射曝光光的反射膜，在所述反射膜形成有剖面凹槽形狀的基準(zhǔn)標(biāo)記，其中，所述反射型掩模坯料的制造方法包括：輪廓加工工序，沿著所述基準(zhǔn)標(biāo)記的預(yù)定形成區(qū)域的輪廓利用...

激光退火裝置具備射出激光束的多個(gè)光束出射部，所述激光束由連續(xù)振蕩激光構(gòu)成且相對(duì)于被照射面具有長方形的光束點(diǎn)，所述激光退火裝置使所述激光束相對(duì)于在基板上成膜的非晶硅膜沿著掃描方向相對(duì)地進(jìn)行掃描，而將所述非晶硅膜的帶狀的改性預(yù)定區(qū)域晶化，其...

提供能夠提高改性為晶化用膜為止的生產(chǎn)效率且實(shí)現(xiàn)省空間化及低成本化的激光退火裝置。所述激光退火裝置具備射出脫氫化用激光束的脫氫化用光學(xué)頭，所述脫氫化用光學(xué)頭以使所述脫氫化用激光束先于所述晶化用激光束地照射所述非晶硅膜中的至少改性預(yù)定區(qū)域來...

聚焦離子束裝置具備：射束射出部，其具備聚焦離子束光學(xué)系統(tǒng)，該聚焦離子束光學(xué)系統(tǒng)對(duì)從離子源向內(nèi)部空間引出的離子束進(jìn)行調(diào)整而射出所述離子束；以及開口部，其與所述內(nèi)部空間連通，能夠使從所述射束射出部射出的離子束通過來對(duì)被處理基板進(jìn)行射束照射，...

本發(fā)明是將電子部件轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印構(gòu)件的轉(zhuǎn)印裝置，具備：第1貼附裝置部(1)，其將通過照射紫外線而粘合力下降的第1轉(zhuǎn)印構(gòu)件(T1)貼附于形成有多個(gè)電子部件的光透射性基板(S1)；第1轉(zhuǎn)印裝置部(2)，其通過將電子部件經(jīng)由激光剝離進(jìn)行剝離而轉(zhuǎn)印...

本發(fā)明的修正裝置能夠在不提高制造成本的情況下以高精度進(jìn)行定位。該修正裝置具有：第一平臺(tái)，其具有吸附基板的吸附平臺(tái)；門架，其設(shè)置在吸附平臺(tái)的上側(cè)；第二平臺(tái)，其設(shè)置在門架；頭部，其設(shè)置在第二平臺(tái)，具有修正基板的修正頭部；第一移動(dòng)部，其改變第...

本發(fā)明提供一種在表面具有絕緣層的導(dǎo)電體與其他導(dǎo)電體之間簡(jiǎn)單地制作導(dǎo)電部的制造方法。本發(fā)明通過設(shè)為如下導(dǎo)電部的制造方法來解決問題，其包括：第1工序，在表面具有絕緣層的第1導(dǎo)電體上層疊第2導(dǎo)電體；及第2工序，包括所述絕緣層在內(nèi)將所述第1導(dǎo)電...

本發(fā)明提供一種防護(hù)膜組件把持裝置，即使防護(hù)膜組件框架變形也能夠準(zhǔn)確地進(jìn)行防護(hù)膜組件框架的把持。具有：框體(10)，其為將多個(gè)棒狀構(gòu)件組合成大致矩形形狀的框狀的構(gòu)件；多個(gè)防護(hù)膜組件把持構(gòu)件(21)，其設(shè)置在框體(10)；以及驅(qū)動(dòng)部，其設(shè)置...

提供一種提高能量束通過的處理空間的真空度而使得檢查精度或處理精度高的聚焦能量束裝置。所述聚焦能量束裝置具備頭部和聚焦能量束柱狀體，在頭部的對(duì)置面上形成有中央排氣口和圍繞所述中央排氣口的外側(cè)的至少一個(gè)以上的外側(cè)排氣槽，所述聚焦能量束柱狀體...

提供一種聚焦能量束裝置，其具備：支承部，其支承被處理基板；以及聚焦能量束柱狀體，其具備差動(dòng)排氣裝置且能夠以與所述被處理基板的被處理面的任意區(qū)域?qū)?yīng)的方式進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，其中，所述支承部在將所述被處理基板水平地配置的狀態(tài)下僅支承所述被處理基...

提供一種聚焦離子束裝置，其具備差動(dòng)排氣裝置和聚焦離子束柱狀體，還具備：真空墊，其使吸入面露出以圍繞被處理基板的面方向的外側(cè)，且由多孔質(zhì)材料構(gòu)成；基板支承臺(tái)，其載置所述被處理基板和所述真空墊；以及真空泵，其對(duì)所述真空墊進(jìn)行真空吸引，當(dāng)所述...

本發(fā)明提供一種聚焦離子束裝置，其具備聚焦離子束柱狀體，所述聚焦離子束柱狀體在鏡筒中內(nèi)置有聚焦離子束光學(xué)系統(tǒng)而將聚焦離子束從所述鏡筒的前端部射出，其中，在從所述聚焦離子束光學(xué)系統(tǒng)射出的所述聚焦離子束的去路的附近配置有向被處理基板的表面供給...

加工裝置具備：差動(dòng)排氣裝置，其在頭部中的與被處理基板對(duì)置的面形成有多個(gè)環(huán)狀槽，該多個(gè)環(huán)狀槽圍繞所述頭部的中心，在比所述多個(gè)環(huán)狀槽中的最內(nèi)側(cè)的所述環(huán)狀槽靠?jī)?nèi)側(cè)的區(qū)域設(shè)置有開口部，該開口部形成能夠?qū)λ霰惶幚砻孢M(jìn)行處理的處理用空間，在多個(gè)所...

差動(dòng)排氣裝置將處理用空間設(shè)為高真空度，其中，所述差動(dòng)排氣裝置具備：位移驅(qū)動(dòng)部，其能夠使頭部或被處理基板進(jìn)行位移來調(diào)整被處理面與所述頭部的對(duì)置面的平行度及距離；間隙測(cè)定部，其沿著所述頭部的所述對(duì)置面的周緣分別配置在至少三個(gè)部位以上，能夠檢...

提供一種蒸鍍掩模用框架，該蒸鍍掩模用框架輕量并具有高剛性，且抑制脫氣的產(chǎn)生。一個(gè)實(shí)施方式的蒸鍍掩模用框架(50)具備構(gòu)成為保持蒸鍍掩模的框架主體(51)。框架主體是基材以及強(qiáng)化材料均由無機(jī)固體材料構(gòu)成的復(fù)合材料。及強(qiáng)化材料均由無機(jī)固體材...

透鏡陣列(50)具備透鏡板(51)和多個(gè)透鏡(52)。透鏡板(51)具有固定有透鏡(52)的透鏡區(qū)域(53)和未固定有透鏡(52)的非透鏡區(qū)域(54)。另外，在固定有LED(25)的基板(24)上具有固定有LED(25)的LED區(qū)域(2...

本發(fā)明公開一種基板保持裝置，在將基板向基準(zhǔn)面按壓時(shí)，能夠使基板整體朝向基準(zhǔn)面順暢移動(dòng)。將大致板狀的基板沿著大致鉛垂方向保持的基板保持裝置中，基板的配置于鉛垂方向下側(cè)的下端面所抵接的多個(gè)保持塊具有與基板的下端面抵接的上側(cè)塊和設(shè)置于上側(cè)塊的...

激光退火裝置使CW激光相對(duì)于非晶硅膜沿固定方向進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，使非晶硅膜進(jìn)行橫向晶體生長來形成晶化硅膜，其中，光學(xué)系統(tǒng)具備：光束整形部，其將CW激光整形為形成聚光環(huán)的激光束；以及光束分割部，其具有反射面，該反射面將整形后的環(huán)狀的激光束分割...