提供一種光照射裝置等，不需將照射光線的光照射部傾斜，而可以使膜帶生成光對準。本發(fā)明的一實施形態(tài)之中的光照射裝置是包含對膜帶照射偏光光線的光照射裝置、及多個的運送裝置，被設置在對膜帶的偏光光線的照射位置的前后，用于運送膜帶，其中可以改變多...

提供一種激光照射裝置、投影遮罩及激光照射方法，透過降低對通道區(qū)域所照射的激光的特性的偏差，而降低所形成的多晶硅薄膜的變異，以便能夠抑制基板之中所包含的多個的薄膜晶體管的特性的變異。本發(fā)明的一實施形態(tài)之中的激光照射裝置是具備產(chǎn)生激光的光源...

能夠在使光學裝置上下移動時防止光軸的抖動。在框體形成有在大致鉛垂方向上貫通的圓孔，大致薄板狀并且俯視呈大致圓板形狀的引導構件(70)以覆蓋圓孔的方式設置于所述框體。形成于引導構件(70)的大致中央的安裝孔(74)配置為與圓孔大致同心的圓...

積分器部(90)具備2枚復眼透鏡(91、92)，復眼透鏡間隔調(diào)整機構(95)變更2枚復眼透鏡(91、92)在光軸方向上的間隔(d)。根據(jù)由反射鏡彎曲機構(70)實現(xiàn)的平面反射鏡(68)的反射面的形狀變更，來變更2枚復眼透鏡(91、92)...

算出與進行退火的處理區(qū)域接近的未被照射激光的非處理區(qū)域的層疊結(jié)構的各構成膜的膜厚計算值，通過處理區(qū)域的第二分光譜測量值與根據(jù)膜厚計算值而計算的第二分光譜計算值的擬合，算出處理區(qū)域的結(jié)晶化水平，調(diào)整對于下次進行激光退火處理的TFT基板照射...

本發(fā)明的一實施方式的激光照射裝置的特征在于，具備：光源，其產(chǎn)生激光；投影透鏡，其向被覆于基板上的非晶硅薄膜的規(guī)定的區(qū)域照射所述激光；及投影掩模圖案，其設置在所述投影透鏡上，并設有多個開口部以對于所述非晶硅薄膜的規(guī)定的區(qū)域照射所述激光，所...

本發(fā)明提供一種能夠提高吞吐量并能夠小型化的研磨裝置。頭清洗部(7)設置在晶圓交接區(qū)域(5)的下方，具備：從裝載/卸載區(qū)域(4)向晶圓交接區(qū)域(5)搬運晶圓(W)的、在裝載/卸載區(qū)域(4)與晶圓交接區(qū)域(5)之間進行往復移動的裝載板；從晶...

本發(fā)明的一實施方式的激光照射裝置的特征在于，具備：光源，其產(chǎn)生激光；投影透鏡，其向粘附于基板的非晶硅薄膜的規(guī)定的區(qū)域照射所述激光；及投影掩模圖案，其配置在所述投影透鏡上，包含使所述激光以規(guī)定的投影圖案透過的長方形形狀的透過區(qū)域，所述長方...

能夠進行高精度的描繪。通過讀取部，對描繪了包含被排列成二維狀的多個十字位置的修正用基板圖案的修正用基板，在初始狀態(tài)、從所述初始狀態(tài)旋轉(zhuǎn)了大致90度、大致180度以及大致270度的狀態(tài)的每一個狀態(tài)下，進行讀取，并根據(jù)該讀取的結(jié)果來制作對描...

本發(fā)明的一個實施方式的激光照射裝置的特征在于，具備：光源，其產(chǎn)生激光；投影透鏡，其向被覆于基板上的非晶硅薄膜的規(guī)定的區(qū)域照射激光；及投影掩模圖案，其設置在投影透鏡上，并設有多個開口部以對于非晶硅薄膜的規(guī)定的區(qū)域照射激光，投影透鏡經(jīng)由投影...

一種用于體現(xiàn)預傾角而進行傾斜曝光的光取向用曝光裝置，其能夠使用廉價的散射光源即體積光源，并且以緊湊的方式獲得均勻的照度分布。通過對被照射面向一個方向進行掃描曝光來進行光取向處理的光取向用曝光裝置(1)，其具備：光源(2)，朝向被照射面(...

本發(fā)明的一方案的激光退火裝置具備：光源，其產(chǎn)生激光；復眼透鏡，其用于使激光的強度分布均勻；投影掩模，其遮蔽通過了復眼透鏡的激光；及投影透鏡，其由通過了投影掩模的激光形成向基板的規(guī)定的范圍照射的激光束，為了抑制干涉條紋通過投影掩模而產(chǎn)生的...

本發(fā)明的一實施方式的激光照射裝置的特征在于，具備：光源，其產(chǎn)生激光；及投影透鏡，其對于基板上被覆的非晶硅薄膜的規(guī)定的區(qū)域照射該激光，該投影透鏡包括：第一投影透鏡，其對于該規(guī)定的區(qū)域中的與薄膜晶體管的溝道區(qū)域?qū)牡谝粎^(qū)域照射該激光；及第...

在掃描曝光中能夠求出形成有標記的部件與未形成標記的部件的位置關系。曝光裝置使掩模保持部(20)在第一方向上移動并進行曝光，在掩模保持部(20)的與第一方向大致正交的側(cè)面(20d)設置有模板(25)。在從光照射部朝向模板(25)照射光時，...

本發(fā)明是一種全彩LED顯示面板，具備：LED陣列基板(1)，其在配線基板(4)上以矩陣狀配置有放射紫外至藍色波段的光的多個LED(3)；以及多個熒光發(fā)光層(5)，其對應于光三原色而排列設置在多個上述LED(3)上，由從該LED(3)放射...

本發(fā)明能夠一次性地對大型的工件進行曝光處理。長度方向與對象物的搬運方向大致正交的第一燈及第二燈在搬運方向及作為與搬運方向大致正交的方向的正交方向上錯開配置，在正交方向上，第一燈的第一端部與第二燈重疊，第二燈的第二端部與第一燈重疊。在俯視...

本發(fā)明提供將芯片零件可靠地轉(zhuǎn)印到驅(qū)動電路基板的所期望的位置、像素配置的精度較高且制造成品率較高的顯示裝置的制造方法。具備以下工序：使具備各向異性導電膜(7)的驅(qū)動電路基板(6)與轉(zhuǎn)印了芯片零件(3)的轉(zhuǎn)印用基板(5)接近，從而使各向異性...

能夠提高TFT對折彎、卷繞等外力的耐久性并防止基板的破裂、缺損。在撓性基板(20)，在與設置有薄膜晶體管的第一表面相反的一側(cè)的第二表面形成有凹部(23)，從與第一表面大致正交的第一方向觀察，凹部(23)配置于不與薄膜晶體管重疊的位置。

本發(fā)明具備：LED陣列基板(1)，其在基板上以矩陣狀配置有放射紫外至藍色波段的光的多個LED(3)；多個熒光發(fā)光層(5)，其對應于光三原色而排列設置在多個上述LED(3)上，由從該LED(3)放射的激發(fā)光激發(fā)而將該激發(fā)光分別波長轉(zhuǎn)換為對...

高壓放電燈(1)具備：發(fā)光管(10)；反射器(20)，該反射器具有環(huán)繞發(fā)光管(10)的長軸線形成的球面狀或非球面狀的反射面(22)以及能夠供發(fā)光管(10)具有間隙(s)地插入的插入孔(23)；絕緣子(30)，該絕緣子將發(fā)光管(10)以及...