本發明專利技術涉及一種三組分低共熔型離子液體及其制備方法，其組成為ILX、MH和HBD，其中ILX為以負一價鹵素為陰離子的離子液體，MH為過渡金屬鹵素鹽，HBD為多氫鍵化合物。制備方法為：將ILX、MH與HBD按摩爾比1:1:n，其中n=0.5～4，混合均勻，加熱到100～140℃后，保持2～4h至混合物完全熔解，即得。本發明專利技術的離子液體，熔點極低，粘度小，電導率高，溶解性能好，并由于其具有Lewis酸性和催化性能，可以廣泛應用于有機合成反應，納米及介孔材料制備，以及氣體吸收等；制備工藝簡單，原料易得，成本低，而且在反應過程中不使用有機溶劑，也不會排放出有毒物質，無副產物，可生物降解，適于工業化生產。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于離子液體及其制備領域，特別涉及。
技術介紹
離子液體是近年來在綠色化學的框架下發展起來的全新的介質與軟功能材料。由于其蒸氣壓低，熱穩定性好，電 導率高，及在較長的溫度范圍內能保持液體狀態等優點，在分離萃取、催化、光物理學、磁學等領域受到廣泛關注。離子液體一般是指在室溫或低于100°C下呈現液態的完全由離子組成的物質，傳統的是由有機陽離子和無機陰離子組成。近年來還出現一些由中性分子與離子化合物混合，也可以形成具有離子液體性質的低共熔體系，被稱為低共熔溶劑(Deep Eutectic Solvents),由于它們在室溫下是液體,并具有離子液體的性質，因此也被稱為一種新型的離子液體。影響低共熔型離子液體熔點的一個重要因素是陰陽離子之間的庫侖作用力。當陰陽離子電荷密度較低且離子體積相差較大時，離子間的距離增加，并且離子不能形成有效堆積，或者陰陽離子中有能形成強烈氫鍵的組分存在，從而有利于降低離子化合物的熔點，有可能形成離子液體。大多數情況下，新的功能離子液體的設計是將功能基團引入到陽離子部分，但這一般會使化合物的粘度升高很多，而陰離子的功能化研究的較少。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是提供，該專利技術方法是一種環境友好、適于大規模工業化生產的離子液體的制備方法；制備工藝簡單，原料易得，成本低，而且在反應過程中不使用有機溶劑，也不會排放出有毒物質，無副產物，可生物降解。本專利技術的一種三組分低共熔型離子液體，其特征在于:組成為ILX、MH和HBD，其中ILX為以負一價鹵素為陰離子的離子液體;MH為過渡金屬鹵素鹽，HBD為多氫鍵化合物，ILX、MH與HBD三者的摩爾比為l:l:n，n=0.5 4。所述離子液體ILX的結構由如下結構式表示:權利要求1.一種三組分低共熔型離子液體，其特征在于:其組成為ILX、MH和HBD，其中ILX為以負一價鹵素為陰離子的離子液體;MH為過渡金屬鹵素鹽，HBD為多氫鍵化合物，ILX、MH與HBD三者的摩爾比為l:l:n，n=0.5-4。2.根據權利要求1所述的一種三組分低共熔型離子液體，其特征在于:所述離子液體ILX的結構由如下結構式表示:3.根據權利要求1所述的一種三組分低共熔型離子液體，其特征在于:所述過渡金屬鹵素鹽MH為氯化鋅、溴化鋅、氯化銅、溴化銅、氯化鎳、溴化鎳、氯化鈷、溴化鈷、三氯化鐵、三溴化鐵、二氯化鐵、二溴化鐵、氯化錳、溴化錳中的一種或幾種。4.根據權利要求1所述的一種三組分低共熔型離子液體，其特征在于:所述多氫鍵化合物HBD為乙酰胺、N-甲基脲、N，N’ - 二甲基脲、N，N-二甲基脲、尿素、硫脲、己內酰胺、苯甲酰胺、三氟乙酰胺、乙二 醇、甘油、木糖醇、山梨醇、鄰苯二酚、間苯二酚、草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、馬來酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、丁四酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸中的一種或幾種。5.—種三組分低共熔型離子液體的制備方法，包括: 將離子液體ILX、過渡金屬鹵素鹽MH與多氫鍵化合物HBD按摩爾比l:l:n，其中n=0.5 4，混合均勻，加熱到100 140°C后，保持2 4h，即得三組分低共熔型離子液體。6.根據權利要求1所述的一種三組分低共熔型離子液體的應用，其特征在于:所述三組分低共熔型離子液體應用于電化學電池、超級電容器、納米材料的合成、介孔材料的合成、天然纖維的溶解、催化合成以及氣體吸收。全文摘要本專利技術涉及，其組成為ILX、MH和HBD，其中ILX為以負一價鹵素為陰離子的離子液體，MH為過渡金屬鹵素鹽，HBD為多氫鍵化合物。制備方法為將ILX、MH與HBD按摩爾比1:1:n，其中n=0.5～4，混合均勻，加熱到100～140℃后，保持2～4h至混合物完全熔解，即得。本專利技術的離子液體，熔點極低，粘度小，電導率高，溶解性能好，并由于其具有Lewis酸性和催化性能，可以廣泛應用于有機合成反應，納米及介孔材料制備，以及氣體吸收等；制備工藝簡單，原料易得，成本低，而且在反應過程中不使用有機溶劑，也不會排放出有毒物質，無副產物，可生物降解，適于工業化生產。文檔編號C07C275/06GK103193711SQ20131011978公開日2013年7月10日 申請日期2013年4月8日 優先權日2013年4月8日專利技術者邢彥軍, 劉玉婷, 戴瑾瑾 申請人:東華大學本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種三組分低共熔型離子液體，其特征在于：其組成為ILX、MH和HBD，其中ILX為以負一價鹵素為陰離子的離子液體；MH為過渡金屬鹵素鹽，HBD為多氫鍵化合物，ILX、MH與HBD三者的摩爾比為1:1:n，n=0.5?4。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：邢彥軍，劉玉婷，戴瑾瑾，
申請(專利權)人：東華大學，
類型：發明
國別省市：
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