光學觸控結構及其制作方法技術

本發明專利技術公開一種光學觸控結構及其制作方法，光學觸控結構包括一透明基材以及一透明光學堆疊層。透明基材具有一上表面。透明光學堆疊層配置于透明基材的上表面上且暴露出部分上表面。透明光學堆疊層是由至少一第一透明光學層與至少一第二透明光學層堆疊而成。第一透明光學層的折射率大于第二透明光學層的折射率。透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有一粗糙表面。當一紅外光入射至透明光學堆疊層時，透明光學堆疊層反射紅外光，而粗糙表面散射紅外光。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術是有關于ー種觸控結構及其制作方法，且特別是有關于ー種。
技術介紹
現今一般的觸控裝置設計大致可區分為電阻式、電容式、光學式、聲波式及電磁式等。以光學式觸控顯示裝置而言，一般通常包含顯示器、紅外光源、觸控結構、感測器及處理器。顯示器包含背光模塊與顯示面板，而其中一種觸控結構是由一透明基板、多個印刷在透明基板上的白色無機顆粒以及ー覆蓋透明基板及這些白色無機顆粒的保護層所組成。觸控結構設置于顯示面板前方，用來反射及散射紅外光，而紅外光源設置于ー觸控物體(一般常稱為光筆)內，用來產生紅外光。當紅外光源所產生的紅外光通過觸控結構時，會被透明基材與空氣的界面反射，或被白色無機顆粒反射，或被白色無機顆粒散射。這些反射或散射的紅外光被同樣設置于觸控物體內的感測器所偵測。當觸控物體接觸觸控結構并且在觸控結構的表面移動時，處理器根據感測器所感測到的紅外光強度與影像變化來判斷觸碰點的位置與觸碰點的移動。然而，由于白色無機顆粒本身非透明，意即不具有穿透性，因此會遮蔽部分光線，而使得顯示器所顯示的影像的亮度降低。再者，白色無機顆粒除了會反射及散射紅外光之夕卜，也會反射及散射顯示器所發出的光和外界的環境光，而使得影像有白霧化的現象，進而降低影像的對比度與清晰度。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供ー種光學觸控結構，其具有可讓可見光穿透且能反射及散射紅外光的透明光學堆疊層。本專利技術的目的在于提供ー種光學觸控結構的制作方法，用以制作上述的光學觸控結構。為達上述目的，本專利技術提出ー種光學觸控結構，其包括一透明基材以及一透明光學堆疊層。透明基材具有一上表面。透明光學堆疊層配置于透明基材的上表面上且暴露出部分上表面。透明光學堆疊層是由至少ー第一透明光學層與至少ー第二透明光學層堆疊而成。第一透明光學層的折射率大于第二透明光學層的折射率。透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有ー粗糙表面。當一紅外光入射至透明光學堆疊層時，透明光學堆疊層反射紅外光，而粗糙表面散射紅外光。本專利技術還提出ー種光學觸控結構的制作方法，其包括以下步驟。提供一透明基材。透明基材具有一上表面。形成一透明光學堆疊層于透明基材的上表面上。透明光學堆疊層是由至少ー第一透明光學層與至少ー第二透明光學層堆疊而成。第一透明光學層的折射率大于第二透明光學層的折射率。透明光學堆疊層暴露出透明基材的部分上表面，而透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有ー粗糙表面。當一紅外光入射至透明光學堆疊層吋，透明光學堆疊層反射紅外光，而粗糙表面散射紅外光。基于上述，由于本專利技術的光學觸控結構具有可讓可見光穿透且能反射及散射紅外光的透明光學堆疊層，因此后續將本專利技術的光學觸控結構應用于例如是顯示器上時，可有效提升顯示器的光的穿透率，并且可避免影像白霧化的情形產生。為讓本專利技術的上述特征和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附附圖作詳細說明如下。附圖說明圖1A至圖1D為本專利技術的一實施例的ー種光學觸控結構的制作方法的剖面示意圖。圖1E為紅外光由圖1D的透明基材側入射至透明光學堆疊層的示意圖。圖2A至圖2C為本專利技術的另ー實施例的ー種光學觸控結構的制作方法的剖面示意圖。主要元件符號說明100、100’:光學觸控結構110:透明基材112:上表面120、120’:透明光學堆疊層122、122’:第一透明光學層122a、122b:第一透明材料層124、124’:第二透明光學層124a、124b:第二透明材料層125、125’:粗糙表面130:圖案化膜層132:頂面L1、LI’:入射光L2、L2’:反射光L3、L3’:散射光具體實施例方式圖1A至圖1D為本專利技術的一實施例的ー種光學觸控結構的制作方法的剖面示意圖。請先參考圖1A，依照本實施例的光學觸控結構的制作方法，首先，提供一透明基材110，其中透明基材110具有一上表面112。在本實施例中，透明基材110的材質例如是玻璃、塑膠或其他具有高穿透性的材質。接著，請參考圖1B，以真空鍍膜方式于透明基材110的上表面112上形成堆疊的至少ー第一透明材料層122a(圖1B中示意地繪示兩層)與至少ー第二透明材料層124a(圖1B中示意地繪示兩層)，其中第二透明材料層124a完全覆蓋透明基材110的上表面112，而第一透明材料層122a則完全覆蓋第二透明材料層124a，且第一透明材料層122a與第二透明材料層124a彼此堆疊且共形設置。在本實施例中，第一透明材料層122a為一高折射率的透明材料層，而第二透明材料層124a為ー低折射率的透明材料層。之后，請參考圖1C，形成最外層的第二透明材料層124a，并對最外層的第二透明材料層124a進行ー表面處理，以形成一粗糙表面125，粗糙表面125的中心線平均粗糙度(Ra)例如是大于等于0.03微米。于此，表面處理的方法包括表面微蝕、大氣壓等離子體(atomspheric plasma)成膜法或氧化物顆粒涂布法。在此須強調的是，本專利技術并不限定第一透明材料層122a與第二透明材料層124a的形成順序，雖然此處所提及的第一透明材料層122a與第二透明材料層124a的具體化形成順序為先形成第二透明材料層124a于透明基材110上。但其他未繪示的實施例中，與透明基材110的上表面112直接接觸的材料(也就是堆疊的最內層材料)也可為第一透明材料層122a，且堆疊于最外層的材料也可以是第一透明材料層122a。也就是說，也可以是第一透明材料層122a具有ー粗糙表面，在此并不加以限制。簡言之，與透明基材110的上表面112直接接觸的可以是第一透明材料層122a或第二透明材料層124a，并且堆疊于最外層的材料也可以是第一透明材料層122a或第二透明材料層124a。同時，也可依據使用需求自行調整每一第一透明材料層122a的厚度與每ー第二透明材料層124a的厚度，在此并不加以限制。一般而言，每ー第一透明材料層122a的厚度與每ー第二透明材料層124a的厚度是介于例如是10納米(nm)至200納米之間。最后，請參考圖1D，對第一透明材料層122a與第二透明材料層124a進行ー圖案化步驟，以形成交互堆疊第一透明光學層122與第二透明光學層124，而構成具有粗糙表面125的透明光學堆疊層120。其中，圖案化步驟例如是蝕刻法。至此，已形成透明光學堆疊層120于透明基材110的上表面112上，且暴露出透明基材110的部分上表面112。更具體來說，透明光學堆疊層120是由第一透明光學層122與第二透明光學層124交互堆疊所構成。透明光學堆疊層120適于讓一可見光穿透且具有ー粗糙表面125，且當ー紅外光入射(即入射光LI)至透明光學堆疊層120時，透明光學堆疊層120適于反射紅外光(即反射光L2),而粗糙表面125適于散射紅外光(即散射光L3),其中紅外光的波長范圍大于等于800納米。特別是，第一透明光學層122的折射率大于第二透明光學層124的折射率。于此，第一透明光學層122的折射率與第二透明光學層124的折射率的差大于等于0.4，其中第一透明光學層122的折射率介于2.0至2.5之間，而第二透明光學層124的折射率介于1.4至1.6之間。第一透明光學層122的材質例如是五氧化ニ鈮(Nb2O5)、五氧化ニ鉭(Ta2O5)、ニ氧化鈦(TiO2)、硫化鋅(ZnS)或ニ本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種光學觸控結構，包括：透明基材，具有上表面；以及透明光學堆疊層，配置于該透明基材的該上表面上且暴露出部分該上表面，該透明光學堆疊層是由至少一第一透明光學層與至少一第二透明光學層堆疊而成，且該第一透明光學層的折射率大于該第二透明光學層的折射率，其中該透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有一粗糙表面，當一紅外光入射至該透明光學堆疊層時，該透明光學堆疊層反射該紅外光，而該粗糙表面散射該紅外光。

【技術特征摘要】
2011.10.28 TW 100139400;2012.01.05 TW 1011004711.一種光學觸控結構，包括: 透明基材，具有上表面；以及 透明光學堆疊層，配置于該透明基材的該上表面上且暴露出部分該上表面，該透明光學堆疊層是由至少ー第一透明光學層與至少ー第二透明光學層堆疊而成，且該第一透明光學層的折射率大于該第二透明光學層的折射率，其中該透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有ー粗糙表面，當一紅外光入射至該透明光學堆疊層時，該透明光學堆疊層反射該紅外光，而該粗糙表面散射該紅外光。2.按權利要求1所述的光學觸控結構，其中該透明基材的材質包括玻璃或塑膠。3.按權利要求1所述的光學觸控結構，其中該第一透明光學層的折射率與該第二透明光學層的折射率的差大于等于0.4。4.按權利要求3所述的光學觸控結構，其中該第一透明光學層的折射率介于2.0至2.5之間。5.按權利要求3所述的光學觸控結構，其中該第二透明光學層的折射率介于1.4至1.6之間。6.按權利要求1所述的光學觸控結構，其中該第一透明光學層的材質包括五氧化ニ鈮(Nb2O5)、五氧化ニ鉭(Ta2O5)、ニ氧化鈦(TiO2)、硫化鋅(ZnS)或ニ氧化鋯(ZrO2)。7.按權利要求1所述的光學觸控結構，其中該第二透明光學層的材質包括ニ氧化硅(SiO2)。8.按權利要求1所述的光學觸控結構，其中該粗糙表面的中心線平均粗糙度大于等于0.03微米。9.一種光學觸控結構的制作方法，包括: 提供一透明基材，該透明基材具有上表面；以及 形成一透明光學堆疊層于該透明基材的該上表面上，該透明光學堆疊層是由至少ー第一透明光學層與至少ー第二透明光學層堆疊而成，且該第一透明光學層的折射率大于該第ニ透明光學層的折射率，其中該透明光學堆疊層暴露出該透明基材的部分該上表面，而該透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有ー粗糙表面，當一紅外光入射至該透明光學堆疊層時，該透明光學堆疊層反射該紅外光，而該粗糙表面散射該紅外光。10.按權利要求9所述的光學觸控結構的制作方法，其中形成該透明光學堆疊層的步驟，包括: 以真空鍍膜方式于該透明基材的該上表面上形成堆疊的至少ー第一透明材料層與至少ー第二透明材料層，其中該第一透明材料層或該第二透明材料層完全覆蓋該透明基材的該上表面，而該第一透明材料層...

【專利技術屬性】
技術研發人員：楊明輝，
申請(專利權)人：旭德科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：