本發(fā)明專利技術(shù)是一種測(cè)定物體位置的方法，包括分別偵測(cè)發(fā)光模塊由基準(zhǔn)點(diǎn)發(fā)出的光線分別被長(zhǎng)條狀呈“L”型的反射鏡及回射器反射及回射而得到的第一信號(hào)及第二信號(hào)；處理該第一信號(hào)及該第二信號(hào)，得到被物體直接阻擋或間接阻擋由基準(zhǔn)點(diǎn)發(fā)出的光線分別與第一反射單元及第二反射單元之間的多個(gè)角度A1及多個(gè)角度A2；依據(jù)多個(gè)角度A1分別與每一個(gè)角度A2的組合分別轉(zhuǎn)換得到多個(gè)坐標(biāo)；然后比對(duì)該多個(gè)坐標(biāo)，由該多個(gè)坐標(biāo)中選出至少有兩個(gè)坐標(biāo)值相同的坐標(biāo)，以確認(rèn)物體在工作區(qū)的相對(duì)坐標(biāo)，可以同時(shí)測(cè)定多個(gè)物體的位置，方便進(jìn)行多點(diǎn)觸控，并且可以測(cè)定被阻擋的物體的坐標(biāo)。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)是有關(guān)，尤其是有關(guān)提供觸控裝置使用測(cè)定觸控位置的裝置及方法。
技術(shù)介紹
有一些觸控裝置通過(guò)偵測(cè)一物體的坐標(biāo)，作為對(duì)應(yīng)的文字、圖案、符號(hào)的輸入信息，或作為交互式電子游戲機(jī)的輸入信息。美國(guó)專利US 4，762，990，揭示一種測(cè)定物體位置的數(shù)據(jù)處理輸入接口(Dataprocessing input interface determining position of object)包括:一物體位于一被反射單元圍繞于邊界周圍的工作區(qū)；一掃描光線的光源，使掃描光線從起始掃描的位置掃描操工作區(qū)；一測(cè)定物體在工作區(qū)的位置的工具，測(cè)量掃描光線經(jīng)由圍繞于周圍的反射單元照射到物體及掃描光線直接照射到物體時(shí)，掃描光線從起始位置算起的旋轉(zhuǎn)角度，以測(cè)定物體在工作區(qū)的位置。中國(guó)臺(tái)灣公開專利第201104533號(hào)，揭示一種具備多點(diǎn)觸控功能的觸控輸入裝置，提供一觸控面板以供輸入至少一觸控點(diǎn)，至少一光源環(huán)繞觸控面板以提供偵測(cè)光束，多個(gè)成像系統(tǒng)配置于觸控面板的兩相鄰頂點(diǎn)以偵測(cè)觸控點(diǎn)的遮蔽光束角度，并且這些多個(gè)成像系統(tǒng)具備一第一空間視角及一第二空間視角，并根據(jù)不同空間視角所偵測(cè)到的觸控點(diǎn)的遮蔽光束角度進(jìn)行計(jì)算判斷這些遮蔽光束角度相對(duì)應(yīng)的觸控點(diǎn)，最后利用簡(jiǎn)單的三角函數(shù)即可計(jì)算獲得觸控點(diǎn)的觸控坐標(biāo)值。當(dāng)兩物體與掃描光線在同一直在線，一物體阻擋另一物體時(shí)，上述臺(tái)灣專利及美國(guó)專利揭示的技術(shù)將無(wú)法偵測(cè)到被阻擋的另一物體的坐標(biāo)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
為了進(jìn)一步改良現(xiàn)有測(cè)定物體位置的的技術(shù)，本專利技術(shù)的目的是提出一種。本專利技術(shù)的主要目的，在提供一種，用于偵測(cè)物體在一工作區(qū)的坐標(biāo)；該工作區(qū)被一長(zhǎng)條狀呈“L”型的混合式反射單元及長(zhǎng)條型的第一反射單元及第二反射單元圍繞；混合式反射單元包括反射鏡及回射器所組成；利用光偵測(cè)單元分別偵測(cè)發(fā)光模塊由基準(zhǔn)點(diǎn)的位置發(fā)出的光線分別被反射鏡反射及被回射器回射而得到的第一信號(hào)及第二信號(hào)，第一信號(hào)包含多個(gè)對(duì)應(yīng)于物體的第一弱信號(hào)，第二信號(hào)包含至少一個(gè)對(duì)應(yīng)于該物體的第二弱信號(hào)；利用信號(hào)處理單元處理該第一信號(hào)及該第二信號(hào)，得到被物體阻擋直接或間接阻擋由基準(zhǔn)點(diǎn)發(fā)出的光線分別與第一反射單元及第二反射單元之間的對(duì)應(yīng)于第一弱信號(hào)的多個(gè)角度Al及對(duì)應(yīng)于第二弱信號(hào)的多個(gè)角度A2 ;利用微處理器依據(jù)多個(gè)角度Al分別與每一個(gè)角度A2的組合分別轉(zhuǎn)換得到多個(gè)坐標(biāo)；然后比對(duì)該多個(gè)坐標(biāo)，由該多個(gè)坐標(biāo)中選出至少有兩個(gè)坐標(biāo)值相同的坐標(biāo)，以確認(rèn)物體在工作區(qū)的相對(duì)坐標(biāo)，即使離基準(zhǔn)點(diǎn)較遠(yuǎn)的物體被離基準(zhǔn)點(diǎn)較近的物體阻擋時(shí)，也能測(cè)定離基準(zhǔn)點(diǎn)較遠(yuǎn)的物體的坐標(biāo)。本專利技術(shù)的另一目的，在提供一種，可以同時(shí)測(cè)定多個(gè)物體的位置，方便進(jìn)行多點(diǎn)觸控。附圖說(shuō)明圖1為本專利技術(shù)測(cè)定物體位置的裝置第一實(shí)施例的示意圖。圖2為本專利技術(shù)第一信號(hào)及第二信號(hào)的示意圖。圖3為本專利技術(shù)測(cè)定物體位置的裝置第二實(shí)施例的示意圖。圖4為本專利技術(shù)測(cè)定物體位置的方法的流程圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明1、2測(cè)定物體位置的裝置，11、51發(fā)光模塊，12光偵測(cè)單兀，13混合式反射單元，131反射鏡，132回射器，14 第一反射單元，15第二反射單元，16信號(hào)處理單元，17微處理器，20工作區(qū)，30 第一信號(hào)，31、311、312、313、321、322、323、33 第一弱信號(hào)，40第二信號(hào)，41、42第二弱信號(hào)，Lll、L12、L13、L14、L21、L22、L23、L31、L32、L33、L34 光線，穿透孔510，511掃描機(jī)構(gòu)，512掃描鏡，513具有穿透孔的反射鏡或半反射鏡，514 光源，P1、P2、P3 物體， O 基準(zhǔn)點(diǎn)，(I)、⑵、(3)、(4)分別為本專利技術(shù)流程的步驟編號(hào)。具體實(shí)施例方式本專利技術(shù)的其它目的、功效，請(qǐng)參閱圖式及實(shí)施例，詳細(xì)說(shuō)明如下。如圖1所示，本專利技術(shù)第一實(shí)施例的測(cè)定物體位置的裝置1，包括一發(fā)光模塊11、一光偵測(cè)單元12、一混合式反射單元13、第一反射單元14、第二反射單元15、信號(hào)處理單元16及微處理器17所組成。本實(shí)施例的發(fā)光模塊11包括LED光源或激光光源。光偵測(cè)單兀12為一攝影機(jī)。混合式反射單元13包括分別為長(zhǎng)條狀呈“L”型的反射鏡131及回射器(RetiOreflector) 132所組成，回射器132置于反射鏡131的上方，如圖2所示，回反射器132可將光線以接近入射方向反射回去。第一反射單元14、第二反射單元15分別為長(zhǎng)條狀的回射器；信號(hào)處理單元16具有影像處理功能，分別電氣連接光偵測(cè)單元12及微處理器17。光偵測(cè)單元12位于發(fā)光模塊11的上方或下方。混合式反射單元13、第一反射單元14及第二反射單元15圍成一個(gè)接近矩形的工作區(qū)20 ;第一反射單元14及第二反射單元15分別位于混合式反射單元13的兩側(cè)端。第一反射單元14及第二反射單元15的接觸點(diǎn)為工作區(qū)20 —角被設(shè)為基準(zhǔn)點(diǎn)O。工作區(qū)20可以是一觸控裝置的觸控區(qū)。發(fā)光模塊11位于基準(zhǔn)點(diǎn)O正下方或正下方接近基準(zhǔn)點(diǎn)的位置；混合式反射單元13位于發(fā)光模塊11的相對(duì)方；第一反射單兀14及第二反射單兀15分別位于發(fā)光模塊11的兩側(cè)方。從基準(zhǔn)點(diǎn)O分別到混合式反射單元13的兩側(cè)端的長(zhǎng)度的兩倍分別被設(shè)為長(zhǎng)度Dl及長(zhǎng)度D2 ;也就是長(zhǎng)度Dl是第一反射單元14的長(zhǎng)度的兩倍；長(zhǎng)度D2是第二反射單元15的長(zhǎng)度的兩倍。發(fā)光模塊11照射于工作區(qū)20的光線，可被混合式反射單元13反射至光偵測(cè)單元12。由于混合式反射單元13呈長(zhǎng)條狀，且具有上、下配置的反射鏡131及回射器132，因此光偵測(cè)單元12將會(huì)偵測(cè)到分別對(duì)應(yīng)于反射鏡131及回射器132呈長(zhǎng)條狀的第一信號(hào)(影像)30及第二信號(hào)(影像)40。當(dāng)工作區(qū)20沒(méi)有物體阻擋射到工作區(qū)20的光線時(shí)，第一信號(hào)30及第二信號(hào)40全部呈較強(qiáng)(較亮)的狀態(tài)。如圖1、圖2所示，若工作區(qū)20上同時(shí)有物體P1、P2及P3時(shí)，且物體P1、物體P2與發(fā)光模塊11在同一直在線時(shí)，物體Pi阻擋發(fā)光模塊11發(fā)光模塊11射到物體Pi的光線Lll直接再射到物體P2。發(fā)光模塊11射到工作區(qū)20的光線L11、L31將被物體Pl及物體P3直接阻擋無(wú)法射到反射鏡131及回射器132，而在第一信號(hào)30上形成分別對(duì)應(yīng)于物體Pl及物體P3的第一弱信號(hào)(暗點(diǎn))31、33,在第二信號(hào)40上形成分別對(duì)應(yīng)于物體Pl及物體P3的第二弱信號(hào)(暗點(diǎn))41、42。物體Pl也會(huì)間接阻擋由發(fā)光模塊11射到工作區(qū)20而被反射鏡131反射的光線L12、L13及L14，而在第一信號(hào)30上形成對(duì)應(yīng)于物體Pl的第一弱信號(hào)311、312及313。由于反射鏡131呈“L”型，所以對(duì)于每一個(gè)間接阻擋光線的物體會(huì)得到對(duì)應(yīng)于被反射鏡131一次反射的弱信號(hào)，例如第一弱信號(hào)311、312及被反射鏡131 二次反射的弱信號(hào)，例如第一弱信號(hào)313。同樣的物體P2也會(huì)間接阻擋由發(fā)光模塊11射到工作區(qū)20而被反射鏡131反射的光線L21、L22及L23，而在第一信號(hào)30上形成對(duì)應(yīng)于物體P2的第一弱信號(hào)321、322及323 ;物體P3也會(huì)間接阻擋由發(fā)光模塊11射到工作區(qū)20而被反射鏡131反射的光線L32、L33及L34，而在第一信號(hào)30上形成對(duì)應(yīng)于物體P3的第一弱信號(hào)331、332及333。如圖1、圖2所示，第一信號(hào)30及第二信號(hào)40的范圍分別為對(duì)應(yīng)于角度90度的范圍，或第一信號(hào)30及第二信號(hào)40出現(xiàn)的時(shí)間間隔對(duì)應(yīng)于角度90度本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種測(cè)定物體位置的裝置，其特征在于包括：一發(fā)光模塊；一第一反射單元，為長(zhǎng)條狀；一第二反射單元，為長(zhǎng)條狀；一混合式反射單元，包括分別為長(zhǎng)條狀呈“L”型的反射鏡及回射器所組成，該回射器置于該反射鏡的上方或下方其中之一；該混合式反射單元、該第一反射單元及第二反射單元圍成一個(gè)接近矩形的工作區(qū)；該第一反射單元及該第二反射單元分別位于該混合式反射單元的兩側(cè)端；該第一反射單元及該第二反射單元的接觸點(diǎn)為該工作區(qū)一角被設(shè)為基準(zhǔn)點(diǎn)；該發(fā)光模塊由該基準(zhǔn)點(diǎn)的位置發(fā)出光線照射整個(gè)該工作區(qū)或掃描整個(gè)該工作區(qū)其中之一；一光偵測(cè)單元，通過(guò)該反射鏡偵測(cè)被至少一物體直接及間接阻擋的光線而得到的第一信號(hào)；并通過(guò)該回射器偵測(cè)被物體直接阻擋的光線而得到的第二信號(hào)；其中該第一信號(hào)包含對(duì)應(yīng)于該物體的多個(gè)第一弱信號(hào)；該第二信號(hào)包含對(duì)應(yīng)于該物體的至少一個(gè)第二弱信號(hào)；一信號(hào)處理單元，電氣連接該光偵測(cè)單元；該信號(hào)處理單元處理該第一信號(hào)及該第二信號(hào)，得到被該物體直接及間接阻擋由基準(zhǔn)點(diǎn)發(fā)出的光線分別與第一反射單元及第二反射單元之間對(duì)應(yīng)于該第一弱信號(hào)的多個(gè)角度A1及對(duì)應(yīng)于該第二弱信號(hào)的多個(gè)角度A2；一微處理器，電氣連接該信號(hào)處理單元；該微處理器依據(jù)該多個(gè)角度A1分別與每一個(gè)該角度A2的組合分別轉(zhuǎn)換得到多個(gè)坐標(biāo)；然后比對(duì)該多個(gè)坐標(biāo)，由該多個(gè)坐標(biāo)中選出至少有兩個(gè)坐標(biāo)值相同的坐標(biāo)，以確認(rèn)物體在工作區(qū)的相對(duì)坐標(biāo)。...
【技術(shù)特征摘要】
1.一種測(cè)定物體位置的裝置，其特征在于包括: 一發(fā)光模塊; 一第一反射單元，為長(zhǎng)條狀； 一第二反射單元，為長(zhǎng)條狀； 一混合式反射單元，包括分別為長(zhǎng)條狀呈“L”型的反射鏡及回射器所組成，該回射器置于該反射鏡的上方或下方其中之一；該混合式反射單元、該第一反射單元及第二反射單元圍成一個(gè)接近矩形的工作區(qū)；該第一反射單元及該第二反射單元分別位于該混合式反射單元的兩側(cè)端；該第一反射單元及該第二反射單元的接觸點(diǎn)為該工作區(qū)一角被設(shè)為基準(zhǔn)點(diǎn)；該發(fā)光模塊由該基準(zhǔn)點(diǎn)的位置發(fā)出光線照射整個(gè)該工作區(qū)或掃描整個(gè)該工作區(qū)其中之 一光偵測(cè)單元，通過(guò)該反射鏡偵測(cè)被至少一物體直接及間接阻擋的光線而得到的第一信號(hào)；并通過(guò)該回射器偵測(cè)被物體直接阻擋的光線而得到的第二信號(hào)；其中該第一信號(hào)包含對(duì)應(yīng)于該物體的多個(gè)第一弱信號(hào)；該第二信號(hào)包含對(duì)應(yīng)于該物體的至少一個(gè)第二弱信號(hào); 一信號(hào)處理單元，電氣連接該光偵測(cè)單元；該信號(hào)處理單元處理該第一信號(hào)及該第二信號(hào)，得到被該物體直接及間接 阻擋由基準(zhǔn)點(diǎn)發(fā)出的光線分別與第一反射單元及第二反射單元之間對(duì)應(yīng)于該第一弱信號(hào)的多個(gè)角度Al及對(duì)應(yīng)于該第二弱信號(hào)的多個(gè)角度A2 ； 一微處理器，電氣連接該信號(hào)處理單元；該微處理器依據(jù)該多個(gè)角度Al分別與每一個(gè)該角度A2的組合分別轉(zhuǎn)換得到多個(gè)坐標(biāo)；然后比對(duì)該多個(gè)坐標(biāo)，由該多個(gè)坐標(biāo)中選出至少有兩個(gè)坐標(biāo)值相同的坐標(biāo)，以確認(rèn)物體在工作區(qū)的相對(duì)坐標(biāo)。2.按權(quán)利要求1所述的測(cè)定物體位置的裝置，其特征在于，該發(fā)光模塊位于該基準(zhǔn)點(diǎn)的正下方或正下方其中之一接近該基準(zhǔn)點(diǎn)的位置；該發(fā)光模塊包括LED光源或激光光源其中之一；該光偵測(cè)單位于該發(fā)光模塊的上方或下方其中之一。3.按權(quán)利要求4所述的測(cè)定物體位置的裝置，其特征在于，該光偵測(cè)單位是一攝影機(jī)。4.按權(quán)利要求3所述的測(cè)定物體位置的裝置，其特征在于，該發(fā)光模塊包括一掃描機(jī)構(gòu)、一掃描鏡、一具有穿透孔的反射鏡或半反射鏡其中之一及一 LED光源或激光光源其中之一的光源；該光源發(fā)出的光源穿過(guò)該反射鏡的穿透孔或半反射鏡其中之一至該掃描鏡，在該基準(zhǔn)點(diǎn)的位置被該鏡反射至該工作區(qū)；該掃描機(jī)構(gòu)帶動(dòng)該掃描鏡快速掃描整個(gè)該工作區(qū)；該混合式反射單元反射的光線射至該反射鏡或半反射鏡其中之一，被該反射鏡或半反射鏡其中之一反射至該光偵測(cè)單元。5.按權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的測(cè)定物體位置的裝置，其特征在于，該第一反射單元及該第二反射單元分別為長(zhǎng)條狀的回射器；該工作區(qū)是一觸控區(qū)。6.一種測(cè)定物體位置的方法，是偵測(cè)至少一物體在一工作區(qū)的坐標(biāo)；該工作區(qū)被一長(zhǎng)條狀呈“L...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：林志雄，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：時(shí)代光電科技股份有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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