觸控結構與制作方法及其應用裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術公開一種觸控結構與制作方法及其應用裝置。該觸控結構包括：一導電玻璃單元和位于導電玻璃單元的一側的一導電膜單元。導電玻璃單元包括一玻璃基板以及一第一圖案化電極層。玻璃基板具有一第一表面和與第一表面相對的一第二表面，其中第一表面具有一第一粗糙度，第二表面具有一第二粗糙度，且第一粗糙度大于第二粗糙度。第一圖案化電極層位于第二表面上。導電膜單元包括一透光膜以及位于透光膜片上的一第二圖案化電極層。

【技術實現步驟摘要】
觸控結構與制作方法及其應用裝置
本專利技術涉及一種觸控結構與其制作方法及其應用裝置，且特別是涉及一種薄型化的觸控結構與其制作方法及其應用裝置。
技術介紹
隨著顯示科技的進步，各式顯示裝置不斷推陳出新，其中搭載著觸控面板的顯示裝置目前已經廣泛應用于各種消費電子產品之中。傳統外掛于顯示模塊之外(out-cell)的觸控面板，一般包含單玻璃觸控結構(OGS)、雙玻璃觸控結構(GG)與雙薄膜觸控結構(CoverGlass/SensorFilmX/SensorFilmY,GFF)三種主要類型，其具有可提供觸控面板和顯示模塊多元的彈性組合選擇的優點。但由于外掛式的觸控面板需要采用較多的材料且包含復雜的堆疊層，因此整體結構較為厚重且不易薄化。以雙玻璃觸控結構為例，其使用一片玻璃作為外蓋玻璃(coverglass)，另一片玻璃作為感測玻璃(sensorglass)，用來容納形成于其表面上的感測電極。由于，外蓋玻璃需高硬度故無法減薄，若對感測玻璃進行減薄，又會降低感測玻璃的機械強度，而導致其在制作工藝中容易破裂，不但使制作工藝難度增加也使良率大幅下降，相對墊高了制作工藝成本變高。因此，仍有需要提供一種先進觸控結構與其制作方法及其應用裝置，以改善現有技術所面臨的問題。
技術實現思路
本專利技術的一個實施例，是有關于一種觸控結構，包括：一導電玻璃單元和位于導電玻璃單元的一側的一導電膜單元。導電玻璃單元包括一玻璃基板以及一第一圖案化電極層。玻璃基板具有一第一表面和與第一表面相對的一第二表面，其中第一表面具有一第一粗糙度，第二表面具有一第二粗糙度，且第一粗糙度大于第二粗糙度。第一圖案化電極層位于第二表面上。導電膜單元包括：一透光膜；以及位于透光膜片上的一第二圖案化電極層。本專利技術的另一個實施例是有關于一種觸控顯示裝置，包括：一個顯示面板以及先前所述的觸控結構。其中，顯示面板具有一個出光面；此觸控結構位于出光面上。本專利技術的又一個實施例是有關于一種觸控結構的制作方法，包括下述步驟。提供一第一玻璃基板，具有一第一表面和與該第一表面相對的一第二表面。再于第二表面上形成一第一圖案化電極層。提供一第一透光膜，在透光膜上形成一第二圖案化電極層。對第一玻璃基板進行一薄化制作工藝，使第一表面經過薄化，經薄化的第一表面具有大于第二表面的一粗糙度。進行一貼合制作工藝，將第一透光膜貼附于經薄化的第一表面或第二表面上。其中，貼合制作工藝和薄化制作工藝的步驟先后順序可以互換。由于分別位于玻璃基板上以及透光膜片上的第一圖案化電極層和第二圖案化電極層是各自進行制作。因此，形成第一圖案化電極層和第二圖案化電極層的制作工藝步驟并不會對薄化后的玻璃基板的機械強度產生影響。且在一些實施例中，是將兩片玻璃彼此貼附組合之后，才對玻璃基板進行薄化，可降低玻璃基板于制作工藝中發生破裂的機率，增加良率。另外，在一些實施例中，薄化后的玻璃基板可作為外蓋玻璃使用，并不需額外附加其他玻璃層，可降低制作工藝成本，達到前述的專利技術目的。附圖說明圖1A至圖1H為本專利技術的第一實施例所繪示的一系列用來形成觸控結構的制作工藝結構剖面示意圖；圖2A至圖2H為本專利技術的第二實施例所繪示的一系列用來形成觸控結構的制作工藝結構剖面示意圖；以及圖3為本專利技術的一實施例繪示采用圖1H所示的觸控結構所制作而成的觸控顯示裝置的結構剖面示意圖。符號說明20：第一導電膜單元22：第二導電膜單元40：第一導電膜單元42：第二導電膜單元90：觸控顯示裝置100：觸控結構101：第一玻璃基板101a：第一玻璃基板的第一表面101b：第一玻璃基板的第二表面102：第一圖案化電極層102a：外部導線103：第二玻璃基板103a：第二玻璃基板的第三表面103b：第二玻璃基板的第四表面104：第三圖案化電極層105：框膠106：薄化制作工藝108：第二圖案化電極層109：承載基板110：第一透光膜111：外部導線112：光學膠113：第二透光膜114：第四圖案化電極層115：光學膠116：金屬導線118：保護層119：光學膠120：外蓋玻璃121：軟性電路板122：邊框200：觸控結構201：第一玻璃基板201a：第一玻璃基板的第一表面201b：第一玻璃基板的第二表面202：第一圖案化電極層202a：外部導線203：第二玻璃基板203a：第二玻璃基板的第三表面203b：第二玻璃基板的第四表面204：第三圖案化電極層205：框膠206：薄化制作工藝208：第二圖案化電極層209：承載基板210：第一透光膜211：外部導線212：光學膠213：第二透光膜214：第四圖案化電極層215：光學膠218：保護層221：軟性電路板222：邊框300：顯示面板301：出光面具體實施方式本專利技術提供一種薄型化的觸控結構與其制作方法及其應用裝置，可以簡化制作工藝、增加良率并且降低制作工藝成本。為了對本專利技術的上述實施例及其他目的、特征和優點能更明顯易懂，下文特舉數個優選實施例，并配合所附的附圖作詳細說明。但必須注意的是，這些特定的實施案例與方法，并非用以限定本專利技術的范圍。本專利技術仍可采用其他特征、元件、方法及參數來加以實施。優選實施例的提出，僅用以例示本專利技術的技術特征，并非用以限定本專利技術的權利要求。該
中具有通常知識者，將可根據以下說明書的描述，在不脫離本專利技術的精神范圍內，作均等的修飾與變化。在不同實施例與附圖之中，相同的元件，將以相同的元件符號加以表示。請參照圖1A至圖1H，圖1A至圖1H是根據本專利技術的第一實施例所繪示的一系列用來形成觸控結構100的制作工藝結構剖面示意圖。其中形成觸控結構100的方法包含下述步驟：首先，提供一個第一玻璃基板101，使第一玻璃基板101具有一個第一表面101a和與第一表面101a相對的第二表面101b(如圖1A所繪示)。在本專利技術的一些實施例之中，第一表面101a和第二表面101b可具有相同的粗糙程度，其中二者的表面粗糙度實質介于1納米(nm)至5納米之間。第一玻璃基板101的厚度實質介于300微米(μm)至600微米之間。接著，在第一玻璃基板101的第二表面101b上形成第一圖案化電極層102。在本案一實施例中，可使第一圖案化電極層102與第二表面101b直接接觸(如圖1B所繪示)。或者，在第一玻璃基板101和第一圖案化電極層102之間，可依需要設置一層或多層的光學補償層。在本專利技術的一些實施例之中，第一圖案化電極層102的形成，包括先采用沉積技術，例如濺鍍(sputtering)或低壓化學氣相沉積(Low-pressureChemicalVaporDeposition，LPCVD)于第一玻璃基板101的第二表面101b上形成一導電材料層。再通過黃光蝕刻制作工藝，移除一部分導電材料層，用于在第一玻璃基板101的第二表面101b上形成第一圖案化電極層102。在本實施例中，觸控結構100是一種電容式觸控結構，例如，第一圖案化電極層102用來作為電容式觸控結構的觸控電極，例如，感測電極(Rx)。在另一些實施例中，第一圖案化電極層102還包括位于周邊區的外部導線102a。外部導線102a可與第一圖案化電極層102電連接。外部導線102a可由形成第一圖案化電極層102的制作工藝所形成，而具有與第一圖案化電極層102相同的材質。但本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種觸控結構，包括：導電玻璃單元，其包括：玻璃基板，具有一第一表面和與該第一表面相對的一第二表面，其中該第一表面具有一第一粗糙度，該第二表面具有一第二粗糙度，該第一粗糙度大于該第二粗糙度；以及第一圖案化電極層，位于該第二表面上；以及導電膜單元，位于該導電玻璃單元的一側，其包括：透光膜；以及第二圖案化電極層，位于該透光膜片上。

【技術特征摘要】
1.一種觸控結構，包括：導電玻璃單元，其包括：玻璃基板，具有一第一表面和與該第一表面相對的一第二表面，其中該第一表面具有一第一粗糙度，該第二表面具有一第二粗糙度，該第一粗糙度大于該第二粗糙度；以及第一圖案化電極層，位于該第二表面上；以及導電膜單元，位于該導電玻璃單元的一側，其包括：透光膜；以及第二圖案化電極層，位于該透光膜片上。2.如權利要求1所述的觸控結構，其中該第一粗糙度介于1.5納米(nm)至300納米之間，該第二粗糙度介于1納米至5納米之間。3.如權利要求1所述的觸控結構，還包括一光學膠，位于該導電玻璃單元和該導電膜單元之間，其中該透光膜通過該光學膠貼合于該第一表面，且該第二圖案化電極層位于該透光膜遠離該第一表面的一側。4.如權利要求1所述的觸控結構，還包括一光學膠，位于該導電玻璃單元和該導電膜單元之間，其中該透光膜通過該光學膠貼合于該第二表面，且該第二圖案化電極層位于該透光膜遠離該第二表面的一側。5.如權利要求1所述的觸控結構，其中透光膜是一各向同性膜(Is...

【專利技術屬性】
技術研發人員：謝佩穎，葉圣修，卓宏升，樂瑞仁，
申請(專利權)人：群創光電股份有限公司，
類型：發明
國別省市：中國臺灣,71