膜形成裝置及膜形成方法制造方法及圖紙

本申請的發明專利技術涉及一種膜形成裝置及膜形成方法。其目的在于縮小占地面積并且縮短處理線的長度、且實現裝置成本的降低及生產率的提升。本發明專利技術的膜形成裝置包括：涂布處理機構(6)，沿水平方向搬送被處理基板(G)，并且從具有在所述基板的寬度方向上較長的噴出口的噴嘴噴出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加熱處理機構(11)，在第1加熱溫度下加熱形成著所述涂布膜的所述基板；及第2加熱處理機構(12)，在高于所述第1加熱溫度的第2加熱溫度下加熱由所述第1加熱處理機構加熱過的所述基板。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種，尤其是涉及一種在太陽能電池板的受光面形成抗反射膜的。
技術介紹
太陽能電池具有積層著η型硅與P型硅而成的半導體構造，如果對該半導體照射特定波長的光，那么因光電效應而產生電。該太陽能電池為了高效地吸收太陽光等光，通常以抗反射膜覆蓋其板(稱為太陽能電池板)的受光面。以往，作為在太陽能電池板上形成抗反射膜的方法，例如，如專利文獻I所揭示，已知利用等離子CVD (Chemical Vapor Deposition,化學氣相沉積)法而在所述板上形成含有氫的氮化硅膜的技術等。[
技術介紹
文獻][專利文獻][專利文獻I]日本專利特開2005-340358號公報
技術實現思路
[專利技術要解決的問題]然而，在利用等離子CVD法形成抗反射膜的情況下，需要真空排氣設備等，而導致設備成為大規模，因此，存在成本增大的課題。 作為解決所述課題的方法，存在以下方法，S卩，通過對太陽能電池板涂布特定的涂布液，且煅燒涂布膜，而形成抗反射膜。根據該方法，即便不是真空環境，也可在板上形成抗反射膜，從而可降低成本。作為通過所述涂布膜形成而在板上形成抗反射膜的裝置，本申請案申請人以往一直使用如圖11所示的布局構成的膜形成裝置50。在圖11的膜形成裝置50中，首先利用載入器(loader) 51，將作為被處理基板的例如長方形的玻璃基板G每I片地供給至旋轉送入裝置52。旋轉送入裝置52(例如以短邊側成為前后方向的方式)改變由載入器51供給的玻璃基板G的朝向，且將玻璃基板G搬入至擦洗單元53。利用刷洗對搬入至擦洗單元53的玻璃基板G進行清洗處理，之后，實施利用具有加熱器的干燥單元54而使殘留在基板面的清洗液干燥的處理。其次，利用搬送機器人55而將玻璃基板G搬入至涂布處理單元56，在該涂布處理單元56中，通過具有沿基板寬度方向延伸的狹縫狀的噴嘴口的噴嘴56a在基板G的被處理面上進行掃描，而在所述被處理面上涂布形成抗反射膜用的涂布膜。利用搬送機器人57，將形成著涂布膜的玻璃基板G從涂布處理單元56中搬出，并且搬入至減壓干燥單元58。在減壓干燥單元58中，玻璃基板G收納在腔室(未圖示)內，通過使所述腔室內減壓至特定壓力，而除去大部分溶劑。實施減壓干燥處理后的玻璃基板G由搬送機器人59取出并交付給路徑單元60，利用輸送機搬送而被搬入至熱處理單元61。在熱處理單元61中，例如一面對玻璃基板G進行輥搬送，一面利用加熱器(未圖示)將玻璃基板G加熱至特定溫度，來煅燒被處理面上的涂布膜，從而形成抗反射膜。而且，如果將玻璃基板G搬出熱處理單元，那么立即利用冷卻單元62將其冷卻至特定溫度，利用輸送機搬送而將其交付給旋轉送入裝置63，利用旋轉送入裝置63而使玻璃基板G返回至載入器51。然而，在圖11所示的膜形成裝置50中，當實施所述一系列的處理時，需要3臺搬送機器人，其結果，存在占地面積(footprint)增大、且處理線的全長變長的課題。而且，由于處理線的全長變長，且在涂布處理單元56及減壓干燥單元58中，必須由搬送機器人55、57、59每I片地進行玻璃基板G的搬入搬出操作，所以節拍時間(TactTime)變長，而存在生產率降低的課題。此外，以往當在熱處理單元61中煅燒基板G上的涂布膜時，干燥從涂布膜的表面開始進行，而存在膜內部的煅燒不完全、或用來使膜整體完全煅燒所需的熱處理單元的長度變長的課題。本專利技術是鑒于如上所述的
技術介紹
的問題而完成的，其提供一種在對太陽能電池板的受光面形成抗反射膜的膜形成裝置中可縮小裝置的占地面積并且縮短處理線的長度、且可實現裝置成本的降低及生產率的提升的。[解決問題的技術手段]為了解決所述課題，本專利技術`的膜形成裝置通過對構成太陽能電池板的被處理基板涂布特定的涂布液，且煅燒所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，該膜形成裝置的特征在于包括涂布處理機構，沿水平方向搬送所述被處理基板，并且從具有在所述基板的寬度方向上較長的噴出口的噴嘴噴出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第I加熱處理機構，在第I加熱溫度下加熱形成著所述涂布膜的所述基板；及第2加熱處理機構，在高于所述第I加熱溫度的第2加熱溫度下加熱由所述第I加熱處理機構加熱過的所述基板。另外，較為理想的是包括干燥緩沖機構，收納利用所述涂布處理機構而形成著涂布膜的被處理基板，并且通過對所述涂布膜噴附特定的氣流，而促進涂布膜中的溶劑的蒸發；且依序由所述第I加熱處理機構及所述第2加熱處理機構對利用所述干燥緩沖機構而使涂布膜中的溶劑蒸發的所述基板進行加熱處理。而且，優選所述干燥緩沖機構包括緩沖部，上下多段地設置著可收納被處理基板的架部；及氣流形成機構，從所述緩沖部的一側面側朝對向的另一側面側形成特定的氣流。如此，通過在對被處理基板形成涂布膜時，一面平流搬送所述基板一面進行涂布處理，可省略像以往那樣利用搬送機器人對涂布處理單元進行的基板搬入搬出操作。而且，為了使涂布膜中的溶劑蒸發，而設為在暫時收納基板的緩沖部噴附特定的氣流的構成，因此，可省略現有的減壓干燥處理。S卩，由于搬送機器人的數量減少，且不需要像減壓干燥單元那樣的大型的裝置，所以，可縮小占地面積，且降低成本，并且可縮短節拍時間，而提升生產率。此外，為了煅燒基板上的涂布膜，而設為進行第I加熱溫度、及更高的第2加熱溫度的兩個階段的加熱處理的構成，因此，可完全煅燒至涂布膜內部，而不會不完全煅燒。而且，較為理想的是在所述第I加熱處理機構及所述第2加熱處理機構中，分別上下多段地設置著可平流搬送被處理基板的處理架，且一面將搬入至所述各處理架的所述基板從所述第I加熱處理機構沿水平方向搬送至所述第2加熱處理機構，一面依序對所述基板實施加熱處理。通過以如上方式構成，可對多個被處理基板同時進行煅燒處理，而可使生產率提升。而且，為了解決所述課題，本專利技術的膜形成方法通過對構成太陽能電池板的被處理基板涂布特定的涂布液，且煅燒所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，且該膜形成方法的特征在于包括以下步驟沿水平方向搬送所述被處理基板，并且從具有在所述基板的寬度方向上較長的噴出口的噴嘴噴出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；在第I加熱溫度下加熱形成著所述涂布膜的所述基板；及在高于所述第I加熱溫度的第2加熱溫度下加熱在所述第I加熱溫度下經過加熱處理的所述基板。 通過實施如上步驟，而減少搬送機器人的數量，且不需要像減壓干燥單元那樣的大型的裝置，因此可縮小占地面積，且降低成本，并且可縮短節拍時間，且提升生產率。此外，為了煅燒基板上的涂布膜，而設為進行第I加熱溫度、及更高的第2加熱溫度的兩個階段的加熱處理的構成，因此，可完全煅燒至涂布膜內部，而不會不完全煅燒。而且，較為理想的是在所述被處理基板上形成涂布膜的步驟、與在第I加熱溫度下加熱所述基板的步驟之間包括以下步驟收納形成著所述涂布膜的被處理基板，并且通過對所述涂布膜噴附特定的氣流，而促進涂布膜中的溶劑的蒸發。如此，通過在第I加熱處理之前，通過噴附特定的氣流來進行涂布膜中的溶劑的蒸發促進處理，可在更短的時間內進行完全的煅燒處理。[專利技術的效果]根據本專利技術，可獲得一種在對太陽能電池板的受光面形成抗反射膜的膜形成裝置中可縮小裝置的占地面積并且縮短處理線的長度、且可實現裝置成本的降低及生產率的提升的。附圖說明圖1是表示本專利技術的膜形成裝置的第本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種膜形成裝置，其通過對構成太陽能電池板的被處理基板涂布特定的涂布液，且煅燒所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，該膜形成裝置的特征在于包括：涂布處理機構，沿水平方向搬送所述被處理基板，并且從具有在所述基板的寬度方向上較長的噴出口的噴嘴噴出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加熱處理機構，在第1加熱溫度下加熱形成著所述涂布膜的所述基板；及第2加熱處理機構，在高于所述第1加熱溫度的第2加熱溫度下加熱由所述第1加熱處理機構加熱過的所述基板。

【技術特征摘要】
2011.10.12 JP 2011-2246201.ー種膜形成裝置，其通過對構成太陽能電池板的被處理基板涂布特定的涂布液，且煅燒所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，該膜形成裝置的特征在于包括 涂布處理機構，沿水平方向搬送所述被處理基板，并且從具有在所述基板的寬度方向上較長的噴出口的噴嘴噴出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜； 第I加熱處理機構，在第I加熱溫度下加熱形成著所述涂布膜的所述基板；及 第2加熱處理機構，在高于所述第I加熱溫度的第2加熱溫度下加熱由所述第I加熱處理機構加熱過的所述基板。2.根據權利要求1所述的膜形成裝置，其特征在于包括 干燥緩沖機構，收納利用所述涂布處理機構而形成著涂布膜的被處理基板，并且通過對所述涂布膜噴附特定的氣流，而促進涂布膜中的溶劑的蒸發；且 依序由所述第I加熱處理機構及所述第2加熱處理機構對利用所述干燥緩沖機構而使涂布膜中的溶劑蒸發的所述基板進行加熱處理。3.根據權利要求2所述的膜形成裝置，其特征在干 所述干燥緩沖機構包括緩沖部，上下多段地設置著可收納被處理基板的架部；及氣流形成機構，從所述...

【專利技術屬性】
技術研發人員：坂井　光廣，川口　義廣，
申請(專利權)人：東京毅力科創株式會社，
類型：發明
國別省市：