基板供給裝置制造方法及圖紙

一種基板供給裝置（1），能在短時間內更換基板，其包括：多個臂部（4），這些臂部（4）設置成能一體地旋轉及升降，且繞轉軸對稱地設置；多個小平臺（6），這些小平臺（6）分別被支承成與臂部（4）之間存在游隙，且所述小平臺能對基板進行保持；以及主平臺（7），該主平臺（7）利用臂部（4）的旋轉及升降來載置小平臺（6），且包括在游隙的范圍內對小平臺（6）進行定位并保持的平臺保持機構（9、10）。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種用于將基板供給至加工基板的裝置及將其從中排出的基板供給>J-U ρ α裝直。
技術介紹
在平板顯示面板的制造等中，具有使用金屬型涂料機對玻璃基板進行涂覆的工序。為了在基板上形成厚度均勻的涂膜，需要將基板準確地定位保持并使模頭移動，以將基·板與模頭的間隙保持均勻。因此，如日本專利特開2002 - 200450號公報所公開的那樣，一般使用在對基板進行保持的平臺上固定有用于使模頭移動的導軌的裝置。此外，為了在這種平臺上配置及排出(更換)基板，例如，如日本專利特開平5 —45641號公報所公開的那樣，設置有利用從平臺突出的銷來將基板舉起，并將機器人的臂部伸入來將基板取出的結構。但是，若為了縮短涂覆周期，而在涂布了涂料之后立即用銷將基板舉起，則由于基板撓曲，而使涂料在流動至凹陷部分的狀態下干燥，因此，會使膜厚變得不均勻。因此，由于縮短基板的涂覆周期會犧牲膜厚的均勻性，因此，無法提高制造能力。在日本專利特開2002 - 102771號公報中，公開了一種在很大的平臺上設置兩個載置基板的工位，并將金屬涂料機配置成能在兩個工位上移動的裝置。在這種裝置中，只要在一方的工位上涂覆基板時，更換另一方的工位的基板即可，因此，處理能力高。但是，需要有分別對兩個工位更換基板的機器人，因而存在裝置大型化而使造價變高這樣的問題。此夕卜，由于模頭的移動量很大，因此，也容易產生誤差。
技術實現思路
鑒于上述問題，本專利技術的技術問題在于提供一種能在短時間內更換基板的基板供給裝置。為解決上述技術問題，本專利技術的基板供給裝置包括多個臂部，這些臂部設置成能一體地旋轉及升降，且繞轉軸對稱地設置；多個小平臺，這些小平臺分別被支承成與上述臂部之間存在游隙，且上述小平臺能對基板進行保持；以及主平臺，該主平臺利用上述臂部的旋轉及升降來載置上述小平臺，且包括在上述游隙的范圍內對上述小平臺進行定位并保持的平臺保持機構。通過上述結構，由于能在保持于小平臺的狀態下將基板供給至涂覆裝置或加工裝置及將基板從上述裝置中排出，因此，在涂覆(加工)之后，能在不撓曲的情況下將基板排出，并供給下一塊基板。因此，能在不縮短涂覆(加工)后至將基板舉起前的時間的情況下，縮短涂覆周期。此外，通過在小平臺與臂部之間設置游隙，從而能對小平臺在主平臺上的位置及姿勢進行微調，并能準確地確定涂覆或加工時基板的位置及姿勢。此外，本專利技術的基板供給裝置只要一臺處理基板的機器人即可，也不需要增大涂覆裝置或加工裝置的可動范圍，因此，能廉價地提供。此外，在本專利技術的基板供給裝置中，上述小平臺內置有在表面上突出以將上述基板舉起的支承銷，上述基板供給裝置還包括驅動機構，在上述臂部中的一個將上述小平臺保持在上述主平臺上時，該驅動機構配置在其它上述臂部所支承的上述小平臺的下側，上述驅動機構具有將上述支承銷頂起的驅動銷，上述驅動銷與上述支承銷構成為通過磁力相互吸引。通過上述結構，由于能通過磁力與驅動銷的后退對應地使支承銷可靠地后退，因此，在小平臺內部不需要配置對支承銷施力的構件，從而結構簡單，小平臺的厚度也不會變大。此外，在本專利技術的基板供給裝置中，上述平臺保持機構也可以具有通過空氣壓對上述小平臺進行支承的氣墊。通過上述結構，由于對小平臺的重量進行支承的部分是非接觸的，因此，能防止因磨損而使對基板進行保持的高度發生變化。 此外，在本專利技術的基板供給裝置中，上述主平臺也可以對加工上述基板的裝置進行支承。通過上述結構，由于主平臺與加工裝置間的位置關系不會變化，因此，通過將基板定位在小平臺上，并將小平臺定位在主平臺上，從而可保持基板與加工裝置間的位置關系。如上所述，通過臂部的旋轉(回旋)來將多個小平臺配置在主平臺上，因此，能同時進行基板朝小平臺的配置和對基板的加工。此外，通過在小平臺與臂部之間設置游隙，能在主平臺上對小平臺進行微調，因此，在加工時能高精度地對基板進行保持。附圖說明圖1是包括本專利技術一實施方式的基板供給裝置的基板涂覆裝置的立體圖。圖2是圖1的基板涂覆裝置的側視圖。圖3是圖1的基板涂覆裝置的局部放大剖視圖。(符號說明)I基板供給裝置2旋轉驅動部3 轉臺4 臂5玻璃基板6小平臺7主平臺8銷驅動機構9定位裝置10 氣缸11 槽12 氣墊13 模頭14行進框架15 導軌16支承銷17導向筒18 滑塊19磁性金屬片20 汽缸 21 框架22驅動銷23永磁體24機械手具體實施例方式以下，參照附圖對本專利技術的實施方式進行說明。在圖1及圖2中，示出了包括本專利技術一實施方式的基板供給裝置I的基板涂覆裝置。基板供給裝置I包括:轉臺3，該轉臺3能通過旋轉驅動部2而繞垂直的軸旋轉且被支承成能垂直升降；兩對臂部4，這些臂部4設置成兩根一對，并從轉臺3朝徑向外側延伸；兩個小平臺6，這兩個小平臺6分別被支承在各對臂部4上，并能通過吸附對玻璃基板5進行保持；主平臺7，該主平臺7能對一方的小平臺6進行保持；以及銷驅動機構8，該銷驅動機構8用于將玻璃基板5從另一方的小平臺6上舉起。臂部4的對以繞旋轉驅動部2的轉軸彼此對稱的方式、也就是說以180°的角度配置。主平臺7和銷驅動機構8配置在繞旋轉驅動部的軸對稱的位置上，在一方的小平臺6保持在主平臺7上時，銷驅動機構8便位于另一方的小平臺6的正下方。主平臺7及銷驅動機構8分別具有多個定位裝置9，這些定位裝置9與小平臺6的側邊抵接，以對小平臺6的水平位置及方向進行確定。定位裝置9均是能對其與小平臺6抵接的抵接位置進行調節的致動器，其與設于主平臺7、銷驅動機構8及轉臺3的氣缸10協動地，在其與臂部4的游隙范圍內確定小平臺6的水平位置及方向(平臺保持機構)。小平臺6在底面具有可收納臂部4的槽11，但槽11的寬度比臂部4的寬度大，且以具有游隙的方式被支承。因此，小平臺6在臂部4上能在該游隙的范圍內水平移動及水平旋轉。旋轉驅動部2在使轉臺3及臂部4上升到旋轉時沒有障礙物的高度(圖2的雙點劃線所示的位置)的狀態下旋轉180°，并在將小平臺6配置在主平臺7的上方之后，使轉臺3及臂部4下降，來將小平臺6載置在主平臺7上，臂部4進一步下降至與槽11之間產生間隙的位置處。主平臺7具有利用空氣壓以非接觸狀態來對小平臺6進行支承的氣墊12。氣墊12被保持成能分別通過調節空氣壓來調節高度，并被調節成小平臺6的上表面在規定高度上呈水平，小平臺6處于僅靠氣墊12的空氣壓就能得以保持的狀態。氣墊12及定位裝置9能根據小平臺6設定不同的保持位置。藉此，即便在各小平臺6上存在微小傾斜或形狀不同，也能將吸附于小平臺6的玻璃基板5相對于主平臺7保持在恒定的位置及方向上。此外，在本實施方式中，由于只是利用氣墊12通過空氣壓以非接觸的方式承接小平臺6的重量，因此，小平臺6及氣墊12不會受到磨損，只要根據小平臺6來設定一次氣墊12的高度，則能每次都將玻璃基板5準確地保持在相同位置上。此外，也可以用非常小的力來瞬間通過定位裝置9及氣缸10進行定位。主平臺7具有對門型的行進框架14進行引導的導軌15，在該門型的行進框架14上保持有對玻璃基板5進行涂覆的模頭13。也就是說，主平臺7對通過使模頭13移動來涂覆玻璃基板5的加工裝置進行支承，并使模頭13相對于主平臺7嚴格地平行移動。因此，模頭13能對正確地定位保持在主平臺7上的玻璃基板5形成本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種基板供給裝置，其特征在于，包括：多個臂部，這些臂部設置成能一體地旋轉及升降，且繞轉軸對稱地設置；多個小平臺，這些小平臺分別被支承成與所述臂部之間存在游隙，且所述小平臺能對基板進行保持；以及主平臺，該主平臺利用所述臂部的旋轉及升降來載置所述小平臺，且包括在所述游隙的范圍內對所述小平臺進行定位并保持的平臺保持機構。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：西尾勤，魏志丹，橫山雅樹，
申請(專利權)人：中外爐工業株式會社，
類型：發明
國別省市：