保護層處理方法及其裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及一種保護層處理方法及其裝置，尤其涉及了一種用于觸控面板保護層的保護層處理方法及其裝置。本發明專利技術所采用的保護層處理方法包括以下步驟：在基體上形成一保護層；通過一定位系統預先設定一預定圖案；以及通過一涂布裝置在該保護層的表面上按所述預定圖案涂布蝕刻劑，以形成該保護層所需圖案。本發明專利技術采用單步圖案形成方法，在保護層上涂布蝕刻劑，通過單一步驟形成所需圖案，可簡化工序，降低制造成本。本發明專利技術還通過精密定位系統設定所需要的圖案，不需要特別制作成相應的絲網圖案，當圖案發生改變時亦能快速地切換所需的圖案，降低生產成本。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及表面加工技術，具體地說是一種保護層處理方法及其裝置，尤其涉及觸控面板保護層處理方法及其裝置。
技術介紹
近年來，隨著觸控技術的不斷發展，觸控面板已廣泛應用于諸如手機、個人數字助理(PDA)、游戲機輸入接口、電腦觸控屏等各種電子產品中。觸控面板與顯示面板集成一體，通常包括透明基板及布設于其上的電極層，導電邊緣電極及導電線路形成于面板周邊的電極層上。所述保護層敷設于電極層及透明基板上。因邊緣電極和導電線路的厚度造成保護層的不平坦，在面板邊緣高出，造成美感缺陷。而且，觸控面板在使用時需與外接電路相貼合，需要將邊緣電極和周邊的導電線路上的保護層蝕穿，使外接電路與面板上保護層下方的電極層建立電接觸。現有的去除導電邊緣電極及導電線路上方的保護層的方法有兩種光蝕刻微影和網印。光蝕刻微影，即光刻，是一種圖形復印和化學腐蝕相結合的精密表面加工技術，其目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面蝕刻出與掩膜版完全對應的幾何圖形。光刻是一個復雜的工藝流程，通過一系列生產步驟將表面薄膜的特定部分去除，最終形成一定的圖案。如圖I所示，一般的光刻工藝的生產步驟包括清洗、涂布光阻層、曝光、顯影、烘干、蝕刻及剝膜的過程，其設備所需投資較大、維護費用高，同時還需要大量的化學藥劑，導致生產成本高，生產工時長。尤其是，對于大尺寸的觸控面板，這些問題就顯得尤為嚴峻，而且容易導致生產良率下降。網印是孔版印刷的一種主要印刷方法。網版面一般包括通孔與實體兩部分。印刷時，將蝕刻膏放置于預設的網版上，蝕刻膏在刮墨刀的擠壓下從網版面通孔處漏印至保護層上而形成圖案，如圖2所示。網印的工藝比較簡單，所需設備費用少，制作費用低。然而，所采用的網版不能通用，不同的產品需要不同的圖案，針對不同圖案需要設計相對應的網版。當所需圖案發生改變時，需要更換相應圖案的網版。另外，對于中、大尺寸的觸控面板，其所印刷的保護層尺寸變大時，所使用的網版的尺寸亦變大，印刷時不易控制整個大尺寸網版的張力的一致性，從而也較難保證漏印在承印物上的蝕刻膏的一致性。
技術實現思路
為了解決上述現有技術的問題，本專利技術的目的在于提供一種保護層處理方法，用于觸控面板保護層的蝕刻，簡化操作工序，降低成本。本專利技術所采用的技術方案是一種保護層處理方法，包括以下步驟SI :在基體上形成一保護層；S2 :通過一定位系統預先設定一預定圖案；及S3 :通過一涂布裝置在該保護層的表面按所述預定圖案涂布蝕刻劑，以形成該保護層所需的圖案。其中，步驟S3進一步包括以下步驟S301 :提供一涂布裝置，收納有蝕刻劑 '及S302 :該涂布裝置按照所述預定圖案在所述保護層上涂布蝕刻劑，以形成與預定圖案一致的蝕刻劑涂布區域。在保護層表面涂布蝕刻劑之后，該保護層處理方法還包括步驟S4 :清洗，去除涂 布區域內的保護層材料及蝕刻劑。所述保護層以二氧化硅制成。所述蝕刻劑是膏狀蝕刻劑，即為蝕刻膏。所述蝕刻膏為氟化氫銨，化學式為NH4HF2，經由所述涂布裝置涂布于所述保護層上。所述涂布裝置包括至少一個注射器，所述注射器內裝納蝕刻劑；壓力裝置，提供壓力給所述注射器，用以擠出所述注射器內的蝕刻劑；及控制單元，控制所述壓力裝置的工作狀態及調整壓力大小。本專利技術的目的還在于提供一種保護層處理裝置，采用壓力涂布的方法將蝕刻膏涂布于保護層表面進行蝕刻，可精確定位和形成所要蝕刻的圖案，簡化生產工序。本專利技術所采用的技術方案是一種保護層處理裝置，包括涂布裝置，提供蝕刻劑涂布于保護層表面；定位系統，與所述涂布裝置相接，并按一預定圖案控制所述涂布裝置的運動速度和移動方向，以在保護層表面涂布蝕刻劑來形成保護層所需的圖案。至少一個注射器，所述注射器內裝納蝕刻劑，并按照所述定位系統設定的預定圖案在保護層表面涂布蝕刻劑以形成保護層所需的圖案；壓力裝置，提供壓力給所述注射器，用以擠出所述注射器內的蝕刻劑；及控制單元，控制所述壓力裝置的工作狀態及調整壓力大小。所述定位系統是精密定位系統，其定位精度(偏移)< 20 μ m，所述定位系統包括位移傳感器、控制器、驅動電機、機械手臂和攝像機，所述位移傳感器連接于所述控制器，用于感測所述機械手臂的位置，并將機械手臂的位置信息傳輸至所述控制器；所述控制器連接于外部計算機，并接收所述位移傳感器所傳輸的位置信息，并按照計算機預設的預定圖案控制所述驅動電機的運作；所述驅動電機接收所述控制器的控制信號，驅動所述機械手臂執行位移動作；所述攝像機連接并受控于所述控制器，用于辨識保護層的初始位置。其中，所述攝像機為CCD攝像機。所述機械手臂采用線性導軌和滾珠螺桿所構成，并由X-Y-Z三軸方向的驅動電機驅動所述機械手臂的運動。所述壓力裝置包括高壓裝置及多個壓力開關。所述保護層處理裝置還設有用于存放蝕刻劑的貯藏箱，所述注射器設有進料口，所述進料口與所述貯藏箱相連通。本專利技術采用單步圖案形成方法，在保護層上涂布蝕刻劑，通過單一步驟形成所需圖案，可簡化工序，降低制造成本。另外，本專利技術通過精密定位系統設定所需要的圖案，不需要特別制作成相應的絲網圖案，當圖案發生改變時亦能快速地切換所需的圖案，降低生產成本。附圖說明圖I是現有的光蝕刻微影的流程圖；圖2是現有的絲網印刷的裝置結構示意圖；圖3是一種觸控面板的截面示意圖；圖4是本專利技術應用于觸控面板的加工平面示意圖；圖5是本專利技術保護層處理方法的流程圖；圖6是本專利技術精密定位系統的原理框圖； 圖7是本專利技術保護層處理裝置的原理框圖。具體實施例方式下面結合附圖與具體實施方式對本專利技術作進一步詳細描述。如圖3所不,一種觸控面板10,包括基板11、導電層12以及覆蓋于導電層12之上的保護層13。導電層12具有圖案化的電極結構(圖未示)，導電層12通過導電線路121連接至外部，以與導電線路121上方保護層13的蝕刻區域131相對應。如圖4所示，多個觸控面板10分布于同一個加工件100上，待完成保護層13的圖案處理之后，再切割得到單個觸控面板10。在生產時，根據所制作的觸控面板10的尺寸大小，確定在同一加工件100上排布的觸控面板10的數量。在所述的加工件100上設有至少兩個定位標101，通常采用“十字星”設于所述加工件100兩端的對角位置。如圖5所示，所述保護層13的處理方法包括以下步驟SI :在基板11上設有電極層12，該電極層12以透明導電材料制成，再在所述電極層12上形成一保護層13，如圖3所示；S2 :通過一精密定位系統20 (如圖6所示)預先設定一預定圖案，該預定圖案形狀如圖4所示，由加工件100上每一觸控面板10的導電線路121上方的蝕刻區域131構成；S3 :通過一涂布裝置30 (如圖7所示)在該保護層13的表面按所述預定圖案涂布蝕刻劑，以形成該保護層13所需的圖案。本實施例中采用以下步驟S301 :提供一涂布裝置30 (如圖7所示)，收納有蝕刻膏；S302 :涂布裝置30按照預定圖案在所述保護層13上涂布蝕刻膏，以形成與預定圖案一致的蝕刻劑涂布區域，即該涂布區域對應于保護層13的蝕刻區域131。其中，所述保護層13以二氧化硅制成，所述蝕刻膏采用氟化氫銨(NH4HF2)經由所述涂布裝置30涂布于所述保護層13上，發生化學反應，其反應的化學方程式為Si02+6NH4HF2 — H2 (SiF6) +6NH4本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種保護層處理方法，其特征在于：包括以下步驟：S1：在基體上形成一保護層；S2：通過一定位系統預先設定一預定圖案，存儲于該定位系統中；及S3：通過一涂布裝置在該保護層的表面按所述預定圖案涂布蝕刻劑，以形成該保護層所需的圖案。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳猷仁，林坤榮，
申請(專利權)人：宸鴻科技廈門有限公司，
類型：發明
國別省市：