殼體的制備方法及由該方法所制得的殼體技術

本發明專利技術提供一種具有黑色外觀的殼體的制備方法，其包括如下步驟：提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為CrxCy層，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復合靶，通入碳源反應氣體，該復合靶中含有金屬鉻和碳化鉻；該色彩層呈現的色度區域于CIELab表色系統的L*坐標介于27至30之間，a*坐標介于-0.1至0.1之間，b*坐標介于-0.1至0.1之間。本發明專利技術還提供一種由上述方法制得的殼體。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種殼體的制備方法及由該方法所制得的殼體。
技術介紹
目前最常用的制備黑色涂層的方法為電化學方法，如陽極氧化黑色膜，鍍黑鎳、黑鉻等，但該類方法污染重不環保。PVD鍍膜技術是一種較為環保的鍍膜工藝。然而，利用PVD鍍膜技術于殼體表面形成的黑色膜層容易出現異色、黑中帶藍及黑中帶紅等現象，嚴重影響了黑色膜層的美觀性； 且利用PVD制備的黑色膜層往往黑色的深度不夠，膜層的色度區域于CIE Lab表色系統中的L*值通常只能達到35左右，繼續降低L*值存在很大難度。
技術實現思路
有鑒于此，本專利技術提供一種有效解決上述問題的黑色的PVD鍍膜的殼體的制備方法。另外，本專利技術還提供一種由上述方法制得的殼體。一種殼體的制備方法，其包括如下步驟 提供一基體； 在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為鉻-碳層，其化學式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復合靶，通入碳源反應氣體，該復合靶中含有金屬鉻和碳化鉻，其中金屬鉻的質量百分含量為50、0%，碳化鉻的質量百分含量為1(Γ50% ;該色彩層呈現的色度區域于CIE Lab表色系統的L*坐標介于27至30之間，a*坐標介于-O. I至O. I之間，b*坐標介于-O. I至O. I之間?！N殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，該色彩層為鉻-碳層，其化學式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；該色彩層呈現的色度區域于CIE Lab表色系統的L*坐標介于27至30之間，a*坐標介于-O. I至O. I之間，b*坐標介于-O. I至O. I之間。本專利技術在所述色彩層的制備過程中使用一種含金屬鉻與碳化鉻的靶材，并通入碳源反應氣體，使獲得的色彩層的色度區域于CIE Lab表色系統的L*低于30。所述殼體呈現出具有吸引力的黑色的外觀，顏色均衡且無黑中帶藍或紅；另外所述色彩層還具有良好的抗磨損性能，可持久保持其良好的黑色的外觀，同時還可有效防止基體被磨損，相應地延長了殼體的使用壽命。附圖說明圖I是本專利技術一較佳實施例殼體的剖視 圖2是本專利技術一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。主要元件符號說明權利要求1.一種殼體的制備方法，其包括如下步驟 提供一基體； 在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為鉻-碳層，其化學式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復合靶，通入碳源反應氣體，該復合靶中含有金屬鉻和碳化鉻，其中金屬鉻的質量百分含量為50、0%，碳化鉻的質量百分含量為1(Γ50% ;該色彩層呈現的色度區域于CIE Lab表色系統的L*坐標介于27至30之間，a*坐標介于-O. I至O. I之間，b*坐標介于-O. I至O. I之間。2.如權利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于形成所述色彩層的工藝參數為復合靶的功率為8 12kW，施加于基體的偏壓為-5(T-200V，占空比為3(Γ70% ;碳源反應氣體為乙炔，乙炔的流量為8(Tl20sCCm，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為30(T500SCCm，鍍膜溫度為5(T200°C或室溫；沉積所述色彩層的時間為15飛Omin。3.如權利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述基體的材質為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。4.如權利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述色彩層的厚度為Γ3ΜΠ1。5.如權利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述色彩層呈現黑色。6.如權利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述復合靶的制備方法為將鉻和 碳化鉻的粉體放入球磨機中混合均勻，其中金屬鉻的質量百分含量為50、0%，碳化鉻的混入量為l(T50wt%，球磨時間為1 24小時；采用冷等靜壓對混合后的粉體原料進行預壓，使之成型為一坯體，預壓壓力10(T300MPa，保壓時間f IOmin ;將坯體放入燒結爐中進行熱壓燒結，從室溫開始升溫，升溫速率為9(Tl00°C /min,當溫度升高到80(T900°C時對坯體進行施壓，壓力為2(T40MPa，當溫度上升到100(Γ1500 時，將壓力調節為5(T70MPa，保壓3 IOmin07.一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，其特征在于該色彩層為鉻-碳層，其化學式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；該色彩層呈現的色度區域于CIELab表色系統的L*坐標介于27至30之間，a*坐標介于-O. I至O. I之間，b*坐標介于-O. I至O. I之間。8.如權利要求7所述的殼體，其特征在于所述基體的材質為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。9.如權利要求7所述的殼體，其特征在于所述色彩層的厚度為Γ3ΜΠ1。10.如權利要求7所述的殼體，其特征在于所述色彩層呈現黑色。全文摘要本專利技術提供一種具有黑色外觀的殼體的制備方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為CrxCy層，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復合靶，通入碳源反應氣體，該復合靶中含有金屬鉻和碳化鉻；該色彩層呈現的色度區域于CIELab表色系統的L*坐標介于27至30之間，a*坐標介于-0.1至0.1之間，b*坐標介于-0.1至0.1之間。本專利技術還提供一種由上述方法制得的殼體。文檔編號C23C14/06GK102953030SQ201110246229公開日2013年3月6日 申請日期2011年8月25日 優先權日2011年8月25日專利技術者蔣煥梧, 陳正士, 徐華陽, 張娟 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種殼體的制備方法，其包括如下步驟：提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為鉻?碳層，其化學式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復合靶，通入碳源反應氣體，該復合靶中含有金屬鉻和碳化鉻，其中金屬鉻的質量百分含量為50~90%，碳化鉻的質量百分含量為10~50%；該色彩層呈現的色度區域于CIE?Lab表色系統的L*坐標介于27至30之間，a*坐標介于?0.1至0.1之間，b*坐標介于?0.1至0.1之間。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：蔣煥梧，陳正士，徐華陽，張娟，
申請(專利權)人：鴻富錦精密工業深圳有限公司，鴻海精密工業股份有限公司，
類型：發明
國別省市：