光掩模及曝光裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種光掩模及曝光裝置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上將掩模圖案不同的多種圖案區(qū)域(11)按照其中心軸相互平行的方式排列設(shè)置，并具備：在與各所述圖案區(qū)域(11)的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處，分別按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設(shè)置的細(xì)長狀的多個開口部(12)；和在各所述開口部(12)內(nèi)分別為了辨別所述掩模圖案而設(shè)置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記(13)，將各所述開口部(12)內(nèi)的辨別用標(biāo)記(13)分別設(shè)置在各所述開口部(12)的縱長中心軸上的不同位置。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及在掩模基板上形成有掩模圖案的光掩模，尤其涉及要防止與目標(biāo)不同的圖案被曝光的情形的光掩模及曝光裝置。
技術(shù)介紹
以往的這種光掩模，在同一掩模基板上排列設(shè)置有掩模圖案不同的多種圖案區(qū)域，在基板上曝光不同種類的圖案時，通過快門的開閉動作而從多種圖案區(qū)域中選擇被曝光的圖案的圖案區(qū)域來進(jìn)行曝光(例如參照日本特開2008-310217號公報)。但是，這種以往的光掩模通過受曝光裝置中具備的控制單元的程序所控制的快門的開閉動作，從上述多種圖案區(qū)域中選擇被曝光的圖案的圖案區(qū)域，并未具備確認(rèn)圖案區(qū) 域是否被正確選擇的單元。因此，在因人為錯誤而錯誤地輸入并設(shè)定了上述多種圖案區(qū)域的選擇信息、或者設(shè)置了與要曝光的光掩模不同的光掩模的情況下，可能無法檢測出上述錯誤，導(dǎo)致會曝光與正規(guī)圖案不同的圖案。
技術(shù)實現(xiàn)思路
因此，本專利技術(shù)是針對上述問題點而提出的，其目的在于提供一種要防止與目標(biāo)不同的圖案被曝光的情形的光掩模及曝光裝置。為了達(dá)成上述目的，第I專利技術(shù)涉及一種光掩模，具有在掩模基板上將多個掩模圖案至少排成一列而形成的圖案區(qū)域，所述光掩模具備在與所述多個掩模圖案的排列方向交叉的方向上，在與所述圖案區(qū)域的中心軸偏離一定距離的位置處，按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設(shè)置的細(xì)長狀的開口部；和在所述開口部內(nèi)為了將所述掩模圖案與其他掩模基板上形成的不同種類的掩模圖案辨別開而設(shè)置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記，將所述辨別用標(biāo)記設(shè)置在所述開口部的縱長中心軸上的與所述不同種類的掩模圖案的辨別用標(biāo)記不同的位置。通過采樣這種構(gòu)成，根據(jù)在與形成了掩模圖案的圖案區(qū)域的中心軸偏離一定距離的位置處設(shè)置的細(xì)長狀的開口部內(nèi)、與其縱長中心軸交叉的方式設(shè)置的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記的位置，與形成于其他掩模基板的不同種類的掩模圖案辨別開。另外,第2專利技術(shù)涉及一種光掩模,在同一掩模基板上將掩模圖案不同的多種圖案區(qū)域按照其中心軸相互平行的方式排列設(shè)置，所述光掩模具備在與各所述圖案區(qū)域的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處，分別按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設(shè)置的細(xì)長狀的多個開口部；和在各所述開口部內(nèi)分別為了辨別所述掩模圖案而設(shè)置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記，將各所述開口部內(nèi)的辨別用標(biāo)記分別設(shè)置在各所述開口部的縱長中心軸上的不同位置。通過采樣這種構(gòu)成，根據(jù)與在同一掩模基板上排列設(shè)置且掩模圖案不同的多種圖案區(qū)域的中心軸偏離一定距離的位置處分別以縱長中心軸平行于所述中心軸的方式設(shè)置的細(xì)長狀的多個開口部內(nèi)的、與上述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記的位置，辨別各圖案區(qū)域的掩模圖案。優(yōu)選各所述開口部內(nèi)的辨別用標(biāo)記，按照沿著各所述圖案區(qū)域的中心軸排列的各所述掩模圖案的排列間距的整數(shù)倍的間距而分別形成有多條。進(jìn)而優(yōu)選各所述開口部內(nèi)的辨別用標(biāo)記在所述縱長中心軸方向上的寬度各不相同。另外，第3專利技術(shù)涉及一種曝光裝置，具備掩模臺，其與被曝光體對置設(shè)置，對光掩模進(jìn)行保持，能夠沿著多種圖案區(qū)域的排列方向移動，所述光掩模在同一掩模基板上將掩模圖案不同的所述多種圖案區(qū)域按照其中心軸相互平行的方式排列設(shè)置，在與各所述圖案區(qū)域的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處分別形成縱長中心軸平行于所述中心軸的細(xì)長狀的多個開口部，在該各開口部內(nèi)分別將用于辨別所述掩模圖案的與所述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記設(shè)置在所述縱長中心軸上的 不同位置；曝光光學(xué)系統(tǒng)，其向所述光掩模的多種圖案區(qū)域之中被選擇出的一個圖案區(qū)域照射光源光，將該被選擇出的圖案區(qū)域的掩模圖案轉(zhuǎn)印到所述被曝光體上；檢測單元，其使細(xì)長狀的受光部的縱長中心軸與所述被選擇出的一個圖案區(qū)域所對應(yīng)的所述開口部的縱長中心軸一致地進(jìn)行配置，用于檢測所述辨別用標(biāo)記的位置；和控制單元，其控制所述掩模臺的移動，使得從所述多種圖案區(qū)域中選擇一個圖案區(qū)域，所述控制單元比較從預(yù)先設(shè)定并保存的曝光信息中讀取的掩模圖案信息、和對應(yīng)于各所述辨別用標(biāo)記的位置而預(yù)先保存的掩模圖案信息之中由所述檢測單元檢測出的所述辨別用標(biāo)記的位置所對應(yīng)的掩模圖案信息，來判定所述被選擇出的圖案區(qū)域的正確與否。通過采用這種構(gòu)成，利用與被曝光體對置設(shè)置的掩模臺對光掩模進(jìn)行保持，所述光掩模在同一掩模基板上將掩模圖案不同的多種圖案區(qū)域按照其中心軸相互平行的方式排列設(shè)置，在與各圖案區(qū)域的中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處分別形成縱長中心軸平行于上述中心軸的細(xì)長狀的多個開口部，在該各開口部內(nèi)分別將用于辨別上述掩模圖案的與上述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記設(shè)置于上述縱長中心軸上的不同位置，由控制單元控制上述掩模臺的移動，使光掩模沿著上述多種圖案區(qū)域的排列方向移動，從該多種圖案區(qū)域中選擇一個圖案區(qū)域，利用曝光光學(xué)系統(tǒng)向該被選擇出的圖案區(qū)域照射光源光來將該圖案區(qū)域的掩模圖案轉(zhuǎn)印到被曝光體上。此時，利用使細(xì)長狀的受光部的縱長中心軸與被選擇出的一個圖案區(qū)域所對應(yīng)的開口部的縱長中心軸一致地進(jìn)行配置的檢測單元，檢測上述辨別用標(biāo)記在上述縱長中心軸上的位置，利用控制單元比較從預(yù)先設(shè)定并保存的曝光信息中讀取的掩模圖案信息、和對應(yīng)于各上述辨別用標(biāo)記的位置而預(yù)先保存的掩模圖案信息之中由上述檢測單元檢測出的上述辨別用標(biāo)記的位置所對應(yīng)的掩模圖案信息，來判定被選擇出的上述圖案區(qū)域的正確與否。附圖說明圖I是表示本專利技術(shù)的曝光裝置的實施方式的概略構(gòu)成的主視圖。圖2是放大表示本專利技術(shù)的曝光裝置的主要部分的俯視圖。圖3是表不本專利技術(shù)的光掩模的一構(gòu)成例的俯視圖。圖4是表不設(shè)于上述光掩模的開口部內(nèi)的辨別用標(biāo)記的一構(gòu)成例的俯視圖。圖5是表不上述辨別用標(biāo)記的另一構(gòu)成例的俯視圖。圖6是表示本專利技術(shù)的曝光裝置中使用的控制單元的構(gòu)成的框圖。圖7是說明本專利技術(shù)的曝光裝置的動作的流程圖。圖8是說明本專利技術(shù)的曝光裝置的另一動作的流程圖。具體實施例方式以下，基于附圖來詳細(xì)說明本專利技術(shù)的實施方式。圖I是表示本專利技術(shù)的曝光裝置的實施方式的概略構(gòu)成的主視圖。該曝光裝置是使用在同一掩模基板上排列設(shè)置了掩模圖案不同的多種圖案區(qū)域的光掩模，將從上述多種圖案區(qū)域中選擇出的圖案區(qū)域的掩模圖案轉(zhuǎn)印到被曝光體上來進(jìn)行曝光的曝光裝置，該曝光裝置構(gòu)成為具備輸送單元I、掩模臺2、曝光光學(xué)單元3、檢測單元4、照明單元5以及控制單元6(參照圖6)。此外，在以下的說明中，描述被曝光體例如為液晶顯示用基板7的情況。 上述輸送單元I是利用省略圖示的輸送機(jī)構(gòu)來保持涂敷了感光材料的液晶顯示用基板7的兩端緣部，并沿著圖I所示的箭頭A方向進(jìn)行輸送的輸送單元，例如在液晶顯示用基板7的輸送方向(以下稱為“X方向”)上以一定間隔排列的多個臺8的上表面具備多個噴氣口和進(jìn)氣口，使從該噴氣口噴出的空氣的壓力和從進(jìn)氣口吸入的空氣的壓力平衡，并以使液晶顯示用基板7在臺8上浮起一定量的狀態(tài)進(jìn)行輸送。另外，具備對液晶顯示用基板7的移動距離進(jìn)行測量的省略圖示的位置傳感器、以及對液晶顯示用基板7的輸送速度進(jìn)行檢測的省略圖示的速度傳感器。與上述輸送單元I的上表面對置地設(shè)置掩模臺2。該掩模臺2是吸附并保持光掩模9的緣部，并利用省略圖示的臺移動機(jī)構(gòu)沿著X方向進(jìn)行步進(jìn)移動的掩模臺，采用使第I掩模臺2A和第2掩模臺2B在X方本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點】
一種光掩模，具有在掩模基板上將多個掩模圖案至少排成一列而形成的圖案區(qū)域，所述光掩模的特征在于，具備：在與所述多個掩模圖案的排列方向交叉的方向上，在與所述圖案區(qū)域的中心軸偏離一定距離的位置處，按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設(shè)置的細(xì)長狀的開口部；和在所述開口部內(nèi)為了將所述掩模圖案與其他掩模基板上形成的不同種類的掩模圖案辨別開而設(shè)置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記，將所述辨別用標(biāo)記設(shè)置在所述開口部的縱長中心軸上的與所述不同種類的掩模圖案的辨別用標(biāo)記不同的位置。

【技術(shù)特征摘要】
2011.07.29 JP 2011-1669951.一種光掩模，具有在掩模基板上將多個掩模圖案至少排成一列而形成的圖案區(qū)域，所述光掩模的特征在于，具備 在與所述多個掩模圖案的排列方向交叉的方向上，在與所述圖案區(qū)域的中心軸偏離一定距離的位置處，按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設(shè)置的細(xì)長狀的開口部；和在所述開口部內(nèi)為了將所述掩模圖案與其他掩模基板上形成的不同種類的掩模圖案辨別開而設(shè)置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記， 將所述辨別用標(biāo)記設(shè)置在所述開口部的縱長中心軸上的與所述不同種類的掩模圖案的辨別用標(biāo)記不同的位置。2.一種光掩模，在同一掩模基板上將掩模圖案不同的多種圖案區(qū)域按照其中心軸相互平行的方式排列設(shè)置，所述光掩模的特征在于，具備 在與各所述圖案區(qū)域的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處，分別按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設(shè)置的細(xì)長狀的多個開口部；和 在各所述開口部內(nèi)分別為了辨別所述掩模圖案而設(shè)置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細(xì)線狀的辨別用標(biāo)記， 將各所述開口部內(nèi)的辨別用標(biāo)記分別設(shè)置在各所述開口部的縱長中心軸上的不同位置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光掩模，其特征在于， 各所述開口部內(nèi)的辨別用標(biāo)記，按照沿著各所述圖案區(qū)域的中心軸排列的各所述掩模圖案的排列間距的整數(shù)倍的間距...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：野村義昭，竹下琢郎，橋本和重，
申請(專利權(quán))人：株式會社V技術(shù)，
類型：發(fā)明
國別省市：