一種顯示基板及其制作方法技術(shù)

本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例公開(kāi)了一種顯示基板及其制作方法。該方案中，在絕緣層用于連接第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層的連接孔中設(shè)置有導(dǎo)電墊層，使得連接孔變淺，第二導(dǎo)電層與導(dǎo)電墊層電連接即可實(shí)現(xiàn)與第一導(dǎo)電層的電連接，降低了第二導(dǎo)電層在連接孔臺(tái)階處的鋪設(shè)難度，第二導(dǎo)電層在連接孔臺(tái)階處較平緩，改善了連接孔中的斷線問(wèn)題。

Display substrate and manufacturing method thereof

The embodiment of the invention discloses a display substrate and a manufacturing method thereof. In this scheme, the insulating layer is used for connecting the first and second conductive layers connected to a conductive cushion hole, the connecting hole becomes shallow, electrically connected to the second conductive layer and the conductive layer is electrically connected with the first conductive layer can be realized, reducing the second conductive layer in the connecting hole where the laying of difficulty, second the conductive layer in the connecting hole at the step slowly, improve the connection disconnection in the hole.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種顯示基板及其制作方法
本專(zhuān)利技術(shù)涉及顯示
，尤其涉及一種顯示基板及其制作方法。
技術(shù)介紹
在顯示裝置中，當(dāng)需要將兩個(gè)不同膜層之間的導(dǎo)電層進(jìn)行電連接時(shí)，通常在兩個(gè)膜層之間的絕緣層中設(shè)置連接孔，實(shí)現(xiàn)兩個(gè)導(dǎo)電層的連接。如果絕緣層相對(duì)導(dǎo)電層過(guò)厚，導(dǎo)電層很薄，非常容易出現(xiàn)斷線問(wèn)題，下面通過(guò)圖1進(jìn)行舉例說(shuō)明：現(xiàn)有的一種如圖1所示的陣列基板結(jié)構(gòu)，包括襯底基板，在襯底基板1上層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層2、絕緣層3、第二導(dǎo)電層4，第一導(dǎo)電層2通過(guò)絕緣層3中的連接孔5與第二導(dǎo)電層4電連接，從圖中可以看出，絕緣層越厚，第二導(dǎo)電層越薄，在連接孔臺(tái)階處的第二導(dǎo)電層越難鋪設(shè)，越容易出現(xiàn)斷線問(wèn)題。例如，液晶顯示屏中，由于有機(jī)膜層作為絕緣層具有減小像素電極與數(shù)據(jù)線之間的耦合電容等優(yōu)勢(shì)，在薄膜晶體管(ThinFilmTransistor，TFT)陣列基板側(cè)有機(jī)膜的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，但是一般有機(jī)膜層的厚度約為而一般的導(dǎo)電層的厚度只有幾百或上千如氧化銦錫(IndiumTinOxide，ITO)層，厚度約為兩者的厚度差異較大，有時(shí)需要設(shè)置位于ITO層通過(guò)有機(jī)膜層的連接孔與該有機(jī)膜層另一側(cè)的導(dǎo)電層進(jìn)行電連接，由于有機(jī)膜層非常厚，在有機(jī)膜層的連接孔的臺(tái)階處，ITO層鋪設(shè)很困難，就很容易出現(xiàn)斷線問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例的目的是提供一種顯示基板及其制作方法，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中連接孔處容易斷線的問(wèn)題。本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：一種顯示基板，包括：襯底基板，在襯底基板上層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層、絕緣層、第二導(dǎo)電層；所述絕緣層內(nèi)設(shè)置有用于連接所述第一導(dǎo)電層和所述第二導(dǎo)電層的連接孔；所述顯示基板還包括：設(shè)置于所述連接孔中的導(dǎo)電墊層；所述第二導(dǎo)電層在所述連接孔中通過(guò)所述導(dǎo)電墊層與所述第一導(dǎo)電層電連接。較佳地，所述導(dǎo)電墊層與所述第二導(dǎo)電層接觸的表面為曲面。較佳地，所述導(dǎo)電墊層與所述第一導(dǎo)電層接觸表面的面積大于所述連接孔與所述第二導(dǎo)電層接觸端的開(kāi)孔的面積。較佳地，所述絕緣層的厚度大于所述第二導(dǎo)電層的厚度。較佳地，所述絕緣層的材料包括有機(jī)材料；所述第二導(dǎo)電層的材料包括氧化銦錫ITO。較佳地，所述導(dǎo)電墊層的厚度小于所述絕緣層的厚度，且不小于所述絕緣層的厚度與所述第二導(dǎo)電層的厚度之差。較佳地，所述導(dǎo)電墊層的材料為金屬、合金、高分子有機(jī)物的導(dǎo)電材料或石墨烯。一種如以上任一項(xiàng)所述的顯示基板的制作方法，包括：在襯底基板上形成第一導(dǎo)電層；在形成有所述第一導(dǎo)電層的襯底基板上形成具有連接孔的絕緣層以及位于所述連接孔中的導(dǎo)電墊層；在形成有所述絕緣層和導(dǎo)電墊層的襯底基板上形成第二導(dǎo)電層；其中，所述第二導(dǎo)電層在所述連接孔中通過(guò)所述導(dǎo)電墊層與所述第一導(dǎo)電層電連接。較佳地，在形成有所述第一導(dǎo)電層的襯底基板上形成具有連接孔的絕緣層以及位于所述連接孔中的導(dǎo)電墊層，包括：在形成有所述第一導(dǎo)電層的襯底基板上待形成連接孔的區(qū)域形成導(dǎo)電墊層；形成覆蓋所述第一導(dǎo)電層和所述導(dǎo)電墊層的絕緣層；在所述絕緣層中與所述導(dǎo)電墊層對(duì)應(yīng)的區(qū)域內(nèi)形成連接孔。較佳地，在形成有所述第一導(dǎo)電層的襯底基板上形成具有連接孔的絕緣層以及位于所述連接孔中的導(dǎo)電墊層，包括：在形成有所述第一導(dǎo)電層的襯底基板上形成覆蓋所述第一導(dǎo)電層的絕緣層；在所述絕緣層中形成連接孔；在所述連接孔中填充導(dǎo)電墊層。本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例的有益效果如下：本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的顯示基板及其制作方法中，在絕緣層用于連接第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層的連接孔中設(shè)置有導(dǎo)電墊層，使得連接孔變淺，第二導(dǎo)電層與導(dǎo)電墊層電連接即可實(shí)現(xiàn)與第一導(dǎo)電層的電連接，降低了第二導(dǎo)電層在連接孔臺(tái)階處的鋪設(shè)難度，第二導(dǎo)電層在連接孔臺(tái)階處較平緩，改善了連接孔中的斷線問(wèn)題。附圖說(shuō)明圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的另一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的一種顯示基板的制作方法流程圖；圖5為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的又一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6a～圖6g為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的一種顯示基板的制作過(guò)程中的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7a～圖7i為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的另一種顯示基板的制作過(guò)程中的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式為了解決以上技術(shù)問(wèn)題，本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供一種顯示基板及其制作方法。其中，本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的一種顯示基板，包括：襯底基板，在襯底基板上層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層、絕緣層、第二導(dǎo)電層；絕緣層內(nèi)設(shè)置有用于連接第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層的連接孔；顯示基板還包括：設(shè)置于連接孔中的導(dǎo)電墊層；第二導(dǎo)電層在連接孔中通過(guò)導(dǎo)電墊層與第一導(dǎo)電層電連接。本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例中，在絕緣層用于連接第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層的連接孔中設(shè)置有導(dǎo)電墊層，使得連接孔變淺，第二導(dǎo)電層與導(dǎo)電墊層電連接即可實(shí)現(xiàn)與第一導(dǎo)電層的電連接，降低了第二導(dǎo)電層在連接孔臺(tái)階處的鋪設(shè)難度，第二導(dǎo)電層在連接孔臺(tái)階處較平緩，改善了連接孔中的斷線問(wèn)題。下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)的方案進(jìn)行更加詳細(xì)地說(shuō)明。如圖2和圖3所示，本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供一種顯示基板，包括：襯底基板21，在襯底基板21上層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層22、絕緣層23、第二導(dǎo)電層24；絕緣層內(nèi)設(shè)置有用于連接第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層的連接孔25；顯示基板還包括：設(shè)置于連接孔25中的導(dǎo)電墊層26；第二導(dǎo)電層24在連接孔25中通過(guò)導(dǎo)電墊層26與第一導(dǎo)電層22電連接。結(jié)合圖2和圖3，與上述現(xiàn)有技術(shù)的圖1對(duì)比可以看出，絕緣層的厚度與第二導(dǎo)電層的厚度差異越大，本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例的方案的效果越明顯。因此，較佳地，絕緣層的厚度大于第二導(dǎo)電層的厚度。例如，在一種可能的實(shí)施例中，絕緣層的材料包括有機(jī)材料；第二導(dǎo)電層的材料包括ITO。由于有機(jī)材料的膜層可以減小耦合電容，因此采用有機(jī)材料形成絕緣層，該結(jié)構(gòu)中，包括有機(jī)材料的膜層的厚度與ITO層的厚度相比，相差非常大，因而，采用本專(zhuān)利技術(shù)的方案改善效果更加明顯。為了進(jìn)一步改善斷線不良的問(wèn)題，具體實(shí)施時(shí)，如圖2所示，較佳地，導(dǎo)電墊層與第二導(dǎo)電層接觸的表面為曲面。由于接觸曲面相對(duì)接觸平面來(lái)說(shuō)，接觸面積更大，這樣，可以使得導(dǎo)電墊層與第二導(dǎo)電層之間的連接就更為牢固，從而進(jìn)一步改善了斷線的問(wèn)題，并且二者接觸面積增大之后，還利于降低接觸電阻，利于降低功耗。以上是從導(dǎo)電墊層與第二導(dǎo)電層一側(cè)的連接來(lái)說(shuō)的，同樣，也可以增大導(dǎo)電墊層與第一導(dǎo)電層之間的接觸面積，具體實(shí)施時(shí)，如圖2所示，較佳地，導(dǎo)電墊層與第一導(dǎo)電層接觸表面的面積大于連接孔與第二導(dǎo)電層接觸端的開(kāi)孔的面積。這樣，不僅增大了導(dǎo)電墊層與第一導(dǎo)電層的接觸面積，使得導(dǎo)電墊層與第一導(dǎo)電層之間的連接更為牢固，改善了斷線的問(wèn)題，也降低了二者的接觸電阻，進(jìn)一步降低功耗。具體實(shí)施時(shí)，為了使得第二導(dǎo)電層鋪設(shè)的更加平緩，進(jìn)一步改善斷線不良的問(wèn)題，較佳地，導(dǎo)電墊層的厚度小于絕緣層的厚度，且不小于絕緣層的厚度與第二導(dǎo)電層的厚度之差。基于以上任意實(shí)施例，較佳地，導(dǎo)電墊層的材料為金屬、合金、高分子有機(jī)物的導(dǎo)電材料或石墨烯。其中，導(dǎo)電墊層的材料可以是低電阻金屬或合金材料，例如，Al，Mo，Cu，Al/Mo，AlNd/Mo，等等。其中，高分子有機(jī)物的導(dǎo)電材料可以但不限于是聚3,4-乙撐二氧噻吩單體(PEDOT)。其中，導(dǎo)電墊層與第一導(dǎo)電層的材料可以相同，同種材料之間的連接更加牢固。本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例的方案中，顯示基板可以但不限于本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種顯示基板，其特征在于，包括：襯底基板，在襯底基板上層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層、絕緣層、第二導(dǎo)電層；所述絕緣層內(nèi)設(shè)置有用于連接所述第一導(dǎo)電層和所述第二導(dǎo)電層的連接孔；所述顯示基板還包括：設(shè)置于所述連接孔中的導(dǎo)電墊層；所述第二導(dǎo)電層在所述連接孔中通過(guò)所述導(dǎo)電墊層與所述第一導(dǎo)電層電連接。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種顯示基板，其特征在于，包括：襯底基板，在襯底基板上層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層、絕緣層、第二導(dǎo)電層；所述絕緣層內(nèi)設(shè)置有用于連接所述第一導(dǎo)電層和所述第二導(dǎo)電層的連接孔；所述顯示基板還包括：設(shè)置于所述連接孔中的導(dǎo)電墊層；所述第二導(dǎo)電層在所述連接孔中通過(guò)所述導(dǎo)電墊層與所述第一導(dǎo)電層電連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述導(dǎo)電墊層與所述第二導(dǎo)電層接觸的表面為曲面。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述導(dǎo)電墊層與所述第一導(dǎo)電層接觸表面的面積大于所述連接孔與所述第二導(dǎo)電層接觸端的開(kāi)孔的面積。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述絕緣層的厚度大于所述第二導(dǎo)電層的厚度。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述絕緣層的材料包括有機(jī)材料；所述第二導(dǎo)電層的材料包括氧化銦錫ITO。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述導(dǎo)電墊層的厚度小于所述絕緣層的厚度，且不小于所述絕緣層的厚度與所述第二導(dǎo)電層的厚度之差。7.根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項(xiàng)所述的顯示基板，其特征在于，所述導(dǎo)電墊層的材料為金屬、合...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：趙娜，元淼，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：京東方科技集團(tuán)股份有限公司，合肥京東方光電科技有限公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：北京,11