一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架制造技術(shù)

本實用新型專利技術(shù)提供一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，主要包括支架加強板（1）、樣品托板（2）和樣品放置口（3）。所述的支架加強板（1）與樣品托板（2）之間均采用緊固螺釘（4）緊固連接；所述的支架加強板（1）厚度為所述的樣品托板（2）厚度的兩倍至四倍之間；所述的樣品托板（2）上均勻設(shè)置有若干個樣品放置口（3）和若干個螺紋孔；所述的樣品放置口（3）呈“十”字型，中部是矩形通孔，上下端是矩形沉頭槽；所述的支架加強板（1）、樣品托板（2）和緊固螺釘（4）均采用不銹鋼制成。利用本實用新型專利技術(shù)所制得的膜厚測試樣品，鍍膜均勻，鍍膜效率高，成本低廉，測試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確，并且沒有傳統(tǒng)的玻璃基板破碎風(fēng)險。（*該技術(shù)在2022年保護(hù)過期，可自由使用*）

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及真空鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，尤其是涉及通過電子束蒸發(fā)鍍膜的一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架。
技術(shù)介紹
在真空鍍膜領(lǐng)域，為了形成一定厚度規(guī)格的鍍層薄膜，在批量鍍膜之前，需要通過對鍍膜的膜厚測試來對真空鍍膜工藝參數(shù)進(jìn)行測試調(diào)整，為此，必須使用鍍膜測試樣品進(jìn)行測試薄膜樣品制作，并且測量鍍膜測試樣品的實際膜厚，進(jìn)而調(diào)整鍍膜工藝。特別是在等離子電視機適用的等離子顯示屏測試和制造過程中，必須對等離子顯示屏的金屬氧化物如氧化鎂導(dǎo)電薄膜的膜厚進(jìn)行精確測試，以調(diào)整真空鍍膜設(shè)備的鍍膜工藝參數(shù)，減少鍍膜成品的不良率，提聞廣品質(zhì)量。目前，真空鍍膜領(lǐng)域中常用的是電子束蒸發(fā)鍍膜，該方法是依靠皮爾斯電子槍發(fā)射的高能電子束流轟擊靶材，使靶材受熱瞬間蒸發(fā)，最終沉積到相對位置的基片上，從而在基片上形成一層鍍膜。對于薄膜厚度控制中的膜厚測試項目，傳統(tǒng)的膜厚測試方法分為兩種:第一種，直接使用玻璃基板(母板)進(jìn)行鍍膜，然后切割成樣片，再用掃面電子顯微鏡進(jìn)行截面表征，測量出膜層厚度。該測試方法所需的樣品制作復(fù)雜，測試成本高，并且玻璃母板容易發(fā)生破碎，不宜量產(chǎn)應(yīng)用。第二種，使用高溫膠帶將載玻片貼附在玻璃基板(母板)上進(jìn)行鍍膜，然后用臺階儀測量膜層厚度。該測試方法由于仍然必須使用玻璃母板作為載體，測試成本依然比較高，并且仍然存在玻璃母板破碎風(fēng)險，同樣不適宜量產(chǎn)應(yīng)用。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的在于:針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，利用該支架制成的鍍膜測試樣品進(jìn)行膜厚測試，在保證測試精準(zhǔn)度的前提下，降低測試成本，減少測試作業(yè)量，并且避免玻璃基板破碎風(fēng)險，不影響量產(chǎn)設(shè)備稼動率。本技術(shù)的目的通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn):一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，主要包括支架加強板、樣品托板和樣品放置口。所述的支架加強板與樣品托板之間緊固連接，所述的樣品放置口設(shè)置在樣品托板上。所述的支架加強板呈細(xì)長矩形狀，其厚度為所述的樣品托板厚度的兩倍至四倍之間；所述的支架加強板共有兩條，并且以樣品托板長邊對稱軸為中心對稱分布在樣品托板的兩側(cè)邊緣；所述的支架加強板的長邊方向設(shè)置有若干個通孔，所有的通孔均沿著支架加強板長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布。所述的樣品托板是一個扁平矩形板，在托板上設(shè)置有若干個樣品放置口和若干個螺紋孔。所述的樣品放置口呈“十”字型，中部是矩形通孔，上下端是矩形沉頭槽；所有的樣品放置口均沿著樣品托板長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布，所有的螺紋孔以樣品托板長邊對稱軸為中心對稱均勻分布在樣品托板的兩側(cè)邊緣，并且與所述的支架加強板上的若干個通孔順序一一對應(yīng)。所述的支架加強板、樣品托板和緊固螺釘均采用不銹鋼制成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本技術(shù)一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，采用不銹鋼制成的鍍膜支架代替?zhèn)鹘y(tǒng)的玻璃基板(母板)，以載玻片為樣品，將載玻片放置于支架上，再進(jìn)入鍍膜設(shè)備進(jìn)行薄膜制備，然后對其膜厚進(jìn)行測量。使用本技術(shù)進(jìn)行膜厚測試，過程簡單，測試成本低廉，測試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確，并且沒有玻璃基板(母板)破碎風(fēng)險。附圖說明圖1為本技術(shù)一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架的俯視圖。圖2為本技術(shù)一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架的正視圖。圖3為本技術(shù)一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架的側(cè)視圖。具體實施方式以下結(jié)合附圖和具體實施例對本技術(shù)進(jìn)行詳細(xì)說明。如圖1 圖3所示，一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，主要包括支架加強板1、樣品托板2和樣品放置口 3。所述的支架加強板I呈細(xì)長矩形狀，其厚度為所述的樣品托板2厚度的兩倍至四倍之間；所述的支架加強板I的數(shù)量共有兩條，并且以樣品托板2長邊對稱軸為中心對稱分布在樣品托板2的兩側(cè)邊緣；在所述的支架加強板I的長邊方向設(shè)置有若干個通孔，所有的通孔均沿著支架加強板I長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布；所述的支架加強板I與樣品托板2之間均采用緊固螺釘4緊固連接。所述的樣品托板2是一個扁平矩形板，其上設(shè)置有若干個樣品放置口 3和若干個螺紋孔；所述的樣品放置口 3呈“十”字型，中部是矩形通孔，上下端是矩形沉頭槽；所有的樣品放置口 3均沿著樣品托板2長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布，所有的螺紋孔以樣品托板2長邊對稱軸為中心對稱均勻分布在樣品托板2的兩側(cè)邊緣，并且與所述的支架加強板I上的若干個通孔順序一一對應(yīng)。作為具體實施例，本技術(shù)一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，首先，必須根據(jù)所測量的鍍膜設(shè)備的托盤實際尺寸來具體確定出支架的總體尺寸，然后再根據(jù)所選取的載玻片規(guī)格來具體確認(rèn)出樣品放置口 3的尺寸規(guī)格，本實施例采20個樣品放置口 3，其相鄰距離為105mm，所述的支架加強板I與樣品托板2之間均采用Φ 10緊固螺釘4緊固連接。在實際測試過程中，首先將欲進(jìn)行鍍膜膜厚測試的載玻片放置在支架上的樣品放置口 3，具體放置數(shù)量及位置隨測試要求而定；再將支架整體放置在鍍膜設(shè)備的托盤上，并隨托盤進(jìn)入鍍膜腔室；載玻片樣品在隨著本支架進(jìn)入鍍膜設(shè)備的蒸鍍腔室后，按照具體測試要求，依據(jù)預(yù)先設(shè)置的工藝參數(shù)完成鍍膜制備過程，并形成膜厚測試樣品；在鍍膜完成后，取出支架整體，并取下載玻片，即得到鍍膜樣品，最后使用臺階儀測量鍍膜的實際膜厚，并對鍍膜樣品進(jìn)行相關(guān)特性檢測，根據(jù)檢測結(jié)果可以分析出最合適的最優(yōu)化鍍膜操作工藝參數(shù)，提高鍍膜質(zhì)量。由于本技術(shù)的支架加強板1、樣品托板2和緊固螺釘4均采用不銹鋼制成，而且所述的支架加強板I的厚度為所述的樣品托板2厚度的兩倍至四倍之間，可以確保在鍍膜操作的高溫環(huán)境中保持原狀而不變形，使鍍膜載玻片始終保持水平狀態(tài)，從而保證鍍膜均勻，膜厚一致，因此所測得膜厚數(shù)據(jù)準(zhǔn)確度很高；設(shè)置多個樣品放置口 3可以一次性地獲取多個鍍膜測試樣品，方便膜厚測試數(shù)據(jù)的累積綜合分析，大大降低了多次反復(fù)測試導(dǎo)致的測試成本，而且使用本技術(shù)也沒有傳統(tǒng)測試方法可能導(dǎo)致的玻璃基板破碎的風(fēng)險。以上所述僅為本技術(shù)的較佳實施例而已，并不用以限制本技術(shù)，應(yīng)當(dāng)指出的是，凡在本技術(shù)的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本技術(shù)的保護(hù)范圍之內(nèi)。權(quán)利要求1.一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，其特征在于:所述的支架包括支架加強板(I)、樣品托板(2)和樣品放置口(3)，所述的支架加強板(I)與樣品托板(2)之間緊固連接，所述的樣品放置口(3)設(shè)置在樣品托板(2)上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，其特征在于:所述的支架加強板(I)的數(shù)量是兩條，并且是以樣品托板(2)長邊對稱軸為中心對稱分布在樣品托板(2)的兩側(cè)邊緣。3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，其特征在于:單條所述的支架加強板(I)呈細(xì)長矩形狀，其厚度為所述的樣品托板(2)厚度的兩倍至四倍之間。4.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，其特征在于:所述的支架加強板(I)的長邊方向設(shè)置有若干個通孔，所有的通孔均沿著支架加強板(I)長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布。5.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，其特征在于:所述的樣品托板(2)是一個扁平矩形板，在所述的樣品托板(2)上設(shè)置有若干個樣品放置口(3)和若干個螺紋孔。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，其特征在于:所述的本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點】
一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架，其特征在于：所述的支架包括支架加強板（1）、樣品托板（2）和樣品放置口（3），所述的支架加強板（1）與樣品托板（2）之間緊固連接，所述的樣品放置口（3）設(shè)置在樣品托板（2）上。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李凱，段冰，彭開燁，
申請(專利權(quán))人：四川虹歐顯示器件有限公司，
類型：實用新型
國別省市：