一種真空鍍膜機的送絲機構制造技術

本發明專利技術提供一種真空鍍膜機的送絲機構，包括供絲線盤、送絲機構、出絲嘴及加熱坩堝，所述出絲嘴延伸至加熱坩堝內，所述送絲機構包括送絲轉軸、固定于送絲轉軸上的若干送絲輥、為送絲轉軸提供動力的動力裝置，所述送絲輥兩端設有護線套和壓線塊。本發明專利技術具有以下有益效果：通過送絲輥的不同直徑，控制對每個蒸發舟的送絲速度，從而控制送絲量，改善產品的方阻均勻性，提高產品質量；通過設置壓線塊，能夠對輸送中的金屬絲進行定位，并對鋁絲末端形成約束，從而能有效防止鋁絲末端在加熱源上滑動，進而防止產生的鋁渣飛濺到鍍鋁膜上對鍍鋁膜產生傷害，有效保證了鍍鋁膜的生產質量。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及金屬化薄膜制造
，具體來說是一種真空鍍膜機的送絲機構。
技術介紹
隨著現代薄膜科學技術的發展，特別是電容器用和包裝用金屬化薄膜的大規模工業運用，龐大的薄膜生產和薄膜加工產業已在世界形成。家用電器、電力電器、電子產品以及包裝產品需求迅速增加，從而使金屬化薄膜的需求量不斷增加，從而產生對高效率、高性能、多功能的薄膜蒸鍍設備需求越來越迫切。薄膜蒸鍍設備集機械、真空、鍍膜、制冷、自動控制等多學科技術為一體，是在高真空環境條件下(4×10-2Pa)將鋁或鋅通過高溫汽化蒸發到塑料薄膜基材上，從而使塑料薄膜基材金屬化的一種高科技先進設備。可廣泛運用于BOPP、OPP、PET、PC等塑料薄膜基材蒸鍍鋁膜及鋅鋁復合膜。現有蒸鍍系統主要存在的問題是：(1)鋁絲末端沒有約束，在蒸鍍作業時鋁絲末端難免會在加熱源上滑動，進而很可能導致鋁渣飛濺到鍍鋁膜上，在鍍鋁膜上燒出小孔，從而大大影響了塑料鍍鋁膜的質量；（2）電阻式加熱蒸發源是蒸發鍍膜設備最為關鍵的部件之一，蒸發源內部結構設計是成膜質量好壞的關鍵，現有技術中，蒸發物料很容易在口部沉積，口部沉積的物料很容易被蒸汽帶到薄膜上，而且在加熱的過程中很可能局部溫度過高產生物料飛濺，從而影響了成膜的性能。
技術實現思路
本專利技術的目的是為了解決現有技術中的缺陷，提供一種真空鍍膜機的送絲機構，以解決蒸發物料在坩堝蒸發口沉積凝結以及坩堝內部局部加熱不均勻引起物料飛濺到薄膜引起的缺陷，通過限位部件對鋁絲末端形成約束，從而能有效防止鋁絲末端在加熱源上滑動，進而防止產生的鋁渣飛濺到鍍鋁膜上對鍍鋁膜產生傷害，有效保證了鍍鋁膜的生產質量。為了實現上述目的，本專利技術的技術方案如下：一種真空鍍膜機的送絲機構，包括供絲線盤、送絲機構、出絲嘴及加熱坩堝，所述出絲嘴延伸至加熱坩堝內，所述送絲機構包括送絲轉軸、固定于送絲轉軸上的若干送絲輥、為送絲轉軸提供動力的動力裝置，所述送絲輥兩端設有護線套和壓線塊；所述加熱坩堝包括用于容納被加熱物料的容納腔、圍繞在所述容納腔外圍的加熱腔、以及包圍所述加熱腔的外壁，所述加熱腔內由上往下依次設有用于保證坩堝蒸發口的溫度高于蒸發物料凝點并獨立控溫的上部加熱單元、位于坩堝外圍獨立控溫的下部加熱單元，所述加熱腔頂部設有用于所述被加熱物料通過的流道，所述流道的頂端設置有開口，所述流道的兩端的直徑大于所述流道中部的直徑，所述流道的設置有所述開口的一端的直徑小于所述容納腔的內徑。通過送絲輥的不同直徑，控制對每個蒸發舟的送絲速度，從而控制送絲量，改善產品的方阻均勻性，提高產品質量；通過設置護線套，防止金屬絲在輸送過程中受損或卡斷，保障輸送的持續性和順暢性；通過設置壓線塊，能夠對輸送中的金屬絲進行定位，并對鋁絲末端形成約束，從而能有效防止鋁絲末端在加熱源上滑動，進而防止產生的鋁渣飛濺到鍍鋁膜上對鍍鋁膜產生傷害，有效保證了鍍鋁膜的生產質量。雙供熱系統設計，便于控制坩堝不同部分的溫度，頂部的溫度略高于材料蒸發溫度，可以避免材料的凝結；通過精確控制蒸發溫度，實現了材料蒸發速率的穩定，流道為向外擴張的喇叭狀，有利于穩定氣態分子流。優選地，所述加熱腔和外壁之間設有熱屏蔽層。設有熱屏蔽層，對整個加熱腔隔熱保溫，防止加熱腔內部熱量的散失。優選地，所述上部加熱單元和下部加熱單元的加熱裝置為圍繞所述加熱腔螺旋延伸的電阻絲。電阻絲圍繞所述加熱腔均勻的螺旋延伸。這里的均勻的螺旋延伸是指相鄰螺圈間的距離相等，以保證加熱介質對被加熱材料均勻加熱。本專利技術與現有技術相比，具有以下有益效果：通過送絲輥的不同直徑，控制對每個蒸發舟的送絲速度，從而控制送絲量，改善產品的方阻均勻性，提高產品質量；通過設置護線套，防止金屬絲在輸送過程中受損或卡斷，保障輸送的持續性和順暢性；通過設置壓線塊，能夠對輸送中的金屬絲進行定位，并對鋁絲末端形成約束，從而能有效防止鋁絲末端在加熱源上滑動，進而防止產生的鋁渣飛濺到鍍鋁膜上對鍍鋁膜產生傷害，有效保證了鍍鋁膜的生產質量。雙供熱系統設計，便于控制坩堝不同部分的溫度，頂部的溫度略高于材料蒸發溫度，可以避免材料的凝結；通過精確控制蒸發溫度，實現了材料蒸發速率的穩定。附圖說明圖1為本專利技術的結構示意圖。圖2為本專利技術的加熱坩堝結構示意圖。圖中：1、容納腔；2、加熱腔；3、外壁；4、上部加熱單元；5、下部加熱單元；6、流道；7、熱屏蔽層；8、電阻絲；9、供絲線盤；10、出絲嘴；11、送絲轉軸；12、送絲輥；13、護線套；14、壓線塊。具體實施方式為使對本專利技術的結構特征及所達成的功效有更進一步的了解與認識，用以較佳的實施例及附圖配合詳細的說明，說明如下：一種真空鍍膜機的送絲機構，包括供絲線盤9、送絲機構、出絲嘴10及加熱坩堝，所述出絲嘴10延伸至加熱坩堝內，所述送絲機構包括送絲轉軸11、固定于送絲轉軸11上的若干送絲輥12、為送絲轉軸11提供動力的動力裝置，所述送絲輥12兩端設有護線套13和壓線塊14；所述加熱坩堝用于容納被加熱物料的容納腔1、圍繞在所述容納腔1外圍的加熱腔2、以及包圍所述加熱腔2的外壁3，所述加熱腔2內由上往下依次設有用于保證坩堝蒸發口的溫度高于蒸發物料凝點并獨立控溫的上部加熱單元4、位于坩堝外圍獨立控溫的下部加熱單元5，所述加熱腔2頂部設有用于所述被加熱物料通過的流道6，所述流道6的頂端設置有開口，所述流道6的兩端的直徑大于所述流道6中部的直徑，所述流道6的設置有所述開口的一端的直徑小于所述容納腔1的內徑。通過送絲輥的不同直徑，控制對每個蒸發舟的送絲速度，從而控制送絲量，改善產品的方阻均勻性，提高產品質量；通過設置護線套，防止金屬絲在輸送過程中受損或卡斷，保障輸送的持續性和順暢性；通過設置壓線塊，能夠對輸送中的金屬絲進行定位，并對鋁絲末端形成約束，從而能有效防止鋁絲末端在加熱源上滑動，進而防止產生的鋁渣飛濺到鍍鋁膜上對鍍鋁膜產生傷害，有效保證了鍍鋁膜的生產質量。雙供熱系統設計，便于控制坩堝不同部分的溫度，頂部的溫度略高于材料蒸發溫度，可以避免材料的凝結；通過精確控制蒸發溫度，實現了材料蒸發速率的穩定，流道6為向外擴張的喇叭狀，有利于穩定氣態分子流。所述加熱腔2和外壁3之間設有熱屏蔽層7。設有熱屏蔽層7，對整個加熱腔2隔熱保溫，防止加熱腔2內部熱量的散失。所述上部加熱單元4和下部加熱單元5的加熱裝置為圍繞所述加熱腔2螺旋延伸的電阻絲8。電阻絲8圍繞所述加熱腔2均勻的螺旋延伸。這里的均勻的螺旋延伸是指相鄰螺圈間的距離相等，以保證加熱介質對被加熱材料均勻加熱。以上顯示和描述了本專利技術的基本原理、主要特征和本專利技術的優點。本行業的技術人員應該了解，本專利技術不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是本專利技術的原理，在不脫離本專利技術精神和范圍的前提下本專利技術還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本專利技術的范圍內。本專利技術要求的保護范圍由所附的權利要求書及其等同物界定。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種真空鍍膜機的送絲機構，其特征在于：包括供絲線盤（9）、送絲機構、出絲嘴（10）及加熱坩堝，所述出絲嘴（10）延伸至加熱坩堝內，所述送絲機構包括送絲轉軸（11）、固定于送絲轉軸（11）上的若干送絲輥（12）、為送絲轉軸（11）提供動力的動力裝置，所述送絲輥（12）兩端設有護線套（13）和壓線塊（14）；所述加熱坩堝包括用于容納被加熱物料的容納腔（1）、圍繞在所述容納腔（1）外圍的加熱腔（2）、以及包圍所述加熱腔（2）的外壁（3），所述加熱腔（2）內由上往下依次設有用于保證坩堝蒸發口的溫度高于蒸發物料凝點并獨立控溫的上部加熱單元（4）、位于坩堝外圍獨立控溫的下部加熱單元（5），所述加熱腔（2）頂部設有用于所述被加熱物料通過的流道（6），所述流道（6）的頂端設置有開口，所述流道（6）的兩端的直徑大于所述流道（6）中部的直徑，所述流道（6）的設置有所述開口的一端的直徑小于所述容納腔（1）的內徑。

【技術特征摘要】
1.一種真空鍍膜機的送絲機構，其特征在于：包括供絲線盤（9）、送絲機構、出絲嘴（10）及加熱坩堝，所述出絲嘴（10）延伸至加熱坩堝內，所述送絲機構包括送絲轉軸（11）、固定于送絲轉軸（11）上的若干送絲輥（12）、為送絲轉軸（11）提供動力的動力裝置，所述送絲輥（12）兩端設有護線套（13）和壓線塊（14）；所述加熱坩堝包括用于容納被加熱物料的容納腔（1）、圍繞在所述容納腔（1）外圍的加熱腔（2）、以及包圍所述加熱腔（2）的外壁（3），所述加熱腔（2）內由上往下依次設有用于保證坩堝蒸發口的溫度高于蒸發物料凝點并獨立控溫的上部加熱單...

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉同林，
申請(專利權)人：銅陵市超越電子有限公司，
類型：發明
國別省市：安徽;34