一種改善平面靶鍍膜均勻性的屏蔽罩制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種磁控濺射鍍膜機(jī)平面靶的屏蔽罩帶氣流擋板，用來改善鍍膜均勻性，屬于薄膜太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明專利技術(shù)目的是提供一種PVD鍍膜機(jī)用的能夠改善鍍膜均勻性的屏蔽罩裝置和屏蔽方法，以求改善鍍膜均勻性提高薄膜太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。本發(fā)明專利技術(shù)的技術(shù)特征屏蔽罩（10）有保護(hù)氣管（9）上氣流小孔氣的氣流擋板（11）使氣流充分混合的的疏流裝置。方法是用屏蔽罩（10）上帶有氣流擋板（11），其間有一小長(zhǎng)狹縫，用氣流擋板（11）合圍氣管（9）保護(hù)其上的小孔不被轟擊。本發(fā)明專利技術(shù)顯著的改善了膜層的均勻性和鍍膜質(zhì)量。提高了鍍膜機(jī)的鍍膜質(zhì)量。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種改善平面靶鍍膜均勻性的屏蔽罩，包括真空腔體，平面靶及基片，其特征在于屏蔽罩（10）上有一個(gè)氣流疏流裝置，該裝置保護(hù)氣管（9）上出氣的小氣孔,所說的屏蔽罩（10）與氣流疏流裝置之間有一條狹長(zhǎng)的朝向靶材（12）的縫隙（R）。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李毅，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：深圳市創(chuàng)益科技發(fā)展有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：