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本發(fā)明涉及一種磁控濺射鍍膜機(jī)平面靶的屏蔽罩帶氣流擋板，用來(lái)改善鍍膜均勻性，屬于薄膜太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明目的是提供一種PVD鍍膜機(jī)用的能夠改善鍍膜均勻性的屏蔽罩裝置和屏蔽方法，以求改善鍍膜均勻性提高薄膜太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。本發(fā)明的技術(shù)...該專(zhuān)利屬于深圳市創(chuàng)益科技發(fā)展有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)深圳市創(chuàng)益科技發(fā)展有限公司授權(quán)不得商用。