多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開一種多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，包括至少一個鍍膜室，鍍膜室內壁上具有用于磁控濺射鍍膜的可交替使用的立式靶和傾斜靶，對應立式靶在鍍膜室內設置移動式的立式基材承載架，對應傾斜靶在鍍膜室內設置移動式的傾斜式基材承載架。通過在鍍膜室的靶位口處設置可交替使用的立式靶和傾斜靶，并對應設置立式基材承載架和傾斜式基材承載架，使得鍍膜基材在不同要求時可以選用不同的靶材進行鍍膜，并且立式靶和傾斜靶的可交替使用，還可以使得鍍膜室能適應更多規格的產品鍍膜，提高鍍膜裝置的通用性。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及磁控濺射鍍膜
，尤其涉及一種多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置。
技術介紹
磁控濺射鍍膜技術是當前廣泛應用的真空鍍膜技術方法，被普遍應用于光學、微電子、耐磨、耐蝕、裝飾等產業領域，用以提供可靠而穩定的薄膜鍍層，可為被鍍膜產品提供某方面特定性能。比如在玻璃表面鍍一層ITO薄膜，可以形成透明導電玻璃，用以生產LCD顯示器、觸摸屏等。磁控濺射技術主要通過在濺射靶上的電場在稀薄氣體狀態下激發等離子體，通過磁場和電場的聯合控制下使正離子轟擊安裝在祀上的被派射祀材，使祀材物質以原子、分子狀態被濺射到襯底上，進而形成需要的功能薄膜。連續式磁控濺射鍍膜設備是通過多個真空腔室串聯連接，分成大氣向粗真空過渡室，粗真空向高真空過渡室，鍍膜室等不同功能區，各個區真空系統獨立，之間可以進行密封的傳送。通過這一設計可以有效的減少抽真空時間，可以一片接一片連續的進行磁控濺射鍍膜。其主要應用于大面積的平板基材表面鍍膜，如玻璃。當前的連續式磁控濺射鍍膜設備按鍍膜基材擺放的角度主要分為三類:1、立式:立式設備與水平面垂直，鍍膜基材是垂直通過設備，鍍膜過程也是垂直的，例如，中國專利文獻CN102181839A公開一種“同端進出式連續濺射鍍膜設備”，其包括真空腔體和真空抽氣裝置，所述真空抽氣裝置與真空腔體相連通，其特征在于所述真空腔體由相鄰且相通的預抽室和濺射室兩個真空室構成，兩個真空室之間設有隔離閥，腔體的末端和前端分別設有盲法蘭和真空鎖閥，所述真空鎖閥外側設有一個裝卸片臺，在濺射室內設置有工件架傳輸裝置，在預抽室內裝有復合傳輸裝置，所述濺射室內裝有至少三對相對布置的磁控濺射靶，所述工件架傳輸裝置能夠與工件架相配合，并能將工件架從裝卸片臺依次輸送到預抽室、濺射室，并從原路輸送回到裝卸片臺。對于此鍍膜設備，其鍍膜過程受真空腔體內跌落的顆粒等污物的污染最小，最適宜于對潔凈度要求高的鍍膜產品，如ITO玻璃鍍膜等。但是此鍍膜方式具有以下缺陷:a、采用立式設備時，鍍膜基材的固定裝夾比較困難，采用夾具固定會在固定位置處留下夾具印，導致邊緣存在無效區，鍍膜工藝較難控制，同時也不便于鍍多種大小規格的基材；b、此鍍膜方式是采用同端進出鍍膜室鍍膜，這樣的鍍膜輔助用時間較長，生產效率不高，浪費能源。2、臥式:臥式設備與水平面平行，鍍膜基材是水平通過設備，鍍膜過程也是水平的，對于臥式設備，其鍍膜過程不需要夾具，不存在無效區，也可以同時鍍各種大小規格基材，效率高，應用方便。但是其主要的問題是，腔體跌落的顆粒等污物會掉在基材上，其只能應用于對基材潔凈度要求不高的領域。3、傾斜式:傾斜式設備與水平面成一定角度斜立擺放，鍍膜基材是斜立著通過設備，鍍膜過程也是斜立的，對于傾斜式設備，綜合了兩種設備的優點，但由于設備整體傾斜，其安裝加工都較困難。
技術實現思路
本技術的一個目的，在于提供一種多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其既可立式也可傾斜安裝鍍膜基材，不僅能滿足不同基材鍍膜的需要，還能有效防止腔體內跌落的顆粒等污物掉在基材上，保證基材不被污染，進而提聞鍛I吳質量。為達上述目的，本技術采用以下技術方案:一種多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，包括至少一個鍍膜室，其特征在于，所述鍍膜室內壁上具有用于磁控濺射鍍膜的可交替使用的立式靶和傾斜靶，對應所述立式靶在所述鍍膜室內設置移動式的立式基材承載架，對應所述傾斜靶在所述鍍膜室內設置移動式的傾斜式基材承載架。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述鍍膜室的第一側面開有靶位口，所述靶位口的一側轉動設置第一靶位門板，所述靶位口的另一側轉動設置第二靶位門板，以使所述第一靶位門板與所述第二靶位門板能交替的關閉在所述靶位口處。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述第一靶位門板上至少設置一個立式靶座，在所述立式靶座上拆卸式安裝有所述立式靶，所述第二靶位門板上至少設置一個傾斜靶座，在所述傾斜靶座上拆卸式安裝有所述傾斜靶。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述立式基材承載架的一端設置有第一滑行凹槽，另一端設置第一傳動摩擦部，所述鍍膜室內側頂部對應所述第一滑行凹槽設置直立導向輪，所述鍍膜室內側底部對應所述第一傳動摩擦部設置摩擦傳動輪，所述摩擦傳動輪通過傳動轉軸與所述鍍膜室外部的動力裝置連接，所述傳動轉軸與所述鍍膜室接觸處設置用于密封的磁流體密封件；在所述直立導向輪的一側設置傾斜導向輪，對應所述傾斜導向輪在所述傾斜式基材承載架端部設置第二滑行凹槽，在所述傾斜式基材承載架遠離所述第二滑行凹槽的一端設置與所述摩擦傳動輪相匹配的第二傳動摩擦部。優選的，所述摩擦傳動輪為圓形輪，其與傳動摩擦部接觸處設置有容納所述傳動摩擦部的環形凹槽，以使所述傳動摩擦部能剛好嵌入到摩擦傳動輪的環形凹槽內，并能有效的實現導向，同時保證基材承載架在運動過程中不會左右搖擺甚至偏倒。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述立式靶座的座面與地面呈垂直設置，對應的立式靶的靶面、直立基材承載架的架面也均與地面呈垂直設置，所述傾斜靶座的座面與地面呈夾角α設置，對應的傾斜靶的靶面、傾斜式基材承載架的架面也均與地面呈夾角α設置。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述第一靶位門板上平行設置兩個所述立式靶座，所述第二靶位門板上平行設置兩個所述傾斜靶座。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，還包括分別設置在所述鍍膜室兩側的第一鍍膜緩沖室和第二鍍膜緩沖室，所述第一鍍膜緩沖室遠離鍍膜室的一側設置第一過渡室，所述第二鍍膜緩沖室遠離鍍膜室的一側設置第二過渡室，所述第一過渡室遠離第一鍍膜緩沖室的一側設置進片室，所述第二過渡室遠離第二鍍膜緩沖室的一側設置出片室，所述進片室與第一過渡室之間、所述第一過渡室與第一鍍膜緩沖室之間、所述第二鍍膜緩沖室與第二過渡室之間、所述第二過渡室與出片室之間均設置用于隔絕各個腔室的隔離閥門，所述第一鍍膜緩沖室、鍍膜室、第二鍍膜緩沖室之間呈貫通設置。通過在各個腔室之間設置隔離閥門，使得各個腔室在使用過程中保持獨立狀態，并且對應各個腔室均設置真空泵機組，可以獨立的對各個腔室進行抽取真空，這樣可以在連續送入和送出產品過程中不破壞鍍膜室內的真空狀態，保證鍍膜工作的正常運行。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述傾斜靶座的座面、傾斜靶的靶面、傾斜式基材承載架的架面與地面的夾角α為銳角。優選的，所述夾角α為83°。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述進片室、第一過渡室、第一鍍膜緩沖室、鍍膜室、第二鍍膜緩沖室、第二過渡室以及出片室上分別獨立設置真空泵機組，使各個腔室能獨立抽取真空。優選的，所述進片室、第一過渡室、第一鍍膜緩沖室、第二鍍膜緩沖室、第二過渡室、出片室內均設置有與鍍膜室內部相同設置的直立導向輪、傾斜導向輪、摩擦傳動輪、傳動轉軸、磁流體密封件，且均在各腔室外部對應位置設置控制摩擦傳動輪勻速轉動的電機，使得基材承載架能連續的由進片室、第一過渡室、第一鍍膜緩沖室進入鍍膜室鍍膜，鍍膜完成后由第二鍍膜緩沖室、第二過渡室、出片室送出，使得整個生產可連續性，提高生產效率，減少生產輔助工序。作為多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置的一種優選方案，所述第一靶位門板周邊設置用于與所述靶位本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，包括至少一個鍍膜室，其特征在于，所述鍍膜室內壁上具有用于磁控濺射鍍膜的可交替使用的立式靶和傾斜靶，對應所述立式靶在所述鍍膜室內設置移動式的立式基材承載架，對應所述傾斜靶在所述鍍膜室內設置移動式的傾斜式基材承載架。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳宇，
申請(專利權)人：廣東志成冠軍集團有限公司，
類型：實用新型
國別省市：