一種真空陰極電弧蒸發源的氣動式引弧裝置制造方法及圖紙

一種真空陰極電弧蒸發源的氣動式引弧裝置，包括引弧針、活塞延伸桿、活塞組件、密封絕緣件、動密封、動密封壓墊、活塞組件支撐件，所述動密封壓墊被所述活塞組件支撐件壓緊在所述動密封上，還包括金屬的引弧器底座，所述引弧器底座通過其中部套孔套裝在所述活塞延伸桿上并與電弧蒸發源連接法蘭固定連接，所述密封絕緣件夾裝在所述引弧器底座與電弧蒸發源連接法蘭之間，所述引弧器底座后端底面上具有伸入所述密封絕緣件與所述活塞延伸桿之間、用于隔開它們的凸起，所述活塞組件支撐件固定在所述引弧器底座的前端面上，所述動密封嵌裝在所述引弧器底座的前端面內。本實用新型專利技術能減少不良品率，降低生產成本。?（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種真空陰極電弧蒸發源的氣動式引弧裝置。
技術介紹
真空陰極電弧沉積是當前離子鍍工模具用和裝飾用硬質保護薄膜的主流技術之一。具體的鍍膜過程如下:真空陰極電弧蒸發源安裝在真空鍍膜室側壁上，蒸發源前端穿入真空鍍室內，其上的鍍料--靶塊面朝著真空鍍室內的待鍍工件，由弓I弧裝置在靶塊表面弓I燃成簇的真空電弧微弧斑，弧斑區的高溫和場致效應作用讓靶材蒸發生成金屬蒸氣，并電離成等離子體向空間發射，在工件表面沉積成薄膜。引弧裝置是陰極電弧蒸發源不可或缺的組成部分。目前國產的陰極電弧蒸發源大多采用機械接觸式引弧裝置，有氣動和電動兩種。圖1是現在常用的氣動引弧裝置的結構示意圖，主要由活塞組件1-11、活塞延伸桿1-4、引弧針1-2、密封絕緣件1-6、動密封1-7、動密封壓墊1-8和活塞組件支承件1-10組成?；钊M件1-11多為外購件。如圖1所示，活塞組件支承件1-10把活塞組件1-11垂直固定在電弧蒸發源連接法蘭1-5外側，活塞延伸桿1-4與活塞組件1-11同軸設置，相對的端面上通過連接螺桿1-9將兩者固定連接?；钊由鞐U1-4前端穿過電弧蒸發源連接法蘭1-5上開孔進入電弧蒸發源連接法蘭1-5的內偵U。動密封壓墊1-8、動密封1-7、密封絕緣件1-6依次套裝在活塞延伸桿1-4上。其中，密封絕緣件1-6設置在電弧蒸發源連接法蘭1-5外側開孔處，動密封1-7嵌裝在密封絕緣件1-6的外端面內，動密封壓墊1-8通過活塞組件支撐件1-10壓裝在所述動密封1-7和密封絕緣件1-6上，以保證活塞延伸桿1-4與電弧蒸發源連接法蘭1-5之間的密封性。引弧針1-2通過壓緊螺釘1-3夾裝在活塞延伸桿1-4的前端，與活塞延伸桿1-4構成直角桿狀，弓丨弧針的前端具有朝向靶塊1-1表面的彎頭。引弧過程如下:當活塞組件1-11后退運動時，帶動活塞延伸桿1-4后退，活塞延伸桿1-4前端連接的引弧針1-2的彎頭觸碰到靶塊1-1表面。陰極電弧蒸發源的靶塊1-1接蒸發源的電源負極，活塞組件1-11及引弧針1-2接電源正極，在引弧針1-2與靶塊1-11接觸瞬間，流過短路大電流；隨即，活塞組件1-11反向運動，帶動活塞延伸桿1-4和引弧針1-2向前運動，引弧針1-2前端彎頭離開靶塊1-1表面，在此分離瞬間，在引弧針1-2與靶塊1-1原接觸面一些突起尖端處集中著非常高的電流密度，會引燃起電弧，生成成簇的電弧微弧斑。以上完成一次引燃電弧過程?，F常用的引弧裝置在使用時存在如下缺點:1)活塞延伸桿1-4在引弧時通過大電流會發熱，尤其在真空室內 封絕緣件1-6、動密封1-7和動密封壓墊1-8。首當其沖的是密封絕緣件1-6，它一般是用聚四氟乙烯制成的，長時間受熱下常出現變形，易破壞電弧蒸發源連接法蘭1-5與活塞延伸桿1-4之間的真空密封，出現漏氣問題。2)活塞延伸桿1-4較長，中間定位只通過橡膠或塑料的密封絕緣件1-6，起不了很好的準直作用，活塞延伸桿1-4會出現空間上的擺動，從而導致引弧針1-2與靶塊1-1的觸點移位。3)活塞延伸桿1-4與活塞組件1-11之間靠連接螺桿1-9連接，在活塞組件1_11前后運動的振動沖擊下，會導致連接螺桿1-9松動，即活塞延伸桿1-4會轉動和前移，進而帶動引弧針1-2轉動及遷移，造成引弧針1-2位置偏移且增大了引弧針1-2離靶塊1-1表面的距離，使引弧針1-2彎頭無法與靶塊1-1表面接觸而無法引弧，必須破真空進行調整。
技術實現思路
本技術所要解決的技術問題是，提供一種能減少不良品率，提高生產效率，降低生產成本的氣動式引弧裝置。本技術通過如下技術方案解決其技術問題，一種真空陰極電弧蒸發源的氣動式弓I弧裝置，包括引弧針、活塞延伸桿、活塞組件、密封絕緣件、動密封、動密封壓墊、活塞組件支撐件，所述動密封壓墊被所述活塞組件支撐件壓緊在所述動密封上，其特征在于，還包括金屬的引弧器底座，所述引弧器底座通過其中部套孔套裝在所述活塞延伸桿上并與電弧蒸發源連接法蘭固定連接，所述密封絕緣件夾裝在所述引弧器底座與電弧蒸發源連接法蘭之間，所述引弧器底座后端底面上具有伸入所述密封絕緣件與所述活塞延伸桿之間、用于隔開它們的凸起，所述活塞組件支撐件固定在所述引弧器底座的前端面上，所述動密封嵌裝在所述弓I弧器底座的前端面內。本技術此處通過金屬的引弧器底座隔開密封絕緣件和活塞延伸桿，使密封絕緣件不直接與較高溫的活塞延伸桿接觸，不易在較高溫的活塞延伸桿的作用下發生形變而破壞電弧蒸發源連接法蘭與活塞延伸桿之間的密封性，從而造成漏氣的問題；另外，本技術的動密封是嵌裝在金屬的引弧器底座內，由于引弧器底座體積和熱容都較大，故動密封受較高溫的活塞延伸桿的影響不會太大，能保持良好的真空密封性；而保持電弧蒸發源連接法蘭內側的真空密封性，有利于減少產品的不良品率，提高生產效率，降低生產成本。所述密封絕緣件為一具有外翻邊的絕緣套筒,所述絕緣套筒的外徑與所述電弧蒸發源連接法蘭上開孔孔徑相適配，安裝后，所述絕緣套筒的外翻邊夾裝在所述引弧器底座底面與所述電弧蒸發源連接法蘭之間，所述絕緣套筒伸入所述電弧蒸發源連接法蘭上開孔的內側。作為對本技術的一種改進，引弧器底座后端底面上的凸起為環形凸起，所述環形凸起為所述引弧器底座上套孔孔壁的延伸，構成所述活塞延伸桿在所述引弧器底座上的準直孔，所述準直孔長度范圍為50—75mm。上述準直孔可限制活塞延伸桿在空間的擺動，使弓I弧針彎頭能更準確的碰觸到靶塊表面位置。作為對本技術的進一步改進，所述活塞延伸桿和活塞組件一體成型形成所述引弧裝置的活塞桿，如此即可避免由于原活塞延伸桿和原活塞組件之間連接松動、造成的引弧針位置偏移或引弧針離靶塊表面距離增大而出現的引弧針彎頭無法與靶塊表面接觸無法引弧、必須破真空進行調整的問題。所述活塞桿尾端具有軸向的劈口，使活塞桿尾端形成非圓形桿狀結構，所述引弧裝置還包括防轉片，所述防轉片上具有與活塞桿尾端劈口段相適配的非圓形開孔，所述防轉片平行固定在所述活塞組件支撐件上，并通過其上的非圓形開孔套裝在活塞桿尾端的劈口段上，從而保證活塞桿只作往復直線運動而不發生轉動，更進一步的防止由于活塞桿轉動而造成的引弧針移位的問題。所述的活塞組件支撐件為固定在所述防轉片與所述引弧器底座之間的用于驅動所述活塞桿作往復直線運動的氣缸。所述氣缸包括下氣缸蓋、氣缸壁套和上氣缸蓋，還包括用于調節活塞桿行程的行程調節墊圈；所述上、下氣缸蓋都為蓋形，具有蓋沿，其中所述下氣缸蓋內側向上，所述上氣缸蓋內側向下，所述氣缸壁套為筒形，所述上、下氣缸蓋分別從所述氣缸壁套的上、下端扣合在所述氣缸壁套上，氣缸壁套兩端的外壁分別通過密封圈與上、下氣缸蓋的蓋沿內側密封，所述行程調節墊圈支撐在上、下氣缸蓋沿的相對面間，下氣缸蓋固定在所述引弧器底座上，所述引弧裝置還包括用于使所述防轉片始終套裝在活塞桿尾端劈口段合適位置處的補償墊，所述補償墊平行設于所述上氣缸蓋與所述防轉片之間，所述上、下氣缸蓋中部都開有中孔，所述活塞桿軸向穿過所述氣缸壁套和上、下氣缸蓋的中孔，并分別通過密封圈與所述上、下氣缸蓋的中孔的內壁實現可滑動的密封連接，所述活塞桿上具有一體成型的環翼，所述環翼為活塞桿上徑向凸出的圓環，所述環翼處于所述上、下氣缸蓋和氣缸壁套圍合的空間內本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種真空陰極電弧蒸發源的氣動式引弧裝置，包括引弧針、活塞延伸桿、活塞組件、密封絕緣件、動密封、動密封壓墊、活塞組件支撐件，所述動密封壓墊被所述活塞組件支撐件壓緊在所述動密封上，其特征在于，還包括金屬的引弧器底座，所述引弧器底座通過其中部套孔套裝在所述活塞延伸桿上并與電弧蒸發源連接法蘭固定連接，所述密封絕緣件夾裝在所述引弧器底座與電弧蒸發源連接法蘭之間，所述引弧器底座后端底面上具有伸入所述密封絕緣件與所述活塞延伸桿之間、用于隔開它們的凸起，所述活塞組件支撐件固定在所述引弧器底座的前端面上，所述動密封嵌裝在所述引弧器底座的前端面內。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李志榮，李志方，羅志明，李秋霞，
申請(專利權)人：東莞市匯成真空科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：