【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
陰極弧離子鍍制備AlCrN涂層的裝置，包括電弧發生系統、環境控制系統、工作平臺系統和溫度控制裝置，所述的工作平臺系統由工作臺、伺服電機、偏壓電源和沉積室組成，Ar進氣口與N2進氣口對稱分布于沉積室底部兩側，工作臺安裝在沉積室內部底端的中間，工作臺上設有基片，工作臺底端與位于沉積室外部底端的伺服電機輸出軸相連，連接處密封，偏壓電源與伺服電機相連，環境控制系統包括真空泵，真空泵設在沉積室頂端中部，溫度控制裝置為一般閉環控制系統中常用的PID溫度控制裝置，PID溫度控制裝置中的溫度傳感器安裝在工作臺上，溫度控制系統其它部分安裝在沉積室外部，電弧發生系統包括Cr靶及其脈沖電源U1、Al靶及其脈沖電源U2和電弧觸發器，Cr靶的脈沖電源U1和Al靶的脈沖電源U2位于沉積室外部頂端兩側，Cr靶和Al靶位于沉積室內部頂端兩側，脈沖電源U1通過導線與Cr靶連接，脈沖電源U2通過導線與Al靶連接，兩個電弧觸發器分別位于Cr靶和Al靶的下方，通過電弧觸發器引弧，其特征在于：分別在Cr靶和Al靶背面安裝磁極。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：孔德軍，付貴忠，王文昌，吳永忠，蔡金龍，張壘，龍丹，葉存冬，
申請(專利權)人：常州大學，
類型：發明
國別省市：
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