一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置制造方法及圖紙

一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于：包括一真空反應(yīng)腔；一基板架；一CO2激光器；一He-Ne激光器；一分束鏡，位于真空反應(yīng)腔外并呈45度角設(shè)于CO2激光器與He-Ne激光器所發(fā)出的激光束的相交位置處；一聚焦凸透鏡；一散焦凹透鏡；一鉗鍋，用以盛放待蒸發(fā)材料；以及一反射鏡，設(shè)位于所述鉗鍋上方，用以將所述激光器發(fā)出的激光在由外而內(nèi)依次經(jīng)過分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口后，反射至所述鉗鍋內(nèi)，對鉗鍋內(nèi)的待蒸發(fā)材料進行激光加熱蒸發(fā)，從而在基板架上的基材或基片表面氣相沉積出含有所述待蒸發(fā)材料的膜層。本實用新型專利技術(shù)結(jié)構(gòu)簡單，可對高熔點金屬材料進行非接觸式加熱使其蒸發(fā)而實現(xiàn)激光蒸發(fā)鍍膜，且不會污染真空反應(yīng)腔體。（*該技術(shù)在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

: 本技術(shù)涉及一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置。技術(shù)背景:傳統(tǒng)的蒸發(fā)鍍膜裝置，采用接觸式加熱，會污染真空腔體。另外，其加熱熔點較低，無法對高熔點金屬材料進行加熱使其蒸發(fā)。故有必要對現(xiàn)有技術(shù)作出改進，以提供一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，實現(xiàn)非接觸式加熱，且不會污染真空反應(yīng)腔體。
技術(shù)實現(xiàn)思路
:本技術(shù)的目的在于提供一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)簡單，可對高熔點金屬材料進行非接觸式加熱使其蒸發(fā)而實現(xiàn)激光蒸發(fā)鍍膜，且不會污染真空反應(yīng)腔體。一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:包括一真空反應(yīng)腔，該真空反應(yīng)腔的側(cè)壁密封設(shè)有一窗口 ；一基板架，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)，用以放置待鍍膜基板或基片；— CO2激光器,位于真空反應(yīng)腔外并水平設(shè)置,其激光橫向發(fā)射并與所述窗口相對；—He-Ne激光器,位于真空反應(yīng)腔外并垂直設(shè)置,其激光縱向發(fā)射；一分束鏡，位于真空反應(yīng)腔外并呈45度角設(shè)于CO2激光器與He-Ne激光器所發(fā)出的激光束的相交位置處；—聚焦凸透鏡，設(shè)于分束鏡與窗口之間的光路上；一散焦凹透鏡，設(shè)于聚焦凸透鏡與窗口之間的光路上；一鉗鍋，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)并位于基板架的下方，用以盛放待蒸發(fā)材料；以及一反射鏡，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)，并位于所述激光器、分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口所共同形成的光路上，且位于所述鉗鍋上方，用以將所述激光器發(fā)出的激光在由外而內(nèi)依次經(jīng)過分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口后，反射至所述鉗鍋內(nèi)，對鉗鍋內(nèi)的待蒸發(fā)材料進行激光加熱蒸發(fā)，從而在基板架上的基材或基片表面氣相沉積出含有所述待蒸發(fā)材料的膜層。本技術(shù)之一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)簡單，采用CO2激光器，配合聚焦凸透鏡，可對高熔點金屬材料進行非接觸式加熱使高熔點金屬材料快速蒸發(fā)，最終在基材或基片上氣相沉積出膜層，非常適宜于超高真空下制備純潔薄膜，且獲得很高的蒸發(fā)速率。另外，因熱源置于真空反應(yīng)腔外，所以不會污染真空反應(yīng)腔體，既減少了污染，又簡化了真空室。本發(fā)可通過如下方案進行改進:上述所述鉗鍋與基板架之間還設(shè)有可調(diào)節(jié)的擋板，用以調(diào)節(jié)基材或基片表面的氣相沉積鍍膜范圍。上述所述真空反應(yīng)腔的側(cè)壁上還設(shè)有一反射鏡調(diào)整裝置，用以改變所述反射鏡與鉗鍋的相對位置并改變激光加熱的范圍。上述所述反射鏡的反射面上還罩設(shè)有一可拆卸護板，用以防止反射鏡在激光加熱蒸發(fā)時被蒸汽分子玷污。上述所述護板為薄的透明玻璃板。既能保護反射鏡，又盡可能小地影響反射效率。上述所述窗口為由Ge或ZnSe材料制成的窗口。 上述所述聚焦凸透鏡的位置可沿光路移動調(diào)節(jié)。附圖說明:圖1為本技術(shù)示意圖。具體實施方式:如圖1所示，一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，包括一真空反應(yīng)腔1、一基板架2、一可調(diào)節(jié)的擋板3、一 CO2激光器4、一 He-Ne激光器5、一分束鏡6、一聚焦凸透鏡7、一散焦凹透鏡8、一鉗鍋9、一反射鏡10、以及一反射鏡調(diào)整裝置11。所述真空反應(yīng)腔I的側(cè)壁密封設(shè)有一窗口 12，該窗口 12為由Ge或ZnSe材料制成的窗口。所述基板架2，設(shè)于真空反應(yīng)腔I內(nèi)，用以放置待鍍膜基板或基片。所述CO2激光器4，位于真空反應(yīng)腔I外并水平設(shè)置，其激光橫向發(fā)射并與所述窗口 12相對。所述He-Ne激光器5，位于真空反應(yīng)腔I外并垂直設(shè)置，其激光縱向發(fā)射。所述分束鏡6，位于真空反應(yīng)腔I外并呈45度角設(shè)于CO2激光器4與He-Ne激光器5所發(fā)出的激光束的相交位置處。所述聚焦凸透鏡7，設(shè)于分束鏡6與窗口 12之間的光路上，并可沿光路移動調(diào)節(jié)。所述散焦凹透鏡8，設(shè)于聚焦凸透鏡7與窗口 12之間的光路上。所述鉗鍋9，設(shè)于真空反應(yīng)腔I內(nèi)并位于基板架2的下方，用以盛放待蒸發(fā)材料。所述反射鏡10，設(shè)于真空反應(yīng)腔I內(nèi)，并位于所述激光器、分束鏡6、聚焦凸透鏡7、散焦凹透鏡8和窗口 12所共同形成的光路上，且位于所述鉗鍋9上方，用以將所述激光器發(fā)出的激光在由外而內(nèi)依次經(jīng)過分束鏡6、聚焦凸透鏡7、散焦凹透鏡8和窗口 12后，反射至所述鉗鍋9內(nèi)，對鉗鍋9內(nèi)的待蒸發(fā)材料進行激光加熱蒸發(fā)，從而在基板架2上的基材或基片表面氣相沉積出含有所述待蒸發(fā)材料的膜層。所述可調(diào)節(jié)的擋板3，設(shè)于鉗鍋9與基板架2之間，用以調(diào)節(jié)基材或基片表面的氣相沉積鍍膜范圍。所述反射鏡調(diào)整裝置11，設(shè)于真空反應(yīng)腔I的側(cè)壁上，用以改變所述反射鏡10與鉗鍋9的相對位置并改變激光加熱的范圍。所述反射鏡10的反射面上還罩設(shè)有一可拆卸護板(圖中未示出)，該護板為薄的透明玻璃板，用以防止反射鏡在激光加熱蒸發(fā)時被蒸汽分子玷污。以上所述僅為本技術(shù)的較佳實施例，并非用來限定本技術(shù)實施的范圍，凡依本技術(shù)專利范圍所做的同等變化與修飾，皆落入本技術(shù)專利涵蓋的范圍。權(quán)利要求1.一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:包括 一真空反應(yīng)腔，該真空反應(yīng)腔的側(cè)壁密封設(shè)有一窗口 ； 一基板架，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)，用以放置待鍍膜基板或基片； 一 CO2激光器，位于真空反應(yīng)腔外并水平設(shè)置，其激光橫向發(fā)射并與所述窗口相對； 一 He-Ne激光器,位于真空反應(yīng)腔外并垂直設(shè)置,其激光縱向發(fā)射； 一分束鏡，位于真空反應(yīng)腔外并呈45度角設(shè)于CO2激光器與He-Ne激光器所發(fā)出的激光束的相交位置處； 一聚焦凸透鏡，設(shè)于分束鏡與窗口之間的光路上； 一散焦凹透鏡，設(shè)于聚焦凸透鏡與窗口之間的光路上； 一鉗鍋，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)并位于基板架的下方，用以盛放待蒸發(fā)材料；以及一反射鏡，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)，并位于所述激光器、分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口所共同形成的光路上，且位于所述鉗鍋上方，用以將所述激光器發(fā)出的激光在由外而內(nèi)依次經(jīng)過分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口后，反射至所述鉗鍋內(nèi)，對鉗鍋內(nèi)的待蒸發(fā)材料進行激光加熱蒸發(fā)，從而在基板架上的基材或基片表面氣相沉積出含有所述待蒸發(fā)材料的膜層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:所述鉗鍋與基板架之間還設(shè)有可調(diào)節(jié)的擋板，用以調(diào)節(jié)基材或基片表面的氣相沉積鍍膜范圍。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:所述真空反應(yīng)腔的側(cè)壁上還設(shè)有一反射鏡調(diào)整裝置，用以改變所述反射鏡與鉗鍋的相對位置并改變激光加熱的范圍。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:所述反射鏡的反射面上還罩設(shè)有一可拆卸護板，用以防止反射鏡在激光加熱蒸發(fā)時被蒸汽分子玷污。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:所述護板為薄的透明玻璃板。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:所述窗口為由Ge或ZnSe材料制成的窗口。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于:所述聚焦凸透鏡的位置可沿光路移動調(diào)節(jié)。專利摘要一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于包括一真空反應(yīng)腔；一基板架；一CO2激光器；一He-Ne激光器；一分束鏡，位于真空反應(yīng)腔外并呈45度角設(shè)于CO2激光器與He-Ne激光器所發(fā)出的激光束的相交位置處；一聚焦凸透鏡；一散焦凹透鏡；一鉗鍋，用以盛放待蒸發(fā)材料；以及一反射鏡，設(shè)位于所述鉗鍋上方，用以將所述激光器發(fā)出的激光在由外而內(nèi)依次經(jīng)過分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口后，反射至所述鉗鍋內(nèi)，對鉗鍋內(nèi)的待蒸發(fā)材料進行激光加熱蒸發(fā)，從而在基板架上的基材或基片表面氣相沉積出含有所述待蒸發(fā)材料的膜層。本技術(shù)結(jié)構(gòu)簡單，可對高本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種激光蒸發(fā)鍍膜裝置，其特征在于：包括一真空反應(yīng)腔，該真空反應(yīng)腔的側(cè)壁密封設(shè)有一窗口；一基板架，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)，用以放置待鍍膜基板或基片；一CO2激光器，位于真空反應(yīng)腔外并水平設(shè)置，其激光橫向發(fā)射并與所述窗口相對；一He?Ne激光器，位于真空反應(yīng)腔外并垂直設(shè)置，其激光縱向發(fā)射；一分束鏡，位于真空反應(yīng)腔外并呈45度角設(shè)于CO2激光器與He?Ne激光器所發(fā)出的激光束的相交位置處；一聚焦凸透鏡，設(shè)于分束鏡與窗口之間的光路上；一散焦凹透鏡，設(shè)于聚焦凸透鏡與窗口之間的光路上；一鉗鍋，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)并位于基板架的下方，用以盛放待蒸發(fā)材料；以及一反射鏡，設(shè)于真空反應(yīng)腔內(nèi)，并位于所述激光器、分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口所共同形成的光路上，且位于所述鉗鍋上方，用以將所述激光器發(fā)出的激光在由外而內(nèi)依次經(jīng)過分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口后，反射至所述鉗鍋內(nèi)，對鉗鍋內(nèi)的待蒸發(fā)材料進行激光加熱蒸發(fā)，從而在基板架上的基材或基片表面氣相沉積出含有所述待蒸發(fā)材料的膜層。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：粟婷，楊柳，劉昕，
申請(專利權(quán))人：中山市創(chuàng)科科研技術(shù)服務(wù)有限公司，
類型：實用新型
國別省市：