用于氣體凈化裝置的碎液盤制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及一種用于氣體凈化裝置的碎液盤，包括至少三層同軸設置的喇叭形芯板，所述芯板的徑向橫截面為圓形且較大端部朝下，所述各層芯板的較大端部半徑由最上層芯板到最下層芯板成等差數列逐漸遞增。每層芯板上同軸分布有若干圓錐圈，所述圓錐圈由若干個等間隔分布的圓錐體圍成，所述圓錐圈的圓心均位于芯板的中心軸線上，且每層芯板上從芯板的較小端部開始到較大端部，各圓錐圈半徑成等差數列遞增。本發明專利技術的用于氣體凈化裝置的碎液盤，增加了破液芯板，并設計了圓錐體對液團進行破碎，不僅提高了碎液盤的破碎效率，同時具有較好的穩定性，能提高氣體凈化裝置整體的處理效率。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及氣體凈化領域，特別涉及一種用于氣體凈化裝置的碎液盤。
技術介紹
通常對含粉塵的有害氣體是通過二步法進行處理。首先是通過靜電除塵或布袋除塵等設備除去氣體中的顆粒物料，再用濕法對有害氣體進行處理。如將有壓力的待處理氣體沖擊液體并形成氣液混合物，氣液混合物向上運動并沖擊上部的篩網；在穿過篩網時,氣體與液體達到充分接觸，大幅度提高對氣體的凈化效率。待處理的氣體與液體形成較大的氣液混合物液團，當受氣流沖擊時，液池中凈化腔內的液面下降，凈化腔外的液面升高，形成一定的壓差與氣流壓力平衡，當氣流導入后受到液體的反作用力而改變方向進入凈化腔，同時被氣體沖擊產生飛濺的部分液體形成大大小小的液團，其中較小的液團跟隨氣流運動，沖向凈化腔內，而較大的液團在重力作用下，重新掉入液池。而普通碎液盤結構上存在設計缺陷，例如，中國專利CN1712105《液相介質凈化氣體的方法及其裝置》中，公開了一種碎液盤的結構，碎液盤為弧形，碎液盤上具有帶通孔的凸起。這種結構的碎液盤，氣液混合物破碎后在凸起的通孔會有部分較大顆粒物直接落入下方被收集起來，但是實際上，有大部分的氣液混合物中的顆粒物在破碎后不會通過通孔直接墜落下去，有可能會飛濺到其他地方。另外，一個氣液團破碎后有可能在凈化腔內與其他破碎的氣液團又重新結合，一旦結合，就會通過體積的積累和氣流壓力的影響，以及重力的因素沿著碎液盤往下墜落，直到落入裝置最下方，這使液團的破碎效果不明顯，極大地影響了凈化效率。因此，為了使液團細化，這種結構的碎液盤能耗較高。
技術實現思路
本專利技術要解決的技術問題是:為了克服現有技術中，用于氣體凈化裝置的碎液盤結構存在缺陷，對液團破碎效果不明顯，能耗較高的不足，本專利技術提供一種用于氣體凈化裝置的碎液盤，增加了破碎液團的次數，大大提高液團的破碎效率，具有運行能耗低，破碎效率高，運行可靠等優點。本專利技術解決其技術問題所采用的技術方案是:一種用于氣體凈化裝置的碎液盤，包括至少三層同軸設置的喇叭形芯板，所述芯板的徑向橫截面為圓形且較大端部朝下，所述各層芯板的較大端部半徑由最上層芯板到最下層芯板成等差數列逐漸遞增，逐層增加芯板的半徑可以增加氣液混合物形成的液團與碎液盤的接觸面積和接觸次數，因此增加液團在碎液盤上的停留時間，并且半徑成等差數列遞增可以均勻增加破碎氣液混合物的概率。每層芯板上同軸分布有若干圓錐圈，所述圓錐圈由若干個等間隔分布的圓錐體圍成，所述圓錐圈的圓心均位于芯板的中心軸線上，且每層芯板上從芯板的較小端部開始到較大端部，各圓錐圈半徑成等差數列遞增，保證各圓錐圈上圓錐體均勻分布在芯板上，破碎氣液混合物更加均勻化。液團撞擊碎葉盤后，大液團被分成很多小液團并向四周飛濺，此時夾雜大顆粒物的液團將會由于重力作用繼續向下運動，再次被下面至少兩層碎葉盤破碎；在破碎的過程中，若液團中始終夾雜著大顆粒物將會最終順著碎液盤的邊緣掉入液池，而此過程中被破碎的夾雜著細微顆粒物的液團在氣流和水流的推動下，撞向擋板，重新形成大大小小的液團，其中夾雜著大顆粒物的液團在重力作用下，重新掉入液池，夾雜著細微顆粒物的液團在氣流的作用下，沖向凈化腔，進而進入細化網罩內，形成洗滌液層。作為優選，本專利技術的碎液盤包括三層同軸設置的喇叭形芯板。為了增加破碎表面積,所述喇機形芯板的表面為橢圓弧表面,所述橢圓弧所在的橢圓的兩焦點的連線與芯板的徑向平行。一般地,每層芯板的厚度相同。為了使破碎氣液混合物更加均勻，各圓錐體的形狀大小相同。由于氣液混合物形成的氣液團是向四周沖擊的，為了使圓錐體正面破碎氣液團，增加破碎效率，各圓錐體的軸線與芯板在該圓錐體的底面圓心的切面垂直。為了節約材料，最上層芯板下方的各芯板上的所述圓錐體，設置在該層芯板橫向超出其上層芯板的部位。本專利技術的有益效果是，本專利技術的用于氣體凈化裝置的碎液盤，用于液相介質的氣體凈化，增加了破液芯板，并設計了圓錐體對液團進行破碎，不僅提高了碎液盤的破碎效率，同時具有較好的穩定性，能提高氣體凈化裝置整體的處理效率。附圖說明下面結合附圖和實施例對本專利技術進一步說明。圖1是本專利技術的用于氣體凈化裝置的碎液盤第一種實施例的結構示意圖。圖2是圖1中A處的局部放大圖。圖3是圖1的俯視結構示意圖。圖4是本專利技術的用于氣體凈化裝置的碎液盤中圓錐體設置的第二種實施例的結構示意圖。圖5是本專利技術的用于氣體凈化裝置的碎液盤中圓錐體設置的第三種實施例的結構示意圖。圖中1、芯板，11、最上層芯板，2、圓錐體。具體實施例方式現在結合附圖對本專利技術作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本專利技術的基本結構，因此其僅顯示與本專利技術有關的構成。如圖1 3所示，本專利技術的用于氣體凈化裝置的碎液盤的第一種實施例，具有三層同軸設置的喇機形芯板I，即芯板I具有一定弧度，芯板I的表面可以是圓弧表面、橢圓弧表面或者其他弧形表面，本實施例中設置為橢圓弧表面，即由一段橢圓弧繞一中心軸旋轉一周所形成的上小下寬的表面，并且本實施例的橢圓弧所在的橢圓的兩焦點的連線與芯板I的徑向平行。芯板I的徑向橫截面為圓形且較大端部朝下，各層芯板I的較大端部半徑由最上層芯板到最下層芯板成等差數列逐漸遞增，如每層相對上一層增加的長度為最上層芯板11的較大端部半徑的0.5倍、I倍、1.5倍。每層芯板I上同軸分布有若干圓錐圈，圓錐圈由若干個等間隔分布的圓錐體2圍成，圓錐圈的圓心均位于芯板I的中心軸線上，且每層芯板I上從芯板I的較小端部開始到較大端部，各圓錐圈半徑成等差數列遞增；即將每層芯板I按半徑長度分成若干等分，形成不同的圓，每個圓圈由一圈形狀大小相同的圓錐體2圍成，將芯板I分成若干等分，如20等分、24等分、28等分，可根據工作要求設定；相鄰的圓錐體2可以錯位設置，增加破碎概率；也可以不錯位設置。各圓錐體2的軸線與芯板I在該圓錐體的底面圓心的切面垂直。每層芯板I的厚度相同。最上層芯板11下方的各芯板上的圓錐體2，設置在該層芯板橫向超出其上層芯板的部位，即下層芯板在豎直方向被其上層芯板遮擋的部位不設置圓錐體2。當然，由于會有液團飛濺到被遮擋的部位，這些部位也可以設置圓錐體2，可以僅在這些部位中靠近超出部位的地方設置圓錐體2，也可以在這些部位均設置圓錐體2，如圖4、圖5所示。當待處理氣體從進氣管進入液池，與液體形成氣液混合物，受到氣流沖擊時，液池中凈化腔內的液面下降，凈化腔外的液面升高，形成一定的壓差與氣流壓力平衡，當氣流導入后受到液體的反作用力而改變方向進入凈化腔，形成大小不等的液團，當液團撞擊碎葉盤后，大液團被分成很多小液團并向四周飛濺，此時夾雜大顆粒物的液團將會由于重力作用繼續向下運動，再次被下面兩層碎葉盤破碎；在破碎的過程中，若液團中始終夾雜著大顆粒物將會最終順著碎液盤的邊緣掉入液池，而此過程中被破碎的夾雜著細微顆粒物的液團在氣流和水流的推動下，撞向擋板，重新形成大大小小的液團，其中夾雜著大顆粒物的液團在重力作用下，重新掉入液池，夾雜著細微顆粒物的液團在氣流的作用下，沖向凈化腔，進而進入細化網罩內，形成洗滌液層。以上述依據本專利技術的理想實施例為啟示，通過上述的說明內容，相關工作人員完全可以在不偏離本項專利技術技術思想的范圍內，進行多樣的變更以及修改。本項專利技術的技術性范圍并不局限于說明書上的內容，必須要根據權利要求范圍本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于氣體凈化裝置的碎液盤，其特征在于：包括至少三層同軸設置的喇叭形芯板（1），所述芯板（1）的徑向橫截面為圓形且較大端部朝下，所述各層芯板（1）的較大端部半徑由最上層芯板到最下層芯板成等差數列逐漸遞增；每層芯板（1）上同軸分布有若干圓錐圈，所述圓錐圈由若干個等間隔分布的圓錐體（2）圍成，所述圓錐圈的圓心均位于芯板（1）的中心軸線上，且每層芯板（1）上從芯板（1）的較小端部開始到較大端部，各圓錐圈半徑成等差數列遞增。

【技術特征摘要】
1.一種用于氣體凈化裝置的碎液盤，其特征在于:包括至少三層同軸設置的喇叭形芯板(1)，所述芯板(I)的徑向橫截面為圓形且較大端部朝下，所述各層芯板(I)的較大端部半徑由最上層芯板到最下層芯板成等差數列逐漸遞增；每層芯板(I)上同軸分布有若干圓錐圈，所述圓錐圈由若干個等間隔分布的圓錐體(2)圍成，所述圓錐圈的圓心均位于芯板(I)的中心軸線上，且每層芯板(I)上從芯板(I)的較小端部開始到較大端部，各圓錐圈半徑成等差數列遞增。2.如權利要求1所述的用于氣體凈化裝置的碎液盤，其特征在于:包括三層同軸設置的喇叭形芯板(I)。3.如權利要求1所述的用于氣體凈化裝置的碎液...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李定龍，楊彥，王偉強，王皖蒙，
申請(專利權)人：常州大學，常州水木環保科技有限公司，
類型：發明
國別省市：