本發明專利技術提供一種投影曝光裝置，其具有遮光單元，該遮光單元使伴隨基板的運入運出的遮光部件的安裝和卸下的所需時間變短。投影曝光裝置具有：投影光學系統，其將包含紫外線的光線照射在光掩模上，將通過了光掩模的光線投影在涂布了光致抗蝕劑的基板上；基板臺，其載置基板；以及遮光單元，其遮蓋基板的周邊部而遮住光線。而且，遮光單元（80）具有：第1遮光部件和第2遮光部件（84、86），它們分別具有大致半圓形的開口部；以及移動單元（82、83），它們移動第1遮光部件和第2遮光部件，使兩者相互接近或遠離。因此，當第1遮光部件和第2遮光部件相互接近時，第1遮光部件和第2遮光部件形成環狀，來遮蓋基板（CB）的周邊部。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及ー種投影曝光裝置，該投影曝光裝置具有遮光體，在硅等基板表面曝光預定圖案時，該遮光體對涂布了光致抗蝕劑的基板的邊緣部進行遮光。
技術介紹
在硅晶片等半導體用基板、平面顯示器用的玻璃基板或電子電路用的各種基板上(以下稱為基板)涂布了光致抗蝕劑的情況下，在基板的邊緣部，有時會光致抗蝕劑涂布不勻。因此，光致抗蝕劑會未被除去而殘留，在后續的步驟，有時光致抗蝕劑會成為污染物。因此，有必要預先除去基板的邊緣部的光致抗蝕劑。另外，在負型光致抗蝕劑的情況下，用于鍍膜步驟的電極制作用步驟等，正型光致抗蝕劑用于防止周邊部處的抗蝕膜剝離等。在專利文獻I中，提出了在基板上載置環狀的遮光體而一起遮蓋基板的邊緣部的裝置。專利文獻I中公開的遮光體，是遮蓋基板的邊緣部整體的形狀。因此，在運入運出基板時，基板臺將遮光體移動到遮光體的等待位置并卸下遮光體，接下來基板臺移動到基板的運入位置并更換基板，然后基板臺再次移動到遮光體的遮光體等待位置，將遮光體設置在基板上。因此，基板臺的移動距離變長，基板的運入運出耗費時間。另外，遮光體的移動也變多，揚起較多污染物的可能性也變高。另外，在專利文獻2中，在晶片周緣附近配置凹狀圓弧遮光帶或矩形遮光帶，使基板的周邊區域不會曝光。因此，需要使凹狀圓弧遮光帶或矩形遮光帶在基板的周圍移動的機構和遮光位置的計算控制機構。現有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特表2005-505147號公報專利文獻2:日本特開2005-045160號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的問題如專利文獻I中所述的遮蓋基板的整面的遮光體是大型的，因此基板的運入運出作業費時，降低了投影曝光裝置的處理能力。此外，專利文獻2中的遮光體小而處理簡單，但遮光體的控制部需要按照描繪于光掩模的圖案而預先求得遮光體的插入位置，存在處理繁雜這樣的問題。因此，本專利技術提供ー種投影曝光裝置，其具有遮光単元，該遮光単元使伴隨基板的運入運出的遮光部件的安裝和卸下的所需時間變短。另外，遮光単元可對應于基板的遮光區域的多祥性。用于解決問題的手段第I觀點的投影曝光裝置具有:投影光學系統，其將包含紫外線的光線照射到光掩模，將通過了光掩模的光線投影到涂布了光致抗蝕劑的基板上；基板臺，其載置基板；以及遮光単元，其遮蓋基板的周邊部而遮住光線。此外，遮光単元具有:第I遮光部件和第2遮光部件，它們分別具有大致半圓形的開ロ部；以及移動單元，其移動第I遮光部件和第2遮光部件，使它們相互接近或遠離。因此，當第I遮光部件和第2遮光部件相互接近時，第I遮光部件和第2遮光部件形成環狀而遮蓋基板的周邊部。在第2觀點的投影曝光裝置中，第I遮光部件和第2遮光部件分別由遮住光線且能夠安裝及卸下的第I遮光葉片和第2遮光葉片、以及安裝了第I遮光葉片及第2遮光葉片的第I遮光底座和第2遮光底座構成，第I遮光底座和第2遮光底座在與移動單元連接的同時與升降單元連接，該升降単元使第I遮光底座和第2遮光底座進行升降。在第3觀點的投影曝光裝置中，在第I遮光葉片的前端和第2遮光葉片的前端形成有按照在相互接近時在厚度方向上重合的方式變薄的薄壁部。在第4觀點的投影曝光裝置中，通過基板運送單元將基板運送到基板臺，移動單元按照平行于基板運送單元的位置偏移大的水平方向的方式使第I遮光部件和第2遮光部件在直線方向上移動。因此，可以以移動單元的移動量來修正基板運送單元的位置偏移。在第5觀點的投影曝光裝置中，第I遮光部件和第2遮光部件中的至少一方的端部固定于旋轉軸，移動單兀使第I遮光部件和第2遮光部件中的至少一方在旋轉方向上移動。第6觀點的投影曝光方法，將包含紫外線的光線照射到光掩模，通過遮蓋基板的周邊部的遮光単元遮住通過了光掩模的光線，在不便光線照射到涂布了光致抗蝕劑的基板的周邊部的情況下對相對于周邊部位于中心側的中央部進行曝光。并且，投影曝光方法包括以下步驟:通過基板運送單元將基板載置于基板臺；將遮光単元接近于基板的上方而進行配置；測定載置于基板臺的基板的位置和遮光単元的位置；以及在遮光単元的位置相對于基板的位置大于預定間隔的情況下，使遮光単元至移動預定間隔以下。在第7觀點的投影曝光方法中，基板的位置是通過將基板上的對準標志設為全局對準(global alignment)來進行測定的，遮光単元的位置是通過測定設置于遮光単元的至少ー個對準標志來得到的。按照該方法，可以正確地將遮光単元移動至遮光位置。專利技術的效果通過在投影曝光裝置上配置可動式的分為ニ個的第I遮光部件和第2遮光部件，可以容易地運作伴隨著基板的運入運出的遮光部件。附圖說明圖1是投影曝光裝置100的概略側視圖。圖2是省略了照明光學系統30的反射式曝光裝置100的概略立體圖。圖3是從Z軸方向觀察第I遮光體裝置80的俯視圖。圖4的(a)是示出用運送臂運入基板CB的狀態的立體圖；圖4的(b)是示出運送臂的運入方向與移動導引件82的移動方向之間的關系的圖。圖5是第I遮光體裝置80的動作流程圖。圖6的(a)是示出將基板CB運入或運出真空卡盤69的狀態的圖；圖6的(b)是以遮光葉片86遮蓋基板CB的周邊部的圖。圖7的(a)是示出成為環狀的遮光葉片86和遮光底座的圖；圖7的(b)是(a)的B-B剖面的放大圖。圖8的(a) (d)是遮光葉片86形狀的變形例。圖9是示出第2遮光體裝置180的圖。圖10是示出第3遮光體裝置280的圖。具體實施例方式<投影曝光裝置100的概略結構>圖1是投影曝光裝置100的概略側視圖。投影曝光裝置100大體具有:照射包含紫外線的波段的光束的光源10、對來自光源10的光束進行會聚的照明光學系統30、保持光掩模M的掩模臺40、投影光學系統50以及基板臺60。具有照明光學系統30，該照明光學系統30用于對在掩模臺40上平行于XY平面支撐的光掩模M均勻地進行照明。照明光學系統30具有光源10，該光源10由例如近于點光源的汞短弧(short arc)燈構成。光源10配置在橢圓鏡11的第I焦點位置，因此從光源10射出的照明光束經由分光鏡(dichroic mirror) 12,在橢圓鏡的第2焦點位置形成光源像。分光鏡12不反射預定波長范圍以外的光。另外，作為照明光學系統30所具有的光源10,也可以是紫外線放射型的LED (Light Emitting Diode ;發光二極管)或激光。通過快門13阻斷到達基板CB的曝光光線。來自光源像的發散光通過準直透鏡(collimating lens) 31被轉換成平行光束,入射至波長選擇部15。波長選擇部15構成為能夠在光源10與光掩模M之間的光路中插拔。在橢圓鏡的第2焦點位置，設置有蠅眼透鏡(fly' s-eye lens) 32。通過了波長選擇部15的光束依次通過蜆眼透鏡32和聚光透鏡(condenser lens) 33。通過了波長選擇部15的光束入射至蠅眼透鏡32。蠅眼透鏡32是將多個正透鏡單體(positive lens element)以其中心軸線沿著光軸OA延伸的方式縱橫且致密地排列而成的。因此，入射至蠅眼透鏡32的光束通過多個透鏡單體被波面分割，在其后側焦點面(也就是射出面附近)形成由與透鏡單體的數量相同數量的光源構成的二次光源。來自形成于蠅眼透鏡32的后側焦點面的多個二次光源的光束，入射至聚本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2010.09.13 JP 2010-2047151.一種投影曝光裝置，其具有:投影光學系統，其將包含紫外線的光線照射在光掩模上，將通過了所述光掩模的光線投影到涂布了光致抗蝕劑的基板上；基板臺，其載置所述基板；以及遮光単元，其遮蓋所述基板的周邊部而遮住所述光線， 所述遮光單元具有: 第I遮光部件和第2遮光部件，它們分別具有大致半圓形的開ロ部；以及 移動單元，其移動所述第I遮光部件和第2遮光部件，使兩者相互接近或遠離， 在所述第I遮光部件和第2遮光部件相互接近時，所述第I遮光部件和第2遮光部件形成環狀而遮蓋所述基板的周邊部。2.根據權利要求1所述的投影曝光裝置，其中，所述第I遮光部件和第2遮光部件分別由第I遮光葉片和第2遮光葉片以及第I遮光底座和第2遮光底座構成，其中，該第I遮光葉片和第2遮光葉片遮住所述光線且能夠被安裝及卸下，該第I遮光底座和第2遮光底座上安裝有所述第I遮光葉片和第2遮光葉片，所述第I遮光底座和第2遮光底座被連接于所述移動単元的同時也被連接于升降單元，該升降単元使所述第I遮光底座和第2遮光底座進行升降。3.根據權利要求2所述的投影曝光裝置，其中， 在所述第I遮光葉片的前端和第2遮光葉片的前端形成有按照在相互接近時在厚度方向上重合的方式變薄的薄壁...
【專利技術屬性】
技術研發人員：中本裕見，
申請(專利權)人：株式會社ORC制作所，
類型：
國別省市：
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