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    等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):8581471 閱讀:334 留言:0更新日期:2013-04-15 05:15
    本實(shí)用新型專利技術(shù)涉及晶體硅太陽能電池生產(chǎn)領(lǐng)域,具體來說涉及一種晶體硅太陽能電池等離子刻蝕工藝中等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室,反應(yīng)室本體底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺(tái),采用高強(qiáng)度硬鋁材料焊接而成的反應(yīng)室本體一側(cè)設(shè)有源部件接口;所述單相低速電機(jī)的輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)的旋轉(zhuǎn)軸連接并在單相低速電機(jī)輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸的連接處通過磁流體密封;所述源部件接口處安裝進(jìn)氣法蘭,并在進(jìn)氣法蘭外周安裝永磁體,且進(jìn)氣法蘭外端面安裝用于密封源部件接口的密封件。本實(shí)用新型專利技術(shù)采用永磁體提高了等離子體的密度,加快了刻蝕速率;能夠?qū)崿F(xiàn)一次裝片800片,提高生產(chǎn)效率。(*該技術(shù)在2022年保護(hù)過期,可自由使用*)

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及晶體硅太陽能電池生產(chǎn)領(lǐng)域,具體來說涉及一種晶體硅太陽能電池等離子刻蝕工藝中等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室
    技術(shù)介紹
    在晶體硅太陽能電池生產(chǎn)過程中的擴(kuò)散工序中,硅片的邊緣部分形成了 PN結(jié),等離子刻蝕的作用是將硅片邊緣部分的PN結(jié)去除。否則將導(dǎo)致電池正負(fù)極之間并聯(lián)電阻過小,且漏電電流過大,影響電池的輸出特性。現(xiàn)有的晶體硅太陽能電池生產(chǎn)過程中的等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室采用圓筒形的石英玻璃結(jié)構(gòu),由于結(jié)構(gòu)的限制,這種等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室刻蝕的晶體硅太陽能電池片只有300片/批。而氟基氣體等離子體很容易腐蝕石英及玻璃類零件,長期的氟基等離子體在石英玻璃反應(yīng)室中,會(huì)因?yàn)楦g的結(jié)果會(huì)造成材料的結(jié)構(gòu)劣化,并且可能影響到密封面而導(dǎo)致真空漏氣或因石英腐蝕變薄而不能承受真空及大氣壓力之間的壓力差而造成爆裂。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本技術(shù)的目的在于,針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種等離子刻蝕反應(yīng)室,防止工藝過程中產(chǎn)生的氟基等離子體與石英玻璃反應(yīng)室發(fā)生反應(yīng),并且可以提高一次裝載產(chǎn)品的數(shù)量,提高生產(chǎn)效率。本技術(shù)的技術(shù)方案為,一種等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室,包括反應(yīng)室本體,反應(yīng)室本體底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺(tái),采用高強(qiáng)度硬鋁材料焊接而成的反應(yīng)室本體一側(cè)設(shè)有源部件接口 ;所述單相低速電機(jī)的輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)的旋轉(zhuǎn)軸連接并在單相低速電機(jī)輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸的連接處通過磁流體密封;所述源部件接口處安裝進(jìn)氣法蘭,并在進(jìn)氣法蘭外周安裝永磁體,且進(jìn)氣法蘭外端面安裝用于密封源部件接口的密封件。所述反應(yīng)室本體一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)式密封門,方便太陽能電池片的裝載;旋轉(zhuǎn)式密封門上設(shè)有石英玻璃觀察窗,便于在刻蝕工藝過程隨時(shí)察看工藝情況。所述密封件為陶瓷板,進(jìn)氣法蘭使氣體分布更加均勻,并且在進(jìn)氣法蘭外周安裝有永磁體,用于加強(qiáng)等離子體的產(chǎn)生密度,提高反應(yīng)速率;陶瓷板可以有效的密封反應(yīng)室,并方便射頻功率的引入。本技術(shù)采用永磁體提高了等離子體的密度,加快了刻蝕速率;能夠?qū)崿F(xiàn)一次裝片800片,提高生產(chǎn)效率;本技術(shù)消除了等離子刻蝕反應(yīng)室因石英腐蝕變薄而不能承受真空及大氣壓力之間的壓力差而造成爆裂的危險(xiǎn)。附圖說明圖1為本技術(shù)所述等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室的結(jié)構(gòu)主視圖;圖2為本技術(shù)所述等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室的結(jié)構(gòu)俯視圖;其中1 一反應(yīng)室本體;2—進(jìn)氣法蘭;3 —陶瓷板;4一旋轉(zhuǎn)平臺(tái);5—磁流體;6—壓力檢測接口 ;7—永磁體;8—石英玻璃觀察窗;9一旋轉(zhuǎn)式密封門;10—單相低速電機(jī);11一真空泵接口。具體實(shí)施方式如圖1、圖2所示,一種等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室,包括反應(yīng)室本體I,反應(yīng)室本體I底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺(tái)4,并在反應(yīng)室本體I 一側(cè)設(shè)有源部件接口,反應(yīng)室本體I采用LY12型的高強(qiáng)度硬鋁材料焊接而成;所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)4通過單相低速電機(jī)10驅(qū)動(dòng),所述單相低速電機(jī)10的輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)4的旋轉(zhuǎn)軸連接并在單相低速電機(jī)10輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)4旋轉(zhuǎn)軸的連接處通過磁流體5密封;所述源部件接口處安裝進(jìn)氣法蘭2,并在進(jìn)氣法蘭2外周安裝永磁體7,且進(jìn)氣法蘭2外端面安裝用于密封源部件接口的密封件3。反應(yīng)室本體I 一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)式密封門9,旋轉(zhuǎn)式密封門9上設(shè)有石英玻璃觀察窗8。 密封件3為陶瓷板。本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室,包括反應(yīng)室本體(1),反應(yīng)室本體(1)底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(4),其特征是,采用高強(qiáng)度硬鋁材料焊接而成的反應(yīng)室本體(1)一側(cè)設(shè)有源部件接口;所述單相低速電機(jī)(10)的輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(4)的旋轉(zhuǎn)軸連接并在單相低速電機(jī)(10)輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(4)旋轉(zhuǎn)軸的連接處通過磁流體(5)密封;所述源部件接口處安裝進(jìn)氣法蘭(2),并在進(jìn)氣法蘭(2)外周安裝永磁體(7),且進(jìn)氣法蘭(2)外端面安裝用于密封源部件接口的密封件(3)。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室,包括反應(yīng)室本體(I),反應(yīng)室本體(I)底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(4),其特征是,采用高強(qiáng)度硬鋁材料焊接而成的反應(yīng)室本體(I) 一側(cè)設(shè)有源部件接口 ;所述單相低速電機(jī)(10)的輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(4)的旋轉(zhuǎn)軸連接并在單相低速電機(jī)(10)輸出軸與旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(4)旋轉(zhuǎn)軸的連接處通過磁流體(5)密封;所述源部件接口處安裝進(jìn)氣法蘭(2 ),并在進(jìn)氣法蘭(2 ...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:成秋云禹慶榮吳得軼
    申請(專利權(quán))人:湖南紅太陽光電科技有限公司
    類型:實(shí)用新型
    國別省市:

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