一種注入機束流引出電極水平校準系統技術方案

本實用新型專利技術涉及半導體制造領域，尤其涉及一種注入機束流引出電極水平校準系統，通過在離子源反應腔上設置的距離感應件，以感應位于其前方束流引出電極的水平度，若該束流引出電極傾斜時，則通過邏輯運算板和電機控制板控制束流引出電極恢復水平位置，進而避免因出現束流引出電極與離子源發生腔之間出現相對水平的偏移時，導致的束流均勻性變差，造成元素注入后的晶圓電阻值不均，不僅增大了產品的良率，還能實現注入機在開車狀態下的自動監測和修復，從而降低了工藝生產成本，且大大提高了工作效率。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及半導體集成電路及其制造領域，尤其涉及一種注入機束流引出電極水平校準系統。
技術介紹
隨著集成電路的飛速發展，半導體的元器件的結構及其制造工藝都較以前發生了根本性的變化，尤其是現今隨著集成度的增大，即在單位面積上的集成更多的電路部件，要求半導體制造設備更加的自動化、可靠和安全。在半導體的元器件制備工藝中離子注入工藝是非常重要的工藝步驟，但在進行離子注入工藝時，但其注入元素的均勻性在摻雜過程中無從發現，若注入元素劑量在晶圓上分布不均勻，將會導致產品良率的下降，尤其是在大尺寸的晶圓上制備元器件，由于離子注入工藝中的注入元素劑量分布不均造成的損失是不可估量的。目前，國內外各種類型的離子注入機，雖然在整機設計上都能得到均勻的束流。但當某些關鍵功能模塊發生水平偏移時，會得到不均勻的束流，如束流引出電極。圖1是本技術
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中傳統的束流引出電極和離子源發生腔的結構示意圖，圖2是本技術
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中當引出電極與離子源發生腔之間出現相對水平的偏移時造成的晶圓出現電阻不均的示意圖；如圖1所示，由于束流引出電極11在注入設備調整束流過程中，需要經常前后、左右或上下移動，以保證最大束流通過；會造成束流引出電極11與離子源發生腔12之間的相對水平偏移，且當維護注入機的離子源發生腔12或引出電極11時，由于安裝不到位，也會導致引出電極11與離子源發生腔12之間出現相對水平的偏移；當出現引出電極11與離子源發生腔12之間出現相對水平的偏移時，將會導致引出的束流均勻性變差，進而造成元素注入后的晶圓電阻值相應的會出現如圖2所示的晶圓的電阻一邊高一邊低現象，從而降低了產品 的良率。但操作人員發現引出電極與離子源發生腔之間出現相對水平的偏移時，由于在注入機處于開車狀態，且目前所有類型的注入機都沒有辦法自動監測并自動修復，只能進行停車，需要耗費大量的時間和人力進行檢修，大大增加了工藝生產成本，降低了工作效率。
技術實現思路
本技術公開了一種注入機束流引出電極水平校準系統，包括束流引出電極和離子源發生腔，所述束流引出電極位于所述離子源發生腔的前方，其中，還包括邏輯計算板、電機控制板和位于同一與所述離子發生腔平行的直線上的至少兩距離感應件；所述距離感應件與所述離子源發生腔固定連接，所述邏輯計算板分別與所述電機控制板和所述距離感應件通信連接；所述電機控制板控制所述束流引出電極擺動。上述的注入機束流引出電極水平校準系統，其中，所述距離感應件為兩個，且該兩個距離感應件對稱位于所述離子源發生腔的兩側，測量位于兩距離感應件正前方的所述束流引出電極的左表面相對于兩距離感應件的垂直距離，并將該距離數值信息傳送至所述邏輯計算板。上述的注入機束流引出電極水平校準系統，其中，所述邏輯計算板還與所述電機控制板電連接。上述的注入機束流引出電極水平校準系統，其中，所述離子源發生腔位于所述束流引出電極位于的正后方。上述的注入機束流引出電極水平校準系統，其中，所述離子源發生腔位于水平線上。上述的注入機束流引出電極水平校準系統，其中，所述電機控制板控制其與所述邏輯計算板的連接。綜上所述，由于采用了上 述技術方案，本技術提出一種注入機束流引出電極水平校準系統，通過在離子源反應腔上設置的距離感應件，以感應位于其前方束流引出電極的水平度，若該束流引出電極傾斜時，則通過邏輯運算板和電機控制板控制束流引出電極恢復水平位置，進而避免因出現束流引出電極與離子源發生腔之間出現相對水平的偏移時，導致的束流均勻性變差，造成元素注入后的晶圓電阻值不均，不僅增大了產品的良率，還能實現注入機在開車狀態下的自動監測和修復，從而降低了工藝生產成本，且大大提高了工作效率。附圖說明圖1是本技術
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中傳統的束流引出電極和離子源發生腔的結構示意圖；圖2是本技術
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中當引出電極與離子源發生腔之間出現相對水平的偏移時造成的晶圓出現電阻不均的示意圖；圖3是本技術注入機束流引出電極水平校準系統的結構示意圖；圖4是本技術注入機束流引出電極水平校準系統中各部件的連接示意圖。具體實施方式以下結合附圖對本技術的具體實施方式作進一步的說明圖3是本技術注入機束流引出電極水平校準系統的結構示意圖；圖4是本技術注入機束流引出電極水平校準系統中各部件的連接示意圖。如圖3所示，本技術一種注入機束流引出電極水平校準系統，主要應用于晶圓的注入工藝，包括束流引出電極21、電機控制板(圖中未標示)、邏輯計算板(圖中未標示)、位于水平線上的離子源發生腔22和位于同一水平線上的距離感應件23及距離感應件24，其中，束流弓丨出電極21位于離子源發生腔22的正前方，距離感應件23和距離感應件24水平對稱分別固定設置在離子源發生腔22的兩側，以測量位于兩距離感應件23、24正前方的束流引出電極21的左表面相對于兩距離感應件23、24的水平距離，并將該距離數值信息傳送至邏輯計算板進行數據分析處理，邏輯計算板將對上述距離數值信息分析處理的結果傳送至電極控制板，電機控制板根據該數據處理結果控制束流引出電極21擺動，以使得束流引出電極21恢復至水平位置，進而實現引出的均勻的離子束，以對晶圓進行均勻的元素注入。進一步的，電機控制板控制其與邏輯計算板的連接。具體的,如圖3-4所示,距離感應件23和距離感應件24通過光束25測量到位于其正前方的束流引出電極21的左表面相對于兩距離感應件23、24的水平距離值x、y，并將該距離值X、y傳送通過有線通信方式傳送至邏輯計算板，該邏輯計算板對距離值X、y值進行數據處理，如進行x、y的差值運算，即x_y=d，若d=0則說明此時束流引出電極21位于水平位置，則不需要對束流引出電極21位置進行修復；若d古O則說明此時束流引出電極21的左表面位于非水平位置，則需要對束流引出電極21的位置進行修復，此時，邏輯計算板根據X與y之間的差值進行邏輯運算，以得出針對此位置的束流引出電極21調整的數據d，并將該調整數據d發送至電機控制板，電機控制板再根據該調整數據d控制束流引出電極21進行恢復位置擺動；之后，繼續進行前述X與I之間的數值判斷，以實現循環不斷的針對束流引出電極21的位置信息進行調整，最終使得束流引出電極21處于與離子源發生腔22平行的水平位置。綜上所述，由于采用了上述技術方案，本技術提出一種注入機束流引出電極水平校準系統，通過在離子源反應腔上設置的距離感應件，以感應位于其前方束流引出電極的水平度，若該束流引出電極傾斜時，則通過邏輯運算板和電機控制板控制束流引出電極恢復水平位置，進而避免因出現束流引出電極與離子源發生腔之間出現相對水平的偏移時，導致的束流均勻性變差，造成元素注入后的晶圓電阻值不均，不僅增大了產品的良率，還能實現注入機在開車狀態下的自動監測和修復，從而降低了工藝生產成本，且大大提高了工作效率。通過說明和附圖，給出了具體實施方式的特定結構的典型實施例，基于本技術精神，還可作其他的轉換。盡管上述技術提出了現有的較佳實施例，然而，這些內容并不作為局限。對于本領域的技 術人員而言，閱讀上述說明后，各種變化和修正無疑將顯而易見。因此，所附的權利要求書應看作是涵蓋本技術的真實意圖和范圍的全部變化和修正。在權利要求書范圍內任何和所有等價的范圍本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種注入機束流引出電極水平校準系統，包括束流引出電極和離子源發生腔，所述束流引出電極位于所述離子源發生腔的前方，其特征在于，還包括邏輯計算板、電機控制板和位于同一與所述離子發生腔平行的直線上的至少兩距離感應件；所述距離感應件與所述離子源發生腔固定連接，所述邏輯計算板分別與所述電機控制板和所述距離感應件通信連接；所述電機控制板控制所述束流引出電極擺動。

【技術特征摘要】
1.一種注入機束流引出電極水平校準系統，包括束流引出電極和離子源發生腔，所述束流引出電極位于所述離子源發生腔的前方，其特征在于，還包括邏輯計算板、電機控制板和位于同一與所述離子發生腔平行的直線上的至少兩距離感應件； 所述距離感應件與所述離子源發生腔固定連接，所述邏輯計算板分別與所述電機控制板和所述距離感應件通信連接； 所述電機控制板控制所述束流弓I出電極擺動。2.根據權利要求1所述的注入機束流引出電極水平校準系統，其特征在于，所述距離感應件為兩個，且該兩個距離感應件水平對稱位于所述離子源發生腔的兩側，測量位于兩距離感應件正前方的所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：張旭昇，鄧建寧，謝威，
申請(專利權)人：上海華力微電子有限公司，
類型：實用新型
國別省市：