【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種高光生酸量子產率硫鎗鹽類光生酸劑、制備方法及其應用。
技術介紹
光刻膠是將圖像轉移到基底上的光敏膜。它們形成負或正圖像。將光刻膠涂覆在基底上之后，透過有圖案的掩膜或光罩將涂層暴露在諸如紫外光，近可見光的活化能源下，在光刻膠圖案中形成潛像。對于活化輻射，光罩有不透明的區域和透明的區域，確定了需要轉移到下面基底的圖像。通過將光刻膠涂層中的潛像圖案顯影，得到了三維立體圖像。光生酸劑是光刻膠體系中的重要組分，光生酸劑是20世紀80年代被開發出來的一種高效化學增幅劑。它可以通過吸收光子能量解離產生質子，從而引發曝光區域物理化學性質的變化。由于這種產酸機理是外界可控的，并且這種化學增幅作用能夠大大提高光化學反應的速率，所以近年來光生酸劑已經被廣泛應用于光刻膠，計算機直接制版，酸引發聚合和避光指示劑等諸多領域中如[201010625168.3]等。硫鎗鹽型光生酸劑作為其中的一大類，被人們廣泛的使用，各種改性方法也層出不窮。通過將含有光生酸劑的光刻膠涂層曝光后，選擇裂解保護基團，提供了極性官能團，例如羧基、苯酚或亞胺，這導致在光刻膠涂層曝光和未曝光的區域形成不同的溶解性。
技術實現思路
本專利技術的目的在于一種高光生酸量子產率硫鎗鹽類光生酸劑、制備方法及其應用。本專利技術的含有這類光生酸劑與201010284441中的對位取代的同分異構體相比，配成光刻膠后都可以提供較好的光刻效果。參見例如下述實施例6、7的結果。本專利技術提出的一種高光生酸量子產率硫鎗鹽類光生酸劑，所述光生酸劑的結構式如下
【技術保護點】
一種高光生酸量子產率硫鎓鹽類光生酸劑，其特征在于所述光生酸劑的結構式如下：其中R1為甲基、芐基、五氟代苯基或4?氰基芐基中任一種；R2－為反離子。2013100004900100001dest_path_image002.jpg
【技術特征摘要】
1.一種高光生酸量子產率硫鎗鹽類光生酸劑，其特征在于所述光生酸劑的結構式如下2.根據權利要求1的高光生酸量子產率硫鎗鹽類光生酸劑，其特征在于所述RT為三氟甲烷磺酸根、六氟磷酸根、六氟銻酸根或四氟硼酸根中任一種。3.—種如權利要求1的高光生酸量子產率硫鎗鹽類光生酸劑的制備方法，其特征在于具體步驟如下 (1)在惰性氣體保護下，將2.67g, IOmmol N, N-二苯胺基苯甲醒溶于無水四氫呋喃中，并加入5. 36g, 15mmol甲基三苯基溴化磷,0°C下滴加溶于四氫呋喃的3. 6g, 30mmol叔丁醇鉀，保持體系溫度為O °(T10°C ;滴加完后升溫至室溫，攪拌反應3飛小時，將反應溶液倒入水中，二氯甲烷萃取，鹽水洗滌，有機相用無水硫酸鈉干燥，柱層析得到液體，真空除溶劑后得到白色粉末產物(2. 168g, 8mmol)N, N-二苯胺基苯乙烯； (2)惰性氣體保護下，將步驟⑴產物2.71g，IOmmol N, N-二苯胺基苯乙烯加入33mL三乙醇胺中，再加入2. 03g, IOmmol 3-溴苯甲硫醚和40mg,0. 18mmol醋酸鈕,攪拌加熱至10(T120°C，避光攪拌，反應1(Γ12小時后，倒入水中產生墨綠色固體，過濾，將過濾得到的固體溶于二氯甲烷中，經硅膠過濾除去醋酸鈀，濾液除溶劑后獲得粘稠液體，經柱層析提純，得到淡黃色固體產物2. 87g，7mmol 3- (N, N-二苯胺基苯乙烯基)苯甲硫醚；其中柱層析中采用的淋洗劑為環已烷和乙酸乙酯的混合液，環己烷和乙酸乙酯的體積比為10/1飛/I ； (3)將步驟(2)產物3-(N，N-二苯胺基苯乙烯基)苯...
【專利技術屬性】
技術研發人員：金明，洪烘，謝健超，浦鴻汀，萬德成，
申請(專利權)人：同濟大學，
類型：發明
國別省市：
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