【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種近紅外反射性、可見光透射性及膜柔軟性優異的近紅外反射膜及其制造方法及設有近紅外反射膜的近紅外反射體。
技術介紹
近年來，由于對節能對策的關注提高，因此，從減少施加于冷氣設備的負荷的觀點考慮，對安裝在建筑物及車輛的窗玻璃上而遮斷太陽光的熱線透射的近紅外反射膜的要求提聞。作為近紅外反射膜的形成方法，主要提出了采用蒸鍍法、濺射法等干式制膜法形成由交替疊層了高折射率層和低折射率層的結構構成的疊層膜的方法。但是，對干式制膜法而言，存在如下課題等形成時使用的真空裝置等為大型機器，制造成本高，難以大面積化，而且，基體材料被限定于耐熱性原材料。已知有采用濕式涂布法代替具有如上所述的課題的干式制膜法形成近紅外反射膜的方法。例如，公開了如下方法通過使用棒涂機的濕式涂布方式在基體材料上涂布將含有金屬氧化物及金屬化合物微粒的熱固化型有機硅樹脂及紫外線固化型丙烯酸樹脂分散在有機溶劑中而得到的高折射率層涂布液，形成透明疊層體的方法(例如參照專利文獻I。)；通過使用了棒涂機的濕式涂布方式在基體材料上涂布由金紅石型的氧化鈦、雜環類氮化合物(例如吡啶)、紫外線固化型粘合劑及有機溶劑構成的高折射率涂膜形成用組合物，形成透明疊層體的方法(例如參照專利文獻2。)。另一方面，也公開了使用球狀金紅石型氧化鈦粒子的甲醇分散漿料和甲醇二氧化硅溶膠交替疊層的方法(例如參照專利文獻3。)。但是，在專利文獻I及專利文獻2所公開的方法中，作為高折射率層形成用涂布液的介質，主要由有機溶劑形成，因此，在高折射率層形成及干燥時，導致大量的有機溶劑飛散，存在環境上的課題。進而，在上述公開的方法中，使...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2010.07.24 JP 2010-166591;2010.09.28 JP 2010-216681.一種近紅外反射膜，其在基體材料上具有至少I個由高折射率層和低折射率層構成的單元，相鄰的該高折射率層和該低折射率層的折射率差為O.1以上，其中，該高折射率層含有I)體積平均粒徑IOOnm以下的金紅石型氧化鈦、2)水溶性高分子及3)選自下述化合物組中的至少I種化合物A， 化合物組含羧基化合物、異羥肟酸類、吡啶衍生物。2.根據權利要求1所述的近紅外反射膜，其中，所述化合物A具有下述通式(I)或(2)所示的部分結構， [化學式I]通式(I)通式(2)3.根據權利要求1或2所述的近紅外反射膜，其中，所述化合物A為下述通式(3)所示的化合物， [化學式2] 通式(3)4.根據權利要求1 3中任一項所述的近紅外反射膜，其中，所述水溶性高分子為選自具有反應性官能團的聚合物、下述通式(4)所示的多價金屬聚合物、增粘多糖類及明膠中的至少I種， 通式(4) (M1 (O) !(OR1)m (OR2)n (X)i(Y)jOk 式中，i及j各自為O或I, k為2以上的整數，1、m、η各自為O 2的整數，1+m+n =2 ^表示鋁原子、鋯原子或鉿原子#及R2各自表示烷基、酰基或氫原子，可以相同或不同；X及Y各自表示OH、鹵原子、N03、SO4, CO3> R3COO或H2O, R3表示烷基或氫原子。5.根據權利要求1 4中任一項所述的近紅外反射膜，其中，所述水溶性高分子為明膠，所述近紅外反射膜中， 相對于所述高折射率層的總質量含有1)15質量％以上且45質量％以下的平均分子量為3萬以下的低分子量明膠或膠原...
【專利技術屬性】
技術研發人員：當間恭雄，荒井健夫，中島彰久，久光聰史，鈴木伸一，
申請(專利權)人：柯尼卡美能達控股株式會社，
類型：
國別省市：
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