本發明專利技術公開了一種擴散膜涂層的涂覆方法，涉及平板顯示技術中光學薄膜領域。本發明專利技術首先通過對基板進行清洗、干燥，然后預涂一層抗刮層材料組成的抗刮層，并對其干燥處理，再在其表面涂覆一層擴散膜涂層，最后進行紅外線干燥和干燥處理。該方法為擴散膜的涂覆提供了一種新型的涂覆方法，為制備出良好的擴散膜薄膜涂層提供了現實依據。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及平板顯示技術中光學薄膜領域，特別涉及一種用于平板顯示技術中在基板上涂覆擴散膜涂層的涂覆方法路線。
技術介紹
現代高科技的三大重點領域是材料、能源和信息科學。它們對物質材料不斷提出新的性能要求。近幾年來，薄膜技術隨著高科技的發展有了突飛猛進的進展。由于鍍膜技術、薄膜材料、表面物理三者的相互推進和結合，使得薄膜技術成為一門綜合性的應用科學，是今后工業發展的新重點。在一些發達國家，薄膜技術被全方位推廣應用。除了發展光學薄膜集成電路薄膜、液晶顯示膜、磁盤、光盤薄膜外，還大量生產刀具硬質膜、太陽能用薄膜、氣敏元件薄膜、塑料金屬化制品、建筑玻璃膜制品、各種裝飾膜和卷鍍薄膜產品等。薄膜之所以成為研究的熱點，并且具有廣闊的應用前景，是與薄膜材料的以下特點密切相關 許多情況下，材料功能的發揮和作用發生在材料表面。如化學催化、光學反射、場致發射、熱電子逸出等物理化學現象。使用功能薄膜材料比使用體塊功能材料不僅保護資源，而且降低成本。薄膜材料往往具有一些其塊體材料所不具備的性能。這是因為薄膜材料容易形成細晶、非晶狀態，薄膜材料容易處于亞穩態，薄膜往往偏離化學計量比，特殊的材料表面能態等。鍍膜方法有濕法和干法。濕法包括電鍍和化學鍍。干法包括化學氣相沉積法(CVD)和物理氣相沉積法(PVD)。薄膜的制備常采用PVD法和CVD法。PVD法是在真空或超真空下將金屬加熱氣化，通過氣態原子之間或與作保護氣的惰性原子之間碰撞并被捕集于基材上來制備薄膜。CVD法是利用氣相物質的熱分解、熱合成或化學傳輸等在基底材料上生成固態沉積的膜層。一般沉積溫度高達IOOOe左右，有些材料經受不住高溫，則可采用等離子體化學氣相沉積技術。它是用氣體放電等離子體來促進化學反應，這樣可以在較低的溫度下操作(500— 600e)。CVD法包括金屬有機物的化學氣相沉積(M0CVD)和金屬有機物等離子體化學氣相沉積(M0PCVD)等。近年來溶膠-凝膠法鍍膜受到人們的廣泛關注，它具有生產成本相對較低、鍍膜效率高、鍍膜均勻性好等優點。其應用領域的研究非常活躍，在新材料的研制、材料改性與拓寬用途方面也發揮著重要作用。薄膜涂覆是一種重要的現代表面工程技術。涂覆層的化學成分、組織結構可以和基體材料完全不同。涂覆薄膜厚度非常小而且尺寸精度要求非常高，可以起到3方面的作用優化表面性能、進行微細加工和產生新的功能材料。但是薄膜在涂覆過程中往往經常會出現褶皺，條紋，和氣泡等缺陷。薄膜涂覆加工工藝過程對薄膜成膜的質量有著重要的影響，然而大多數研究人員主要是研究薄膜涂料的制備及成型方法，而薄膜的涂覆的加工工藝路線研究較少，因此對薄膜涂層的完整涂覆方法的研究顯得尤其重要。本專利技術方法就是針對目前在薄膜的涂覆過程中容易出現一些缺陷，在光學薄膜的涂覆工藝過程中還沒有形成一個良好的完整涂覆工藝加工方法，提出了一種在基片上涂覆 。
技術實現思路
本專利技術方法的目的是提供一種光學擴散膜的涂覆加工方法，制造出一種良好的光學薄膜，避免薄膜成型過程中出現一些缺陷，成品率高、成膜效果好，從而提高薄膜材料的利用率及增強薄膜的功能效果。為了實現上述目的，本專利技術采用的技術方案是首先對導光板采用超聲波清洗的方法進行清洗，然后在其表面進行預涂一層抗刮材料組成的抗刮層，并對其進行干燥處理，再在該抗刮層表面涂覆一層光學擴散膜涂層，最后對其進行紅外線干燥和干燥處理。整個涂覆過程為制備良好的光學薄膜提供了現實依據。具體方法如下1.超聲波清洗將待清洗的導光板經輸入傳送機傳送到超聲波清洗裝置內，當基板從清洗槽中通過并在清洗液(純水)中浸泡時，基板上下表面就可以同時被清洗。這是由于清洗槽的底部裝有超聲波振板，超聲波頻率控制在28KHz-40KHz范圍內，利用該頻率范圍內的超聲波在水中產生的空穴的空化作用對基板上的污垢進行清除，在空穴破裂的瞬間會放出巨大能量對空穴周圍形成沖擊，把基板表面的污垢薄膜擊破而達到去污的效果。實踐證明用這種方法清除大中尺寸附著粒子很有效。2.預涂在玻璃基板上涂覆一層抗刮材料組成的抗刮層，采用凹版印刷方式進行涂覆，該抗刮層的厚度控制在lum-2um之間，然后用烘干箱在55°C _70°C下進行烘干處理。該抗刮層有很較強的硬度和抗刮能力，在擴散膜和導光板相接觸時，能有效的保護擴散膜不被刮傷。3.擴散膜涂覆擴散層材料采用在芳香族飽和聚酯內混入擴散粒子二氧化硅，芳香族飽和聚酯與擴散粒子二氧化硅的比例為10:0. 8—10:1. 5。首先制備擴散層涂覆乳液，然后利用逆轉凹版輥涂覆方式進行涂覆，涂層的厚度控制在2um-3um之間。該涂覆方式無論在涂覆的均勻性，計量的準確性，還是速度方面都有很大的優勢。4.干燥為了保證良好的干燥，同時也是為了幫助達到最大的結晶速率，要使涂層表面溫度維持在80°C _125°C范圍內。合適的干燥方法是獲得良好涂層的關鍵。最有效的干燥手段是紅外加熱和介質加熱相結合，并且采用梯度加熱和梯度冷卻方法，即涂層表面的溫度分段增加、分段冷卻。最前階段采用紅外線加熱，接著通過介質高速加熱空氣，使擴散膜涂層處于恒定速率加熱階段，最后再用紅外加熱。完成水份全部除去和膜的聚結。加熱干燥后最后，涂覆膜冷卻到32°C以下，最好在24°C -30°C之間，防止粘上灰塵或者發生自粘。本專利技術涂覆方法的創新在于在光學薄膜的制備領域中，提供了一種新型的薄膜涂覆加方法，利用該方法能夠在基板上涂覆出良好的功能性薄膜，從而使其具有良好的性能要求。本專利技術的優點1.對基板進行超聲波清洗，這種清洗方法能夠清除基板上較強粘附污染物，從而為后續涂覆處理奠定了良好的基礎。2.在基板與擴散膜涂層之間涂覆一層抗刮材料組成的抗刮層，該抗刮層能夠有效的阻止基板與擴散膜中擴散粒子(二氧化硅)的磨損，從而有效的提高了擴散膜的擴散效果。3.擴散膜涂覆采用逆轉凹版輥涂覆方式進行涂覆，該涂覆方式無論在涂覆的均勻性，計量的準確性，還是速度方面都有很大的優勢。4.要獲得良好涂層就必須有合適的干燥方法，本方法中采用紅外加熱和介質加熱相結合，并采用梯度加熱和梯度冷卻方法，該干燥方法是獲得良好薄膜涂層的關鍵。5.該專利技術為擴散膜的涂覆提供了一套完整的涂覆方法路線，從而為獲得良好的擴散膜涂層提供了 一種現實依據。附圖說明圖1為在導光板基板上涂覆一層擴散膜的涂覆加工方法流程圖。具體實施例方式以在導光板基板上涂覆擴散膜為例，本方法方法流程圖如圖1所示，具體步驟為第一步，超聲波清洗，將待清洗的TFT-LCD玻璃基板經輸入傳送機傳送到超聲波清洗裝置內，超聲波頻率控制在28KHz-40KHz，搬運速度為3m/min，純水流量為30L/min，此時，洗凈效果最佳，然后用烘干箱在60°C左右進行烘干處理。第二步，預涂，在玻璃基板上涂覆一層抗刮材料組成的抗刮層，采用凹版印刷方式進行涂覆，該抗刮層的厚度控制在lum-2um之間。第三步，干燥，預涂完成后，用烘干箱在55-70°C下進行烘干處理。第四步，擴散膜涂覆，首先制備涂覆乳液，其涂覆乳液各成分的配比為10:1:0. 5:0. 36: 3，具體配置按如下方式稱量芳香族飽和聚酯50kg，二氧化硅5kg，樹脂蠟2. 5kg，藻化乳液1. 8kg，離子交換水15kg，按要求選好稱料后，先將芳香族飽和聚酯乳液加入配料槽內，再本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種擴散膜涂層的涂覆方法，其特征在于：先利用超聲波對基板進行清洗，對其進行烘干處理，然后在基板表面預涂一層抗刮材料組成的抗刮層并對其進行干燥處理，再在抗刮層表面利用逆轉凹版輥涂覆方式涂覆一層擴散膜，最后利用紅外加熱和介質加熱相結合，并且采用梯度加熱和梯度冷卻方法對其進行干燥處理。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：任乃飛，葛小兵，吳迪富，任旭東，孫玉娟，劉丹，陳明陽，孫兵，
申請(專利權)人：江蘇宇迪光學股份有限公司，江蘇大學，
類型：發明
國別省市：
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