一種生產低輪廓電解銅箔用添加劑及生產工藝制造技術

本發明專利技術涉及一種低輪廓電解銅箔，特別涉及生產低輪廓電解銅箔用到的添加劑，還涉及其生產工藝。一種生產低輪廓電解銅箔用添加劑，由以下組分混合而成：3-巰基-1-丙磺酸鈉，0.2～0.4份；聚乙烯亞胺烷基鹽或聚乙烯亞胺烷基化合物，0.8～1.2份；聚乙二醇8000，1.0～2.0份；Ｎ,Ｎ－二乙基硫脲，0.08～0.12份；純水，20份。用本發明專利技術添加劑及生產工藝生產的電解銅箔，不但能保持低輪廓度和低阻抗，同時還能保證較高的抗剝離強度，能同時適用于內外層線路的制作。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種生產低輪廓電解銅箔用添加劑，其特征在于，由以下質量份數的組分混合而成：3?巰基?1?丙磺酸鈉，?????????????????????????????????????0.2～0.4份；聚乙烯亞胺烷基鹽或聚乙烯亞胺烷基化合物，????0.8～1.2份；聚乙二醇8000，??????????????????????????????????????????1.0～2.0份；Ｎ,Ｎ－二乙基硫脲，????????????????????????????????????0.08～0.12份；純水，???????????????????????????????????????????????????????20份。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：周啟倫，黃國平，萬新領，鄭惠軍，朱各桂，高元亨，鄧燁，
申請(專利權)人：聯合銅箔惠州有限公司，
類型：發明
國別省市：