本發明專利技術公開了一種用于離子注入機的束流均勻性檢測的裝置。一種離子注入機可以產生寬帶束或扁狀帶束，為使其正常工作發明專利技術一種檢測束流均勻性裝置。該裝置主要包括：束流收集面板(1)、齒條(2)、電機固定塊(3)、齒輪(4)等。該裝置特征在于，束流收集面板(1)采用蜂窩式排列束流收集框，每一個束流收集框均可以獨立檢測束流大小；該裝置特征還在于可以檢測離子束流在聚焦情況下的束斑剖面密度分布和掃描情況下的束均勻性分布，尤其可以檢測寬帶束流或扁狀帶束。說明書對裝置工作原理進行了詳細的說明，并給出了具體的實施方案。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種蜂窩式束流均勻性檢測裝置，特別適合于半導體工藝設備中的離子注入機。
技術介紹
離子注入機是半導體工藝中離子摻雜的典型設備，離子源產生需要摻雜的離子束，離子束再經過質量分析、校正、加速，傳輸到處于靶室終端工藝腔體的硅片表面。隨著半導體集成電路制造工藝越來越微細化，對半導體制造設備的性能要求也就越來越高。離子注入機是半導體器件制造中關鍵的摻雜設備之一，當器件制造工藝邁入特征尺寸90nm以下，晶圓片尺寸300mm時代，為了保證整個晶片上器件性能的一致性，必須對離子注入摻雜工藝中對整個晶片維持摻雜分布的均勻性有更高的要求。因此，對于注入工藝，低能量大速流的離子注入機是發展的方向。適用于該類離子注入機的離子源需要產生·寬帶束或扁狀帶束。實時并精確檢測離子注入束斑的形狀和均勻性分布變得更加重要。本專利技術實現了束剖面、掃描束均勻性檢測，為精確控制提供了條件。
技術實現思路
針對現有半導體工藝中離子注入機設備發展的要求，本專利技術是針對現有的離子注入機技術中，不能實時檢測束流剖面及掃描束流分布的情況，提出了一種新的檢測裝置，該裝置可以直接從裝置檢測結果得出束斑剖面分布及掃描束流分布，從而使實時精確的控制束流的分布變化提供了硬件基礎。該裝置亦涉及到束流收集面板上蜂窩式束流收集框，該束流收集框具有獨立檢測束流的電路單元。該裝置亦涉及到一種束流收集板上下移動的方式，以便于實時檢測束流。該方式將電機固定塊固定，并通過齒輪和齒條將動力傳遞到束流收集板，驅動束流收集板上下移動。本專利技術有以下幾個顯著特點I.可以實時檢測束流，輸出信號易于觀察和比較；2.結構簡單，便于加工制造；附圖說明圖I是一種蜂窩式均勻性檢測裝置正視圖。圖2是檢測離子束流在聚焦情況下的裝置示意圖。圖3是檢測寬帶束流或扁狀束流時的裝置示意圖。具體實施例方式下面結合附圖和具體實施例對本專利技術作進一步介紹，但不作為對本專利技術專利的限定。本專利技術公開了一種用于離子注入機的離子束流均勻性檢測裝置，如圖I所示，和離子注入機用離子源一起使用。該裝置為使其正常工作提供一種束流均勻性檢測裝置。如圖I所示，該裝置主要包括束流收集面板(I)、齒條(2)、電機固定塊(3)、齒輪(4)等。束流收集面板(I)采用蜂窩式排列的束流收集框,集成了大量的束流收集框,如圖I所示，每一個束流收集框為獨立的檢測點，均可以獨立檢測束流大小，并可以針對每個束流收集框輸出檢測信號。電機固定塊(3)固定于離子注入機的腔體中，并通過齒輪⑷和齒條⑵將動力傳遞到束流收集板(I)，驅動束流收集板(I)上下移動。 該裝置可以檢測離子束流在聚焦情況下的束斑剖面密度分布，如圖2所示，其中圓斑是束流。該裝置亦可以檢測寬帶束流或扁狀束流均勻性分布，如圖3所示，其中方形斑為寬帶束流。本專利技術的特定實施例已對本專利技術的內容做了詳盡說明。對本領域一般技術人員而言，在不背離本專利技術精神的前提下對它所做的任何顯而易見的改動，都構成對本專利技術專利的侵犯，將承擔相應的法律責任。權利要求1.一種用于離子注入機的離子束流均勻性檢測裝置，其中離子注入機可以產生寬帶束或扁狀帶束，該裝置為使其正常工作提供一種束流均勻性檢測裝置。該裝置主要包括束流收集面板(I)、齒條(2)、電機固定塊(3)、齒輪(4)等。2.如權力要求I所述的一種用于離子注入機的離子束流均勻性檢測裝置，該裝置特征在于，束流收集面板(I)采用蜂窩式排列的束流收集框，集成了大量的束流收集框。3.如權力要求2所述的一種用于離子注入機的離子束流均勻性檢測裝置，該裝置特征在于，每一個束流收集框均可以獨立檢測束流大小，并可以針對每個收集點輸出檢測信號。4.如權力要求I所述的一種用于離子注入機的離子束流均勻性檢測裝置，該裝置特征還在于，可以檢測離子束流在聚焦情況下的束斑剖面密度分布和掃描情況下的束均勻性分布，尤其可以檢測寬帶束流或扁狀帶束。5.如權力要求I所述的一種用于離子注入機的離子束流均勻性檢測裝置，該裝置特征還在于，電機固定塊⑶固定，并通過齒輪⑷和齒條⑵將動力傳遞到束流收集板⑴，驅動束流收集板(I)上下移動。全文摘要本專利技術公開了一種用于離子注入機的束流均勻性檢測的裝置。一種離子注入機可以產生寬帶束或扁狀帶束，為使其正常工作專利技術一種檢測束流均勻性裝置。該裝置主要包括束流收集面板(1)、齒條(2)、電機固定塊(3)、齒輪(4)等。該裝置特征在于，束流收集面板(1)采用蜂窩式排列束流收集框，每一個束流收集框均可以獨立檢測束流大小；該裝置特征還在于可以檢測離子束流在聚焦情況下的束斑剖面密度分布和掃描情況下的束均勻性分布，尤其可以檢測寬帶束流或扁狀帶束。說明書對裝置工作原理進行了詳細的說明，并給出了具體的實施方案。文檔編號H01J37/304GK102956424SQ20111024114公開日2013年3月6日 申請日期2011年8月22日 優先權日2011年8月22日專利技術者胡寶富, 唐景庭, 謝均宇 申請人:北京中科信電子裝備有限公司本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種用于離子注入機的離子束流均勻性檢測裝置，其中離子注入機可以產生寬帶束或扁狀帶束，該裝置為使其正常工作提供一種束流均勻性檢測裝置。該裝置主要包括：束流收集面板(1)、齒條(2)、電機固定塊(3)、齒輪(4)等。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：胡寶富，唐景庭，謝均宇，
申請(專利權)人：北京中科信電子裝備有限公司，
類型：發明
國別省市：
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