【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)屬于制造
，具體涉及一種殘極專用拋丸清理機(jī)。
技術(shù)介紹
現(xiàn)有的殘極拋丸清理機(jī)，采用的是在拋丸室兩側(cè)布置拋丸器，并且需兩套循環(huán)系統(tǒng)，殘極直線通過清理室時(shí)，在行走的過程中進(jìn)行清理。由于工件清理時(shí)不能旋轉(zhuǎn)，造成殘極表面清理不均勻。并且需要兩套提升機(jī)、分離器。設(shè)備復(fù)雜、造價(jià)高、易損件多，后期維護(hù)費(fèi)用高
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
·本專利技術(shù)克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出了一種殘極專用拋丸清理機(jī)，所述拋丸清理機(jī)高效，安全可靠，清理效果均勻、密封效果好、自動(dòng)化程度高。本專利技術(shù)的技術(shù)方案為，一種殘極專用拋丸清理機(jī)，包括基底、除塵系統(tǒng)、縱向旋轉(zhuǎn)裝置、橫向旋轉(zhuǎn)裝置，在基底上設(shè)有支撐機(jī)構(gòu)，所述縱向旋轉(zhuǎn)裝置固定在支撐機(jī)構(gòu)上，在縱向旋轉(zhuǎn)裝置的上方依次分別設(shè)置了吹丸室、拋丸室和前附室，在拋丸室的上方設(shè)有分離器，橫向旋轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在拋丸清理機(jī)的后部，在橫向旋轉(zhuǎn)裝置的一端設(shè)有彈丸補(bǔ)充機(jī)構(gòu)，拋丸室通過密閉管道與除塵系統(tǒng)相連通，在彈丸補(bǔ)充機(jī)構(gòu)的側(cè)面設(shè)有提升機(jī)，所述拋丸室設(shè)有夕卜門、內(nèi)門和密閉裝置，在除塵系統(tǒng)的下方設(shè)有電控系統(tǒng)。在拋丸室內(nèi)設(shè)有拋丸器。所述分離器固定在一個(gè)平臺(tái)上。本專利技術(shù)的有益效果本專利技術(shù)高效，安全可靠，清理效果均勻、密封效果好、自動(dòng)化程度高。附圖說明下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本專利技術(shù)進(jìn)一步說明。圖I是本專利技術(shù)的主視結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本專利技術(shù)的后視結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本專利技術(shù)的剖面結(jié)構(gòu)圖。圖中，I、基底；2、吹丸室；3、縱向旋轉(zhuǎn)裝置；4、拋丸室；5、前附室；6、橫向旋轉(zhuǎn)裝置；7、提升機(jī)；8、彈丸補(bǔ)充機(jī)構(gòu)；9、拋丸器；10、彈丸控制系統(tǒng)；11、分離器；12、平臺(tái)；13、除塵系統(tǒng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
殘極專用拋丸清理機(jī)，包括基底、縱向旋轉(zhuǎn)裝置和橫向旋轉(zhuǎn)裝置，其特征是：在基底上設(shè)有支撐機(jī)構(gòu)，所述縱向旋轉(zhuǎn)裝置固定在支撐機(jī)構(gòu)上，在縱向旋轉(zhuǎn)裝置的上方依次分別設(shè)置了吹丸室、拋丸室和前附室，在拋丸室的上方設(shè)有分離器，橫向旋轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在拋丸清理機(jī)的后部，在橫向旋轉(zhuǎn)裝置的一端設(shè)有彈丸補(bǔ)充機(jī)構(gòu)，在彈丸補(bǔ)充機(jī)構(gòu)的側(cè)面設(shè)有提升機(jī)。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：夏克廷，呂洪偉，楊光，李德生，尹曉偉，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：青島雙星鑄造機(jī)械有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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