【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種采用混合等離子體實(shí)現(xiàn)硅基芯片與PDMS芯片鍵合的方法,其特征在于,至少包括步驟:采用氧氣及第二氣體的混合等離子體對所述硅基芯片的鍵合面及PDMS芯片的鍵合面進(jìn)行處理,然后鍵合所述硅基芯片及PDMS芯片,所述第二氣體包括氮?dú)狻⒑狻⒛蕷狻鍤狻㈦礆狻㈦瘹狻㈦睔獾囊环N或其任意比例混合的氣體。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:李鐵,高安然,戴鵬飛,魯娜,薩姆·海米拉,帕西·蓋里奧,王躍林,
申請(專利權(quán))人:中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所,
類型:發(fā)明
國別省市:
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