研磨液供應臂定位輔助工具制造技術

本實用新型專利技術公開了一種研磨液供應臂定位輔助工具，用于調整研磨液供應臂的位置，所述研磨液供應臂的一端設有噴嘴，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心。使用時，操作人員可以通過參照所述參考墊的上表面設有的用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽的位置，進行對研磨液供應臂，從而可以快速到達正確的位置，因而實現了對研磨液供應臂的準確、快速定位。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及半導體制造領域，尤其涉及一種研磨液供應臂定位輔助工具。
技術介紹
在半導體的生產工藝中，經常需要進行化學機械研磨(Chemical MechanicalPolishing, CMP)工藝，化學機械研磨也稱為化學機械平坦化(Chemical MechanicalPlanarization)?；瘜W機械研磨工藝是一個復雜的工藝過程,它是將晶圓(Wafer)表面與研磨墊(Pad)的研磨表面接觸,然后,通過晶圓表面與研磨表面之間的相對運動將晶圓表面平坦化，通常采用化學機械研磨設備，也稱為研磨機臺或拋光機臺來進行化學機械研磨工藝。所述研磨裝置包括一研磨頭(Head)，進行研磨工藝時，將要研磨的晶圓附著在研磨頭上，該晶圓的待研磨面向下并接觸相對旋轉的研磨墊，研磨頭提供的下壓力將該晶圓緊 壓到研磨墊上，所述研磨墊是粘貼于研磨平臺上，當該研磨平臺在馬達的帶動下旋轉時，研磨頭也進行相應運動；同時，研磨液通過研磨液供應臂(TSDA, Tunable Slurry DistributeArm)輸送到研磨墊上,并通過離心力均勻地分布在研磨墊上。請參閱圖I，在進行研磨制程之前，先要將研磨頭4和研磨液供應臂3設置于研磨平臺2上方的正確位置上，對于直徑為15英寸(即381毫米)的研磨平臺，設置研磨頭4的中心01與所述研磨平臺2的中心02的距離hi為5英寸(S卩127毫米)。而研磨液供應臂3的位置需要操作人員通過目測手動調整。一般是通過目測觀察研磨頭4的切線和研磨液供應臂3的噴嘴(Nozzle) 31的距離來確定研磨液供應臂3的位置。由于通過目測尋找研磨頭4的切線，會因個人的熟練程度而有所區別，經常出現研磨液供應管3的位置設置不準確的情況，一方面，容易導致研磨液供應臂3碰撞研磨頭4，另一方面，容易使得研磨液的供應不符合要求，造成產品良率降低。因此，如何提供一種可以實現研磨液供應臂的準確、快速定位的研磨液供應臂定位輔助工具是本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。
技術實現思路
本技術的目的在于提供一種研磨液供應臂定位輔助工具，可以實現對研磨液供應臂的準確、快速定位，以提高研磨效果和研磨效率。為了達到上述的目的，本技術采用如下技術方案—種研磨液供應臂定位輔助工具，用于調整研磨液供應臂的位置，所述研磨液供應臂的一端設有噴嘴，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述若干同心圓凹槽包括密集型同心圓凹槽組和稀疏型同心圓凹槽組，所述密集型同心圓凹槽組位于所述稀疏型同心圓凹槽組的內部。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組包括3-8個小同心圓凹槽，相鄰的小同心圓凹槽之間的距離相等。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述稀疏型同心圓凹槽組包括2-3個大同心圓凹槽，相鄰的大同心圓凹槽的距離與相鄰的大、小同心圓凹槽之間的距離相坐寸ο優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組包括4個小同心圓凹槽，所述稀疏型同心圓凹槽組包括2個大同心圓凹槽。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組中位于最內側的小同心圓凹槽的半徑是90毫米，相鄰的小同心圓凹槽之間的距離是7毫米，相鄰的大同心圓凹槽的距離以及相鄰的大、小同心圓凹槽之間的距離均是14毫米。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，還包括若干半徑線，所述半徑線均勻分布于所述參考墊的下半圓內。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，相鄰的半徑線之間的夾角是30度。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述參考墊的材質是聚亞安酯。優選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述若干同心圓凹槽中每個同心圓凹槽邊上標有表示各自距離參考墊的中心的距離的標記。本技術提供的研磨液供應臂定位輔助工具，采用參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，所述若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心，操作人員通過參照所述若干同心圓凹槽的位置，使研磨液供應臂可以快速到達正確的位置，因而實現了對研磨液供應臂的準確、快速定位。附圖說明本技術的研磨液供應臂定位輔助工具由以下的實施例及附圖給出。圖I為現有的研磨液供應臂調整方法的結構示意圖。圖2為本技術一實施例的研磨液供應臂定位輔助工具的結構示意圖。圖3為研磨后的理想的晶圓表面狀態示意圖。圖4為采用現有的方法對研磨液供應臂調整后進行研磨的晶圓表面狀態示意圖。圖5為采用本技術一實施例的研磨液供應臂定位輔助工具對研磨液供應臂調整后進行研磨的晶圓表面狀態示意圖。圖中，I-參考墊、11-小同心圓凹槽、12-大同心圓凹槽、13-半徑線、2-研磨平臺、3-研磨液供應臂、31-噴嘴、4-研磨頭。具體實施方式下面將參照附圖對本技術進行更詳細的描述，其中表示了本技術的優選實施例，應該理解本領域技術人員可以修改在此描述的本技術而仍然實現本技術的有利效果。因此，下列描述應當被理解為對于本領域技術人員的廣泛知道，而并不作為對本技術的限制。為了清楚，不描述實際實施例的全部特征。在下列描述中，不詳細描述公知的功能和結構，因為它們會使本技術由于不必要的細節而混亂。應當認為在任何實際實施例的開發中，必須作出大量實施細節以實現開發者的特定目標，例如按照有關系統或有關商業的限制，由一個實施例改變為另一個實施例。另外，應當認為這種開發工作可能是復雜和耗費時間的，但是對于本領域技術人員來說僅僅是常規工作。為使本技術的目的、特征更明顯易懂，以下結合附圖對本技術的具體實施方式作進一步的說明。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本技術實施例的目的。請參閱圖2，并結合圖1，本實例提供的研磨液供應臂定位輔助工具，用于調整研磨液供應臂3的位置，所述研磨液供應，3的一端設有噴嘴31，所述研磨液供應臂3的另一·端樞接于研磨機臺的機架(未圖示)，所述研磨液供應臂3能夠繞其另一端進行旋轉，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊1，所述參考墊I同心鋪設于研磨平臺2上，所述參考墊I的中心O與所述研磨平臺2的中心重合。所述參考墊I與所述研磨平臺2的形狀和大小相應，所述參考墊I的上表面設有用于指示研磨液供應臂3 —端的噴嘴31與參考墊I的中心O之間的位置關系的若干同心圓凹槽，所述若干同心圓凹槽以所述參考墊I的中心O為圓心。當需要設置研磨液供應臂3的位置時，操作人員通過參照所述若干同心圓凹槽的位置，轉動所述研磨液供應臂3，直至使得噴嘴31到達指定的位置，從而，可以實現對研磨液供應臂3的準確、快速定位。本實施例中，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述若干同心圓凹槽包括密集型同心圓凹槽組和稀疏型同心圓凹槽組，所述密集型同心圓凹槽組位于所述稀疏型同心圓本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種研磨液供應臂定位輔助工具，用于調整研磨液供應臂的位置，所述研磨液供應臂的一端設有噴嘴，其特征在于，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，所述若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王琳，江思明，丁濤，
申請(專利權)人：中芯國際集成電路制造上海有限公司，
類型：實用新型
國別省市：