釕絡合物和制備光學活性醇化合物的方法技術

本發明專利技術提供了新型釕絡合物、使用該釕絡合物的催化劑、以及使用該釕絡合物制備光學活性醇化合物的方法，所述釕絡合物在羰基化合物不對稱還原的反應性和對映選擇性方面具有出色的催化活性。本發明專利技術涉及具有釕環結構的釕絡合物、由該釕絡合物組成的用于不對稱還原的催化劑和使用該釕絡合物制備光學活性醇的方法。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及新型釕絡合物和使用該釕絡合物作為催化劑制備光學活性醇化合物的方法。
技術介紹
將具有光學活性ニ膦化合物作為配體的過渡金屬絡合物作為不對稱反應的催化劑是非常有用的，并且到目前為止已開發出許多催化劑。在這些催化劑中，釕-ニ膦-ニ胺絡合物(與堿化合物結合)被認為是不對稱氫化的高效催化劑(例如PLT I)。舉例來說，作為合成所述絡合物的方法，已知2 (2)作為所述絡合物的前體在特定的溶劑中，與光學活性ニ膦和光學活性ニ胺依次發生反應(PLT 2)。此外，作為具有光學活性ニ膦和三齒胺配體的絡合物，由下式所表示的化合物是已知的(PLT 3)。權利要求1.由下式(I)所示的釕絡合物 2.如權利要求I所述的釕絡合物，其中，所述釕絡合物為由下式(2)所示的釕絡合物 3.如權利要求I或2所述的釕絡合物，其中，所述釕絡合物為由下式(3)所示的釕絡合物 4.如權利要求1-3中任一項所述的釕絡合物，其中，表示為PハP的所述ニ膦為由下式(4)所示的ニ膦R1R2P-Q-PR3R4 (4) 在所述式中，R1 > R2> R3和R4各自獨立地表示任選取代的芳基基團、任選取代的環烷基基團或者任選取代的烷基基團，并且R1與R2和/或R3與R4可形成環；并且Q表示任選取代的ニ價亞芳基基團、聯苯ニ基基團、聯萘ニ基基團、聯吡啶ニ基基團、對環芳烷ニ基基團或者ニ茂鐵ニ基基團。5.如權利要求1-4中任一所述的釕絡合物，其中，表示為PハP的所述ニ膦為光學活性ニ膦。6.如權利要求1-5中任一所述的釕絡合物，其中，表示為PハP的所述光學活性ニ膦為由下式(5)所示的光學活性ニ膦 7.如權利要求6所述的釕絡合物，其中，所述式(4)中的Ri、R2、R3和R4以及所述式(5)中的R1'、R2/、R3/和R4/為3，5-ニ甲苯基。8.包含權利要求5-7中任一項所述釕絡合物的不對稱還原催化劑。9.制備光學活性醇的方法，其中，在堿化合物存在的情況下，用權利要求8所述的不對稱還原催化劑對羰基基團進行不對稱氫化。10.制備光學活性醇的方法，其中，在堿化合物存在的情況下，用權利要求8所述的不對稱還原催化劑對羰基基團進行不對稱氫轉移還原。11.制備由下式(I)所示的釕絡合物的方法 12.制備由下式(I)所示的釕絡合物的方法13.如權利要求11或12所述制備釕絡合物的方法，其中，在溶劑存在的情況下進行所述反應，其中所使用的溶劑為醇溶劑。14.如權利要求11-13中任一項所述制備釕絡合物的方法，其中，另外加入堿。15.如權利要求11-14中任一項所述制備釕絡合物的方法，其中，表示為P^P的所述二膦為由下式(4)所示的二膦R1R2P-Q-PR3R4 (4) 在所述式中，R1 > R2> R3和R4各自獨立地表示任選取代的芳基基團、任選取代的環烷基基團或任選取代的烷基基團，并且R1與R2和/或R3與R4可形成環；并且Q表示任選取代的二價亞芳基基團、聯苯二基基團、聯萘二基基團、聯吡啶二基基團、對環芳烷二基基團、或_■茂鐵_■基基團。16.如權利要求11-15中任一項所述制備釕絡合物的方法，其中，權利要求11-15中表示為的所述二膦為光學活性二膦。17.如權利要求11-16中任一項所述制備釕絡合物的方法，其中，表示為P^P的所述光學活性二膦為由下式(5)所示的光學活性二膦 18.如權利要求11-17中任一項所述制備釕絡合物的方法，其中，在所述式(4)中的R1、R2、R3和R4以及在所述式(5)中的Ru、R2/、R3/和R4'為3，5-二甲苯基。全文摘要本專利技術提供了新型釕絡合物、使用該釕絡合物的催化劑、以及使用該釕絡合物制備光學活性醇化合物的方法，所述釕絡合物在羰基化合物不對稱還原的反應性和對映選擇性方面具有出色的催化活性。本專利技術涉及具有釕環結構的釕絡合物、由該釕絡合物組成的用于不對稱還原的催化劑和使用該釕絡合物制備光學活性醇的方法。文檔編號C07F15/00GK102858788SQ20108006646公開日2013年1月2日 申請日期2010年12月14日 優先權日2010年4月28日專利技術者奈良秀樹, 橫澤亨 申請人:高砂香料工業株式會社本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：奈良秀樹，橫澤亨，
申請(專利權)人：高砂香料工業株式會社，
類型：
國別省市：