本發明專利技術涉及表面處理方法，所述方法允許賦予基底表面對電磁輻射的減反射特性。在所述表面上沉積對所述電磁輻射透明的膜，所述膜包括在所述膜內呈分散狀態的尺度小于５微米的分散體，所述分散體包括：具有第一折射率ｎＣ的核；以及具有與所述核的第一折射率ｎＣ不同的第二折射率ｎＥ的被稱為皮的包圍所述核的層，其中，所述核的尺度與核皮組合體的尺度之比介于１∶１．５和１∶５之間。本發明專利技術還涉及根據所述方法獲得的覆膜基底。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】包括具有折射率不同的兩個獨立區域的分散體的減反射膜本專利技術涉及通過賦予材料表面減反射特性來改變該表面的光學特性的方法。本專利技術尤其涉及應用于尤其由玻璃或聚碳酸酯制成的透明基底上的上述類型的減反射膜，該膜允許增強該透明基底的透光性。本專利技術還涉及覆有在該范圍內獲得的減反射膜的基底，該基底通?？梢允峭腹庑缘玫絻灮耐该鞴鈱W裝置(例如光學透鏡)。“賦予減反射特性的表面處理”在本文中是指對固體基底的表面的改性，利用該改性可減少在紫外到紅外區域(其波長通常介于150納米和2500納米之間)的至少一些電磁波在該固體基底的被改性表面上的反射性。更確切地，在本專利技術的意義上，“減反射”處理的概念是指當該類型的處理被應用在透明基底上時，其通過增強至少一些電磁波(材料對這些電磁波是透明的)穿過所述透明基底的透射性來抑制所述至少一些電磁波的反射。 在眾多工業領域，尤其在光學領域，尤其追求這類型的減反射特性(例如，對于激光器類型的裝置而言，配備透射性盡可能優化的透鏡將尤為有利)。已經描述了可賦予上述類型的減反射效果的不同的表面處理，尤其針對在玻璃或聚碳酸酯的基底上賦予減反射效果。在此范圍內研發的表面處理方法一般包括沉積折射率不同的多個連續層，通常為交替的至少三層(一般是折射率為I1的層、折射率為i2且i2 < I1的層、然后是折射率為i3且i3 > i2的層)。對于涉及這種類型的多層膜的更多細節，尤其可以參考Advances in nanomaterials and processing,第一部分禾口第二部分；Solid State America, Vol 124-126，p. 559-562，Solar Energy Materials and Solar Cells, Vol. 90nov. 2006 ；或者參考專利申請 EP 1433809 和 US 2004/71889。尤其用于保證鏡片玻璃上的減反射效果的上述類型的減反射膜的缺點在于尤其在其涉及對數個連續層的沉積的情況下，其實施起來十分繁重，這同時表現為在制造成本和生產時間方面的增加。而且，各個連續沉積通常按照在真空下實施的方法來進行，真空的應用進一步增加了制造成本。此外，在所處理的基底上必須沉積數個連續層，這導致最終沉積的厚度相對較大， 這可能有損于透射性(一部分波可能會在多層膜處被吸收)。雖然這些吸收現象對鏡片玻璃的影響還相對不怎么明顯，但是它們對諸如激光器的光學儀器具有顯然更明顯的影響， 因為，在這些儀器上，即便非常輕微的透射性的下降也會對儀器的最終效果造成十分明顯的影響。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提出一種與上述多層膜方法相比至少同樣有效且優選地更有效的新的減反射處理方法，該方法允許以更方便和成本更低的方式改性透明基底，尤其是基于玻璃和聚碳酸酯的透明基底，從而賦予其特別強的透光性，優選其透光性等于甚至高于用上述多層膜技術的方法獲得的透光性。為此，根據第一方面，本專利技術的一個目的在于一種基底表面的處理方法，所述方法允許賦予所述表面針對電磁輻射的減反射特性，其中，在所述表面上沉積對所述電磁輻射透明的膜，所述膜包括在所述膜內呈分散狀態的尺度小于5微米、優選地小于2微米的分散體，所述分散體至少包括由兩種不同的基底(這兩種基底對所述電磁輻射透明且具有不同的折射率)構成的兩個區域，即-具有第一折射率nc的核；以及-具有不同于所述核的折射率的第二折射率nE的包圍所述核的層(以下稱為 “皮”)，其中，所述核的尺度與核/皮組合體的尺度之比介于1 1.5和1 5之間。根據本專利技術的第一種方法沉積的膜及其包含的分散體至少對從紫外到紅外范圍內的某些電磁波透明，且尤其對希望獲得減反射效果的波透明。其通?？稍谝曈X上透明 (即對全部或部分可見光透明)?；蛘?，其可僅在光學上透明，即僅對某些不可見的輻射(紫外線和/或紅外線)透明。根據一個具體實施方案，表面被按照本專利技術的方法改性的基底是透明基底。其例如為玻璃或聚碳酸酯的基底。在本專利技術的意義上，對于給定波長為λ的電磁輻射，當膜、分散體、材料或基底被所述電磁輻射的通量穿過，優選不吸收該通量或僅吸收該通量的少部分時，其被稱作“透明的”。優選地，被稱作對波長λ透明的材料或基底優選地對該波長具有盡可能小的摩爾吸收系數，對相關波長而言，該摩爾吸收系數(也被稱為摩爾“消光”系數)優選地等于或小于200L. moF1. cnT1，更優選地等于或小于100L. moF1. cnT1。在根據本專利技術的方法沉積的膜中呈分散狀態的分散體的核和皮由基體構成，該基體尤其對希望獲得減反射效果的電磁輻射透明。構成本說明書中所討論的分散體的核和皮的基體的折射率，即分別為核的第一折射率ne和包圍核的層的第二折射率nE，是指基體對希望進行減反射處理的電磁輻射的波長(或多個波長)的折射率。優選地，根據本專利技術方法沉積的透明減反射膜是單層膜，源于在待改性表面上沉積的唯一單層。所沉積的膜的厚度通常介于10納米和10微米之間，更優選地介于50納米和5微米之間。無論是對于從幾十到幾百納米(例如介于10和900納米之間、尤其介于50 和500納米之間)的薄層，還是對于厚度為微米級(例如從1到10微米、尤其從1到5微米)的層，都一樣能獲得根據本專利技術的減反射特性。尤其對于旨在增強透射性的減反射應用(通常是透鏡的表面處理)而言，特別是對涉及紫外線和/或可見光范圍內的電磁輻射的這種類型的減反射應用而言，通常優選的是(尤其為了限制由沉積層所致的任何多余吸收現象)，所沉積的透明膜的厚度小于1微米、優選地小于800納米、更優選地小于500納米，有利的是，該厚度介于10和600納米之間、尤其介于50和500納米之間；例如介于100和400納米之間。對涉及紅外范圍內的電磁輻射的減反射應用而言，可能期望較大的厚度(達到幾微米)。對此應注意，希望獲得減反射效果的輻射的波長越大，則存在于根據本專利技術沉積的膜中的分散體的尺度優選地也越大(通常而言，對于給定波長為λ的電磁輻射，優選分散體的核的尺寸大于λ/4且沉積在核上的厚度也大于λ/4)。當希望賦予不透明材料表面減反射特性時，同樣也推薦微米層 (即厚度大于或等于1微米的層)。分散在透明膜內的分散體是各向同性或各向異性的分散體，優選地具有小于2微米的尺度，所述尺度通常介于2納米和1微米之間。尤其為了使其具有折射率明顯不同的核區和皮區，所述分散體的尺度優選地等于至少3納米、更優選地等于至少5納米(有利的是，所述尺度大于或等于10納米；甚至20納米，例如至少為50納米)。通常而言，分散在根據本專利技術的透明膜內的分散體的尺度介于10納米和800納米之間，例如介于20和600納米之間。所期望的透明膜的厚度越小，則所述尺度應選擇得越小(透明膜的厚度一般至少等于其包含的分散體的尺度)。因此，通常而言，沉積其中分散體的尺度小于400納米、例如小于300納米、更優選地小于200納米、甚至小于100納米的層對于獲得適用于增強紫外線或可見光輻射在透明材料內的透射性的薄膜層而言是很有利的。分散于在本專利技術方法的范圍內沉積的透明膜內的分散體通常由上述類型的核構成，該核具有第一折射率ne且被具有第二折射率nE的皮包圍?；蛘?，然而，分散體可以包括包圍核/皮組合體的至少一個附加包層。如果發生本文檔來自技高網...
【技術保護點】
１．一種基底表面的處理方法，所述方法允許賦予所述表面針對電磁輻射的減反射特性，其中，在所述表面上沉積對所述電磁輻射透明的透明膜，所述透明膜包括在所述膜內呈分散狀態的尺度小于５微米、優選地小于２微米的分散體，所述分散體包括由對所述電磁輻射透明并具有不同的折射率的基體構成的至少兩個區域，即：－具有第一折射率ｎＣ的核；以及－被稱為皮的包圍所述核的層，其具有與所述核的第一折射率ｎＣ不同的第二折射率ｎＥ，其中，所述核的尺度與核皮組合體的尺度之比介于１∶１．５和１∶５之間。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：梅拉妮·盧阿恩，
申請(專利權)人：波利里瑟公司，
類型：發明
國別省市：FR
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