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本發(fā)明涉及表面處理方法，所述方法允許賦予基底表面對(duì)電磁輻射的減反射特性。在所述表面上沉積對(duì)所述電磁輻射透明的膜，所述膜包括在所述膜內(nèi)呈分散狀態(tài)的尺度小于５微米的分散體，所述分散體包括：具有第一折射率ｎＣ的核；以及具有與所述核的第一折射率ｎＣ...該專利屬于波利里瑟公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過波利里瑟公司授權(quán)不得商用。