污染性評價方法、污染性評價裝置、光學(xué)部件的制造方法、光學(xué)疊層體以及顯示器產(chǎn)品制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提供可適用于各種部件、再現(xiàn)性高、可檢測微妙的污跡差異 的防污性定量的污染性評價方法、污染性評價裝置、光學(xué)部件的制造方 法、以及具有防指紋附著性、抗污染性、從污染的恢復(fù)度的光學(xué)疊層體、 和具有該光學(xué)疊層體的顯示器產(chǎn)品。本發(fā)明專利技術(shù)的染性評價方法對試驗體照 射光，檢測在該試驗體上反射或透射的散射光，評價上述試驗體的表面 的污染程度。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及利用從試驗體透射或反射的散射光的污染性評價方法、 采用該方法的污染性評價裝置、光學(xué)部件的制造方法、光學(xué)疊層體以及 采用該光學(xué)疊層體的顯示器產(chǎn)品。
技術(shù)介紹
在以顯示器用防反射膜或觸摸面板用防反射膜等光學(xué)膜為代表的光 學(xué)部件中，其要求的性能之一是具有防污性。作為在防污性中主要關(guān)注 的方面，具體來說可舉出指紋附著性及指紋擦去性。即，在光學(xué)部件中， 由于指紋附著而產(chǎn)生的污跡和指紋擦去后殘留的污跡而導(dǎo)致本來應(yīng)該發(fā) 現(xiàn)的光學(xué)特性降低，因此需要如指紋附著性低、且即使附著也能夠簡單 擦去這樣的性能。另外，根據(jù)要求光學(xué)部件的防污性提高的情況，該防污性自身評價 的再現(xiàn)性也變得重要。例如，在專利文獻l中記載了高再現(xiàn)性地定量評價 光盤表面的防污性、指紋附著性或指紋去除性用的人工指紋液。專利文獻1日本專利第3745317號公報(段落0006， 0057) 如上所述，當(dāng)前的現(xiàn)狀是雖然很重視防污性自身評價的再現(xiàn)性，但 還沒有提出高再現(xiàn)性地定量評價防污性的方法。例如，專利文獻l的目的 是通過開發(fā)人工指紋液來提高指紋附著階段中的再現(xiàn)性。關(guān)于指紋附著 性及指紋去除性的定量評價，在該文獻中是通過測定記錄于光盤內(nèi)的信 號的抖動來進行評價的。這是僅能在光盤上實現(xiàn)的評價方法，無法在用 于其他用途的光學(xué)部件(例如，顯示器用防反射膜或觸摸面板用防反射膜 等光學(xué)薄膜)中廣泛應(yīng)用。因此，關(guān)于指紋附著性及指紋去除性的防污性評價，在當(dāng)前主要是4進行基于目測的感官評價。但是，在目測觀察中難以對污跡的微小差異 進行檢測或評價，更無法說再現(xiàn)性高了。另外，作為需至少定量評價指紋附著性及指紋去除性的防污性的顯 示器用光學(xué)部件中的嘗試，例如，采用評價光學(xué)部件的裝置，利用霧度 變化、水滴或其他溶劑的接觸角、反射率變化來進行評價。但是，用于 霧度或反射率測定的光是正反射光，該正反射光的光量強，所以感光度(作為分光器為S/N比)低，從而存在如下的問題，被指紋一次污染，即使將 其擦去后也仍存在殘留的指紋等微小異物，導(dǎo)致無法很好地進行檢測。 即，具有在采用正反射光的裝置中無法使正確的指紋附著和除去后的差 異定量化這樣的課題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)是為了解決上述課題而開發(fā)的，其目的是提供可適用于各種 部件、再現(xiàn)性高且能夠檢測出污跡的微妙差異的污染性評價方法、污染 性評價裝置、以及光學(xué)部件的制造方法。在上述目的下，本專利技術(shù)人進行了防污性為何成為問題的根本性研究。 結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通常人類感到在例如顯示器表面等上有異物大體上是觀察異 物對室內(nèi)照明光的擴散光的顏色或亮度變化來對透射光(來自顯示器中的 透射光)、反射光(反射到顯示器表面的外光)進行感知，由于存在異物， 所以基本不能觀察并感知到正反射光變化的情況。因附著在光學(xué)部件等 試驗體上的污跡(例如指紋)而發(fā)生亂反射的散射光被人眼觀測為污跡。本 專利技術(shù)人基于這點，通過檢測上述散射光，來找到可再現(xiàn)性高地評價光學(xué) 部件等試驗體的污染程度的方法，完成本專利技術(shù)。艮P，本專利技術(shù)的污染性評價方法的特征是，對試驗體照射光，檢測在 該試驗體上反射或透射的散射光，來評價上述試驗體的表面的污染程度。根據(jù)本專利技術(shù)，提供可適用于以各種光學(xué)部件為主的試驗體的、再現(xiàn) 性高、可檢測微妙的污跡差異的防污性定量的污染性評價方法。另外，在本專利技術(shù)的污染性評價方法中，上述試驗體的表面可被人為 地污染。根據(jù)本專利技術(shù)不僅能夠評價試驗體的污染程度還能夠評價試驗體的防污性能(抗污染性)。另外，在本專利技術(shù)的污染性評價方法中優(yōu)選上述人為的污染是通過指 紋附著引起的污染。在指紋附著引起的污染中尤其可再現(xiàn)性高地評價試 驗體的污染程度及試驗體的防污性能(抗污染性)。另外，在本專利技術(shù)的污染性評價方法中，在評價了上述試驗體的表面 的污染程度后，清洗該試驗體的表面，并再次評價該試驗體的污染程度， 由此來評價上述表面從污染的恢復(fù)程度。根據(jù)本專利技術(shù)，可評價試驗體從 污染的恢復(fù)程度(清潔度的恢復(fù)程度)。另外，在本專利技術(shù)的污染性評價方法中，優(yōu)選利用由國際照明委員會(CIE)規(guī)定的I^^W色彩模型來評價上述試驗體的表面的污染程度。根據(jù) 本專利技術(shù)可取得定量性、客觀性高的評價結(jié)果。本專利技術(shù)的污染性評價裝置的特征是具有試驗體的設(shè)置臺；光源， 其對設(shè)置在該設(shè)置臺上的試驗體照射光；積分球，其會聚在該試驗體上 反射或透射的散射光；以及散射光檢測器，其檢測會聚的散射光，評價 上述試驗體的表面的污染程度。根據(jù)本專利技術(shù)，提供可適用于以各種光學(xué)部件為主的試驗體的、再現(xiàn) 性高、可檢測微妙的污跡差異的防污性定量的污染性評價裝置。本專利技術(shù)的光學(xué)部件的制造方法的特征是具有以下工序取得光學(xué)部 件的工序；以及在人為地污染了上述光學(xué)部件表面后，對該光學(xué)部件照 射光，檢測在該光學(xué)部件上反射或透射的散射光，評價上述光學(xué)部件的 污染程度的檢查工序。根據(jù)本專利技術(shù)，提供可適用于以各種光學(xué)部件為主的試驗體的、再現(xiàn) 性高、可檢測微妙的污跡差異的防污性定量的檢査工序。另外，在本專利技術(shù)的光學(xué)部件的制造方法中優(yōu)選上述人為的污染是由 于指紋附著引起的污染。在指紋附著引起的污染中，尤其可再現(xiàn)性高地 進行試驗體的污染程度及試驗體的防污性能(抗污染性)的評價。另外，在本專利技術(shù)的光學(xué)部件的制造方法中，在上述檢查工序中優(yōu)選 在評價了上述光學(xué)部件的表面的污染程度后，清洗該光學(xué)部件的表面， 并再次評價該光學(xué)部件的污染程度，由此來評價上述表面從污染的恢復(fù)6程度。根據(jù)本專利技術(shù)提供可評價試驗體從污染的恢復(fù)程度(清潔度的恢復(fù)程 度)的檢査工序。另外，在本專利技術(shù)的光學(xué)部件的制造方法中優(yōu)選利用由國際照明委員會(C正)規(guī)定的I^a化+色彩模型來評價上述光學(xué)部件的表面的污染程度。 根據(jù)本專利技術(shù)可取得定量性、客觀性高的評價結(jié)果。另外，在本專利技術(shù)的光學(xué)部件的制造方法中優(yōu)選上述光學(xué)部件是光學(xué) 膜。根據(jù)本專利技術(shù)提供作為光學(xué)部件優(yōu)選的例子的光學(xué)膜的有效制造方法。 作為光學(xué)膜除了例如液晶顯示器用的光學(xué)膜之外，還能夠舉出可適用于 PDP、 CRT、 ELD等所謂顯示器的光學(xué)膜。根據(jù)本專利技術(shù)可提供能夠適用于以各種光學(xué)部件為主的試驗體的、再 現(xiàn)性高且能夠檢測出微妙的污跡差異的防污性定量的污染性評價方法、 用于實施該評價方法的污染性評價裝置以及利用了該評價方法的光學(xué)部 件的制造方法。附圖說明圖l表示反射型的污染性評價裝置的示意性截面圖。 圖2表示透射型的污染性評價裝置的示意性截面圖。 圖3是表示基于AE-ab的污染程度的定量評價關(guān)系的曲線圖。符號說明-la， lb光源 2a， 2b設(shè)置臺 3a， 3b積分球 4散射光檢測器 5， 5a、 5b試驗體 6丙烯酸板10， 11污染性評價裝置具體實施方式接著，對本專利技術(shù)的實施方式進行詳細說明，不過本專利技術(shù)不限于以下 實施方式，在其主旨范圍內(nèi)可進行各種變形并實施。在本專利技術(shù)中，對試驗體照射光，檢測在該試驗體上反射或透射的散 射光，以評價試驗體表面的污染程度。本專利技術(shù)在采用了利用散射光的評價方法方面具有特征。由于在以顯 示器用防反射膜或觸摸面板用防反射膜等光學(xué)膜為代表的光學(xué)部件表面 上附著的污跡，而使來自該表面的反射光進行亂反射，由該亂反射引起 的散射光被人眼看到而被識別為污跡(紊亂)。例如，人們很在意人眼能 夠看到的附著在移動電話的顯示器上的指紋是因為由于附著的指紋而使 來自移動電話顯示器的反射光亂反射，本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種污染性評價方法，其特征在于，　對試驗體照射光，檢測在該試驗體上反射或透射的散射光，來評價上述試驗體的表面的污染程度。

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】2006.9.8 JP 244543/20061. 一種污染性評價方法，其特征在于，對試驗體照射光，檢測在該試驗體上反射或透射的散射光，來評價上述試驗體的表面的污染程度。2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的污染性評價方法，其特征在于， 上述試驗體的表面被人為地污染。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的污染性評價方法，其特征在于， 上述人為的污染是由于指紋附著引起的污染。4. 根據(jù)權(quán)利要求1 3中任意一項所述的污染性評價方法，其特征在于，在評價了上述試驗體的表面的污染程度后，清洗該試驗體的表面， 并再次評價該試驗體的污染程度，由此來評價上述表面從污染的恢復(fù)程 度。5. 根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項所述的污染性評價方法，其特征在于，利用由國際照明委員會(C正)規(guī)定的I^a^^色彩模型來評價上述試 驗體的表面的污染程度。6. —種污染性評價裝置，其特征在于，具有 試驗體的設(shè)置臺；光源，其對設(shè)置在該設(shè)置臺上的試驗體照射光； 積分球，其會聚在該試驗體上反射或透射的散射光；以及 散射光檢測器，其檢測會聚的散射光，評價上述試驗體的表面的污 染程度。7. —種光學(xué)部件的制造方法，其特征在于，具有以下的工序-取得光學(xué)部件的工序；以及在人為地污染了上述光學(xué)部件的表面后，對該光學(xué)部件照射光，檢 測在該光學(xué)部件上反射或透射的散射光，評價上述光學(xué)部件的污染程度 的檢查工序。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：伊藤潔，
申請(專利權(quán))人：大日本印刷株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：JP