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本發(fā)明提供可適用于各種部件、再現(xiàn)性高、可檢測微妙的污跡差異 的防污性定量的污染性評價方法、污染性評價裝置、光學(xué)部件的制造方 法、以及具有防指紋附著性、抗污染性、從污染的恢復(fù)度的光學(xué)疊層體、 和具有該光學(xué)疊層體的顯示器產(chǎn)品。本發(fā)明的染性評價方...該專利屬于大日本印刷株式會社所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過大日本印刷株式會社授權(quán)不得商用。