【技術實現步驟摘要】
本申請是有關于一種線性電漿制程機構，特別是指一種具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構。
技術介紹
1、縱觀目前電漿制程技術，可包括清潔、物體表面處理、蝕刻以及鍍膜等，而被廣泛應用于金屬、玻璃、半導體以及顯示器等產業中，如何有效的利用電漿制程技術并達到提升制程良率、穩定產品品質、提升量產效率的目的，即為相關業者所共同努力的目標。
2、其中，連續式（inline）制程設備為常用的電漿制程設備之一，其利用不同腔體的串連，而依序的在各腔體內進行相關制程處理，而電漿制程容易在制程過程中產生高溫，若待制程物體本身無法承受高溫，便會發生待制程物體的變形、制程結果不理想等問題。一般解決方式為降低電漿制程的速度以及功率，來減少高溫狀況的發生；或者，通過在電漿制程腔體之間增設緩沖腔體的方式，使待制程物體可于緩沖腔體中進行緩沖降溫。
3、然而，連續式電漿制程設備通常需要在一定的真空環境條件，而且真空環境又難以快速的進行降溫，使得電漿制程效率無法有效的提升。
技術實現思路
1、為解決上述課題，本申請提供一種具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構改善過去連續式鍍膜設備的冷卻緩沖效率低，而影響整體量產速度的問題。
2、本申請提供一種具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，線性電漿制程機構包括一輸送單元、一鍍膜腔體及一緩沖腔體。輸送單元沿一水平的傳輸方向移動一待鍍物，將待鍍物沿傳輸方向輸入至鍍膜腔體內以進行鍍膜處理。至少一緩沖腔體與鍍膜腔體連接設置，輸送單元將待鍍物沿傳輸方向輸入緩沖腔體內進
3、于本申請一較佳實施例中，所述緩沖腔體還具有一設于上冷卻區頂部的冷卻單元，而于待鍍物位移至上冷卻區時，對待鍍物的上表面進行冷卻。
4、于本申請一較佳實施例中，所述冷卻單元具有一冷卻板，以面接觸的方式接觸待鍍物的上表面進行冷卻。
5、于本申請一較佳實施例中，所述第一升降單元具有多個第一承載臂，以承接待鍍物進行垂直位移。
6、于本申請一較佳實施例中，所述輸送單元具有沿傳輸方向兩側分別設置的多個第一側傳輸滾輪以及多個第二側傳輸滾輪，這些第一側傳輸滾輪沿傳輸方向間隔設置，這些第二側傳輸滾輪沿傳輸方向間隔設置，這些第一承載臂部分設于這些第一側傳輸滾輪之間的空隙位置，部分設于這些第二側傳輸滾輪之間的空隙位置。
7、于本申請一較佳實施例中，所述第一升降單元還具有一與這些第一承載臂連接的承載模組，承載模組用以承接待鍍物，并接觸于待鍍物的下表面。
8、于本申請一較佳實施例中，所述承載模組具有一承接板以及一冷卻管路，承接板接觸待鍍物的下表面，而冷卻管路則位于承接板遠離待鍍物一側。
9、于本申請一較佳實施例中，所述輸送單元沿傳輸方向的兩側還具有多個第一側輔助輸送輪及多個第二側輔助輸送輪，這些第一側輔助輸送輪及這些第二側輔助輸送輪接觸待鍍物，供維持待鍍物的傳輸方向。
10、于本申請一較佳實施例中，所述緩沖腔體還具有一下冷卻區，下冷卻區連通轉送區并位于轉送區的下方，與上冷卻區相對設置，第一升降單元可于上冷卻區、轉送區及下冷卻區垂直升降移動。
11、于本申請一較佳實施例中，所述輸送單元具有沿傳輸方向兩側分別設置的多個第一側傳輸滾輪、一與這些第一側傳輸滾輪連接的第一退讓模組、多個第二側傳輸滾輪以及一與這些第二側傳輸滾輪連接的第二退讓模組，這些第一側傳輸滾輪沿傳輸方向間隔設置，這些第二側傳輸滾輪沿傳輸方向間隔設置，第一退讓模組與第二退讓模組供這些第一側傳輸滾輪與這些第二側傳輸滾輪挪開空間，而使待鍍物可通過第一升降單元穿梭于上冷卻區、轉送區及下冷卻區之間。
12、于本申請一較佳實施例中，所述緩沖腔體還具有一第二升降單元，第二升降單元是設于下冷卻區，并可移動于轉送區及下冷卻區；第一升降單元則設于上冷卻區，并可移動于轉送區及上冷卻區。
13、于本申請一較佳實施例中，所述第二升降單元還具有多個第二承載臂及一與這些第二承載臂連接的承載模組，承載模組用以承接待鍍物，并接觸于待鍍物的下表面。
14、于本申請一較佳實施例中，所述承載模組具有一承接板以及一冷卻管路，承接板接觸待鍍物的下表面，而冷卻管路則位于承接板遠離待鍍物一側。
15、于本申請一較佳實施例中，所述第一升降單元具有多個垂直且間隔疊置的承載模組，這些承載模組之間分別形成一存放空間，以供放置待鍍物，這些承載模組通過第一升降單元穿梭于上冷卻區、轉送區及下冷卻區之間。
16、于本申請一較佳實施例中，所述多個承載模組分別具有一承接板以及一冷卻管路，承接板用以接觸待鍍物的下表面，冷卻管路則位于承接板遠離待鍍物一側。
17、借此，本申請提供一緩沖腔體，通過緩沖腔體內的第一升降單元將在轉送區的待鍍物垂直升降移動至上冷卻區，并讓待鍍物閑置于上冷卻區，充分地給予待鍍物冷卻緩沖的時間。同時，無待鍍物的轉送區，輸送單元可繼續沿水平的傳輸方向，輸入其他待鍍物至轉送區中，達到有效地對待鍍物進行冷卻緩沖的目的，以及增加生產線的作業效率。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該緩沖腔體還具有一設于該上冷卻區頂部的冷卻單元，而于該待鍍物位移至該上冷卻區時，對該待鍍物的上表面進行冷卻。
3.根據權利要求2所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該冷卻單元具有一冷卻板，以面接觸的方式接觸該待鍍物的上表面進行冷卻。
4.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該第一升降單元具有多個第一承載臂，以承接該待鍍物進行垂直位移。
5.根據權利要求4所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該輸送單元具有沿該傳輸方向兩側分別設置的多個第一側傳輸滾輪以及多個第二側傳輸滾輪，這些第一側傳輸滾輪沿該傳輸方向間隔設置，這些第二側傳輸滾輪沿該傳輸方向間隔設置，這些第一承載臂部分設于這些第一側傳輸滾輪之間的空隙位置，部分設于這些第二側傳輸滾輪之間的空隙位置。
6.根據權利要求5所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該第一升降單元還
7.根據權利要求6所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該承載模組具有一承接板以及一冷卻管路，該承接板接觸該待鍍物的下表面，而該冷卻管路則位于該承接板遠離該待鍍物一側。
8.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該輸送單元沿該傳輸方向的兩側還具有多個第一側輔助輸送輪及多個第二側輔助輸送輪，這些第一側輔助輸送輪及這些第二側輔助輸送輪接觸該待鍍物，供維持該待鍍物的該傳輸方向。
9.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該緩沖腔體還具有一下冷卻區，該下冷卻區連通該轉送區并位于該轉送區的下方，與該上冷卻區相對設置，該第一升降單元可于該上冷卻區、該轉送區及該下冷卻區垂直升降移動。
10.根據權利要求9所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該輸送單元具有沿該傳輸方向兩側分別設置的多個第一側傳輸滾輪、一與這些第一側傳輸滾輪連接的第一退讓模組、多個第二側傳輸滾輪以及一與這些第二側傳輸滾輪連接的第二退讓模組，這些第一側傳輸滾輪沿該傳輸方向間隔設置，這些第二側傳輸滾輪沿該傳輸方向間隔設置，該第一退讓模組與該第二退讓模組供這些第一側傳輸滾輪與這些第二側傳輸滾輪挪開空間，而使該待鍍物可通過該第一升降單元穿梭于該上冷卻區、該轉送區及該下冷卻區之間。
11.根據權利要求10所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該緩沖腔體還具有一第二升降單元，該第二升降單元是設于該下冷卻區，并可移動于該轉送區及該下冷卻區；該第一升降單元則設于該上冷卻區，并可移動于該轉送區及該上冷卻區。
12.根據權利要求11所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該第二升降單元還具有多個第二承載臂及一與這些第二承載臂連接的承載模組，該承載模組用以承接該待鍍物，并接觸于該待鍍物的下表面。
13.根據權利要求12所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該承載模組具有一承接板以及一冷卻管路，該承接板接觸該待鍍物的下表面，而該冷卻管路則位于該承接板遠離該待鍍物一側。
14.根據權利要求10所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該第一升降單元具有多個垂直且間隔疊置的承載模組，這些承載模組之間分別形成一存放空間，以供放置該待鍍物，這些承載模組通過該第一升降單元穿梭于該上冷卻區、該轉送區及該下冷卻區之間。
15.根據權利要求14所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，這些承載模組分別具有一承接板以及一冷卻管路，該承接板用以接觸該待鍍物的下表面，該冷卻管路則位于該承接板遠離該待鍍物一側。
...【技術特征摘要】
1.一種具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該緩沖腔體還具有一設于該上冷卻區頂部的冷卻單元，而于該待鍍物位移至該上冷卻區時，對該待鍍物的上表面進行冷卻。
3.根據權利要求2所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該冷卻單元具有一冷卻板，以面接觸的方式接觸該待鍍物的上表面進行冷卻。
4.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該第一升降單元具有多個第一承載臂，以承接該待鍍物進行垂直位移。
5.根據權利要求4所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該輸送單元具有沿該傳輸方向兩側分別設置的多個第一側傳輸滾輪以及多個第二側傳輸滾輪，這些第一側傳輸滾輪沿該傳輸方向間隔設置，這些第二側傳輸滾輪沿該傳輸方向間隔設置，這些第一承載臂部分設于這些第一側傳輸滾輪之間的空隙位置，部分設于這些第二側傳輸滾輪之間的空隙位置。
6.根據權利要求5所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該第一升降單元還具有一與這些第一承載臂連接的承載模組，該承載模組用以承接該待鍍物，并接觸于該待鍍物的下表面。
7.根據權利要求6所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該承載模組具有一承接板以及一冷卻管路，該承接板接觸該待鍍物的下表面，而該冷卻管路則位于該承接板遠離該待鍍物一側。
8.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該輸送單元沿該傳輸方向的兩側還具有多個第一側輔助輸送輪及多個第二側輔助輸送輪，這些第一側輔助輸送輪及這些第二側輔助輸送輪接觸該待鍍物，供維持該待鍍物的該傳輸方向。
9.根據權利要求1所述的具有冷卻緩沖腔的線性電漿制程機構，其特征在于，該緩沖腔體還具有一下冷卻區，該下冷卻區連通該轉送區并位于該轉送區的下方，與該上冷卻區...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李原吉，劉品均，楊峻杰，林忠炫，賴青華，林岱蔚，紀宏鵬，盧志銘，楊正暐，
申請(專利權)人：友威科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。