感應(yīng)加熱式爐灶制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種感應(yīng)加熱式爐灶，其中，包括：殼體；蓋板，與殼體的上端結(jié)合，在蓋板的頂面設(shè)置有配置被加熱物體的上板部；工作線圈，設(shè)置在殼體的內(nèi)部；薄膜，被涂覆到上板部，被工作線圈感應(yīng)加熱；以及隔熱材料，設(shè)置在上板部和工作線圈之間，薄膜可以形成為具有至少一個(gè)不包括工作線圈的中心區(qū)域的閉合回路。不包括工作線圈的中心區(qū)域的閉合回路。不包括工作線圈的中心區(qū)域的閉合回路。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】感應(yīng)加熱式爐灶


[0001]本專利技術(shù)涉及感應(yīng)加熱式爐灶。更詳細(xì)而言，本專利技術(shù)涉及一種涂覆有薄膜的感應(yīng)加熱式爐灶。

技術(shù)介紹

[0002]在家庭或餐廳中使用各種方式的用于加熱食物的烹飪?cè)O(shè)備。以往廣泛使用將燃?xì)庾鳛槿剂系娜細(xì)庠睿陙?lái)，代替氣體而使用電來(lái)加熱被加熱物體，例如鍋等烹飪?nèi)萜鞯难b置正在得到普及。
[0003]使用電來(lái)加熱被加熱物體的方式主要分為電阻加熱方式和感應(yīng)加熱方式。電阻方式是，將在電流流過(guò)金屬電阻絲或碳化硅等非金屬發(fā)熱體時(shí)產(chǎn)生的熱量通過(guò)輻射或傳導(dǎo)來(lái)傳遞到被加熱物體(例如，烹飪?nèi)萜?，從而對(duì)被加熱物體進(jìn)行加熱的方式。此外，感應(yīng)加熱方式是，利用在向線圈施加規(guī)定大小的高頻功率時(shí)線圈周邊產(chǎn)生的磁場(chǎng)，來(lái)在由金屬成分構(gòu)成的被加熱物體產(chǎn)生渦電流(eddy current)，使得被加熱物體本身被加熱的方式。
[0004]近年來(lái)，在爐灶(Cooktop)大部分都應(yīng)用感應(yīng)加熱方式。
[0005]但是，在應(yīng)用感應(yīng)加熱式爐灶的情況下，存在只能加熱磁性體的限制。即，在非磁性體(例如，耐熱玻璃、陶器類等)被配置在爐灶上的情況下，存在應(yīng)用感應(yīng)加熱式爐灶無(wú)法加熱該被加熱物體的問(wèn)題。
[0006]為了改善這種感應(yīng)加熱式爐灶所具有的問(wèn)題，本專利技術(shù)旨在使用薄膜。具體而言，本專利技術(shù)的爐灶可以包括薄膜，渦電流被施加到該薄膜，以加熱非磁性體。此外，這種薄膜可以形成為具有比其厚度更厚的趨膚深度(skin depth)，由此，在工作線圈產(chǎn)生的磁場(chǎng)穿過(guò)薄膜向磁性體施加渦電流，從而也能加熱磁性體。
[0007]另一方面，韓國(guó)公開(kāi)專利公報(bào)第10
?
2005
?
0033551號(hào)公開(kāi)了一種配置在加熱線圈和被加熱物之間的電導(dǎo)體，但電導(dǎo)體與本專利技術(shù)的薄膜的不同之處在于，其是以降低磁浮力的目的插入的。并且，電導(dǎo)體被設(shè)計(jì)為厚度比趨膚深度厚，在此方面，與本專利技術(shù)所記載的薄膜明顯不同。
[0008]另一方面，通過(guò)將渦電流施加到本專利技術(shù)的薄膜來(lái)形成的閉合回路與在工作線圈產(chǎn)生的磁場(chǎng)結(jié)合，因此，可以防止在工作線圈產(chǎn)生的磁場(chǎng)到達(dá)被加熱物體。由此，在爐灶上配置有磁性體的情況下，存在加熱效率降低的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

[0009]專利技術(shù)所要解決的問(wèn)題
[0010]本專利技術(shù)的目的在于，使能夠?qū)Υ判泽w和非磁性體均進(jìn)行加熱的感應(yīng)加熱式爐灶中的對(duì)磁性體的加熱效率降低的問(wèn)題最小化。
[0011]解決問(wèn)題的技術(shù)方案
[0012]本專利技術(shù)實(shí)施例的爐灶包括形成不包括線圈中心的閉合回路的薄膜，從而能夠增加穿過(guò)薄膜施加到磁性體的磁場(chǎng)。
[0013]本專利技術(shù)實(shí)施例的爐灶包括具有比其厚度更厚的趨膚深度的薄膜，從而能夠?qū)Υ判泽w和非磁性體均進(jìn)行加熱。
[0014]專利技術(shù)效果
[0015]根據(jù)本專利技術(shù)，可以通過(guò)同一加熱源對(duì)磁性體和非磁性體均進(jìn)行加熱，具有能夠通過(guò)使由薄膜引起的對(duì)磁性體的加熱效率的降低最小化來(lái)提高加熱性能的優(yōu)點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
[0016]圖1是說(shuō)明本專利技術(shù)實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶的圖。
[0017]圖2是示出本專利技術(shù)一實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶和被加熱物體的剖視圖。
[0018]圖3是示出本專利技術(shù)另一實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶和被加熱物體的剖視圖。
[0019]圖4和圖5是說(shuō)明薄膜的厚度和趨膚深度(skin depth)之間的關(guān)系的圖。
[0020]圖6和圖7是說(shuō)明根據(jù)被加熱物體的種類的薄膜和被加熱物體之間的阻抗變化的圖。
[0021]圖8是示出本專利技術(shù)比較例的薄膜的形狀的示例圖。
[0022]圖9和圖10是示出本專利技術(shù)第一實(shí)施例的薄膜的形狀的示例圖。
[0023]圖11是示出本專利技術(shù)第二實(shí)施例的薄膜的形狀的示例圖。
[0024]圖12是示出本專利技術(shù)第三實(shí)施例的薄膜的形狀的示例圖。
[0025]圖13是示出本專利技術(shù)第四實(shí)施例的薄膜的形狀的示例圖。
[0026]圖14是示出本專利技術(shù)第五實(shí)施例的薄膜的形狀的示例圖。
[0027]圖15是示出本專利技術(shù)實(shí)施例的形成于薄膜的閉合回路和工作線圈的中心區(qū)域的圖。
具體實(shí)施方式
[0028]以下，將參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本專利技術(shù)的優(yōu)選實(shí)施例。在附圖中，相同的附圖標(biāo)記用于指代相同或相似的構(gòu)成要素。
[0029]以下，將說(shuō)明本專利技術(shù)實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶。
[0030]圖1是說(shuō)明本專利技術(shù)實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶的圖。圖2是示出本專利技術(shù)一實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶和被加熱物體的剖視圖。圖3是示出本專利技術(shù)另一實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶和被加熱物體的剖視圖。
[0031]首先，參照?qǐng)D1，本專利技術(shù)實(shí)施例的感應(yīng)加熱式爐灶1可以包括殼體25、蓋板20、工作線圈WC1、WC2(即，第一工作線圈和第二工作線圈)、薄膜TL1、TL2(即，第一薄膜和第二薄膜)。
[0032]在殼體25可以設(shè)置有工作線圈WC1、WC2。
[0033]作為參考，除了工作線圈WC1、WC2以外，在殼體25可以設(shè)置有與工作線圈的驅(qū)動(dòng)相關(guān)的各種裝置(例如，提供交流電的電源部、將電源部的交流電整流成直流電的整流部、通過(guò)開(kāi)關(guān)動(dòng)作將被整流部整流的直流電轉(zhuǎn)換為諧振電流并提供到工作線圈的逆變器部、控制感應(yīng)加熱式爐灶1中的各種裝置的動(dòng)作的控制模塊、導(dǎo)通或關(guān)斷工作線圈的繼電器或半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)等)，但將省略對(duì)此的具體說(shuō)明。
[0034]蓋板20可以與殼體25的上端結(jié)合，在其頂面可以設(shè)置有配置被加熱物體(未圖示)的上板部15。
[0035]具體而言，蓋板20可以包括用于放置烹飪?nèi)萜鞯缺患訜嵛矬w的上板部15。
[0036]在此，例如，上板部15可以由玻璃材料(例如，陶瓷玻璃(ceramics glass))制成。
[0037]另外，在上板部15可以設(shè)置有輸入接口(未圖示)，其從用戶接收輸入并將相應(yīng)輸入傳輸?shù)捷斎虢涌谟每刂颇K(未圖示)。當(dāng)然，輸入接口也可以設(shè)置在除上板部15以外的其他位置。
[0038]作為參考，輸入接口是用于輸入用戶所期望的加熱強(qiáng)度或感應(yīng)加熱式爐灶1的驅(qū)動(dòng)時(shí)間等的模塊，可以以物理按鈕或觸摸面板等多種方式實(shí)現(xiàn)。另外，例如，在輸入接口可以設(shè)置有電源按鈕、鎖定按鈕、功率電平調(diào)整按鈕(+，
?
)、定時(shí)器調(diào)整按鈕(+，
?
)、充電模式按鈕等。此外，輸入接口可以向輸入接口用控制模塊(未圖示)傳遞從用戶接收的輸入，輸入接口用控制模塊可以向上述的控制模塊(即，逆變器用控制模塊)傳遞所述輸入。另外，上述的控制模塊可以基于從輸入接口用控制模塊接收的輸入(即，用戶的輸入)來(lái)控制各種裝置(例如，工作線圈)的動(dòng)作，將省略對(duì)此的具體內(nèi)容。
[0039]另一方面，在上板部15可以以灶口形狀可視地顯示有工作線圈WC1、WC2的驅(qū)動(dòng)與否和加熱強(qiáng)度(即，火力)。這種灶口形狀可以由設(shè)置在殼體25內(nèi)的復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光元件(例如，LED)構(gòu)成的指示燈(未圖示)顯示。
[0040]工作線圈WC1、WC2可以設(shè)置在殼體25的內(nèi)部，以加熱被加熱物體。
[0041]具體而言，工作線圈WC可以本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】1.一種感應(yīng)加熱式爐灶，其中，包括：殼體；蓋板，與所述殼體的上端結(jié)合，在所述蓋板的頂面設(shè)置有配置被加熱物體的上板部；工作線圈，設(shè)置在所述殼體的內(nèi)部；薄膜，被涂覆到所述上板部，被所述工作線圈感應(yīng)加熱；以及隔熱材料，設(shè)置在所述上板部和所述工作線圈之間，所述薄膜形成為具有至少一個(gè)不包括所述工作線圈的中心區(qū)域的閉合回路。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感應(yīng)加熱式爐灶，其中，在從上側(cè)觀察時(shí)，形成于所述薄膜的閉合回路形成為不與所述工作線圈的中心區(qū)域重疊。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感應(yīng)加熱式爐灶，其中，所述薄膜的趨膚深度比所述薄膜的厚度厚。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感應(yīng)加熱式爐灶，其中，所述薄膜由至少一個(gè)配置為脫離所述工作線圈的中心區(qū)域的薄膜部分構(gòu)成。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的感應(yīng)加熱式爐灶，其中，所述薄膜部分包括配置為脫離所述工作線圈的中心區(qū)域的第一薄膜部分和第二薄膜部分。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的感應(yīng)加熱...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：郭榮桓，孫昇浩，田琁昊，趙柱衡，地琮星，孫基榮，沈富教，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：