【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
扇出型半導(dǎo)體封裝件本申請要求于2018年11月16日在韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2018-0141648號(hào)韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)的權(quán)益,所述韓國專利申請的公開內(nèi)容通過整體引用被包含于此。
本公開涉及一種半導(dǎo)體封裝件,例如,扇出型半導(dǎo)體封裝件。
技術(shù)介紹
近年來與半導(dǎo)體芯片相關(guān)的技術(shù)開發(fā)中的主要趨勢之一是減小組件的尺寸。因此,在封裝領(lǐng)域中,根據(jù)隨著對小型半導(dǎo)體芯片等的需求的激增,需要實(shí)現(xiàn)大量的具有小尺寸的引腳。為了滿足這種需求,提出的半導(dǎo)體封裝件技術(shù)中的一種是扇出型半導(dǎo)體封裝件。扇出型半導(dǎo)體封裝件可將電連接結(jié)構(gòu)重新分布在其中設(shè)置有半導(dǎo)體芯片的區(qū)域之外,從而能夠在保持小尺寸的同時(shí)實(shí)現(xiàn)大量引腳。另一方面,近來,為了改善高端智能手機(jī)產(chǎn)品的電特性并有效利用空間,并且應(yīng)用包括不同半導(dǎo)體芯片的半導(dǎo)體封裝件的層疊封裝(POP),需要在半導(dǎo)體封裝件結(jié)構(gòu)中形成背側(cè)電路,并且對背側(cè)電路的線和空間的需求根據(jù)芯片特性的增強(qiáng)和面積減小的需求而不斷增加。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本公開的一方面在于提供一種扇出型半導(dǎo)體封裝件,該扇出型半導(dǎo)體封裝件具有背側(cè)電路,能夠應(yīng)用于層疊封裝(POP)結(jié)構(gòu),能夠確保優(yōu)異的信號(hào)和功率特性,并且還能夠確保產(chǎn)品的輕量化、纖薄化、縮短化和緊湊性。本公開的一方面在于提供設(shè)置在封裝件的背側(cè)上的不同高度上的第一金屬圖案層和第二金屬圖案層,其中,所述第一金屬圖案層設(shè)置為電連接到諸如框架的電連接構(gòu)件,設(shè)置用于封裝件的通過經(jīng)過所述第二金屬圖案層的路徑的在豎直方向上的電連接。根據(jù)本公開 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種扇出型半導(dǎo)體封裝件,包括:/n框架,具有通孔并且包括一個(gè)或更多個(gè)布線層;/n半導(dǎo)體芯片,設(shè)置在所述框架的所述通孔中;/n連接結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述框架和所述半導(dǎo)體芯片中的每個(gè)的下方,并且包括一個(gè)或更多個(gè)重新分布層;/n包封劑,覆蓋所述框架和所述半導(dǎo)體芯片中的每個(gè)的上表面,并且填充所述框架的所述通孔的壁表面和所述半導(dǎo)體芯片的側(cè)表面之間的空間;/n第一金屬圖案層,設(shè)置在所述包封劑的上表面上;/n絕緣材料,設(shè)置在所述包封劑的上表面上并覆蓋所述第一金屬圖案層;以及/n第二金屬圖案層,設(shè)置在所述絕緣材料的上表面上,/n其中,所述第一金屬圖案層位于所述第二金屬圖案層的下表面和所述框架的所述布線層之中的最上面的布線層的上表面之間的高度上,并且/n所述第一金屬圖案層通過經(jīng)過所述第二金屬圖案層的路徑電連接到所述最上面的布線層。/n
【技術(shù)特征摘要】
20181116 KR 10-2018-01416481.一種扇出型半導(dǎo)體封裝件,包括:
框架,具有通孔并且包括一個(gè)或更多個(gè)布線層;
半導(dǎo)體芯片,設(shè)置在所述框架的所述通孔中;
連接結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述框架和所述半導(dǎo)體芯片中的每個(gè)的下方,并且包括一個(gè)或更多個(gè)重新分布層;
包封劑,覆蓋所述框架和所述半導(dǎo)體芯片中的每個(gè)的上表面,并且填充所述框架的所述通孔的壁表面和所述半導(dǎo)體芯片的側(cè)表面之間的空間;
第一金屬圖案層,設(shè)置在所述包封劑的上表面上;
絕緣材料,設(shè)置在所述包封劑的上表面上并覆蓋所述第一金屬圖案層;以及
第二金屬圖案層,設(shè)置在所述絕緣材料的上表面上,
其中,所述第一金屬圖案層位于所述第二金屬圖案層的下表面和所述框架的所述布線層之中的最上面的布線層的上表面之間的高度上,并且
所述第一金屬圖案層通過經(jīng)過所述第二金屬圖案層的路徑電連接到所述最上面的布線層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,所述扇出型半導(dǎo)體封裝件還包括:
第一金屬過孔,穿過所述絕緣材料并且使所述第一金屬圖案層和所述第二金屬圖案層電連接;以及
第二金屬過孔,穿過所述絕緣材料和所述包封劑并且使所述第二金屬圖案層和所述最上面的布線層電連接,
其中,所述路徑依次穿過所述第一金屬過孔、所述第二金屬圖案層和所述第二金屬過孔或者依次穿過所述第二金屬過孔、所述第二金屬圖案層和所述第一金屬過孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,在所述第一金屬圖案層和所述最上面的布線層之間不存在使所述第一金屬圖案層和所述最上面的布線層直接連接的金屬過孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述第二金屬過孔高于所述第一金屬過孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述第一金屬圖案層比所述最上面的布線層薄。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述第一金屬圖案層比所述第二金屬圖案層薄。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述第二金屬圖案層比所述最上面的布線層薄。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述第一金屬圖案層包括接地圖案,而不包括信號(hào)圖案,
所述第二金屬圖案層包括接地圖案和信號(hào)圖案,并且
所述最上面的布線層包括接地圖案和信號(hào)圖案。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述第一金屬圖案層的接地圖案通過經(jīng)過所述第二金屬圖案層的接地圖案的路徑電連接到所述最上面的布線層的接地圖案。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述第一金屬圖案層的覆蓋所述包封劑的上表面的平面區(qū)域大于所述第二金屬圖案層的覆蓋所述絕緣材料的上表面的平面區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型半導(dǎo)體封裝件,其中,所述半導(dǎo)體芯片具有其上設(shè)置有電連接到所述重新分布層的連接墊的有效表面和與所述有效表面相對的無效表面,并且
所述有效表面與所述連接結(jié)構(gòu)接觸。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型半導(dǎo)體封裝...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:金俊成,李斗煥,樸振嫙,
申請(專利權(quán))人:三星電子株式會(huì)社,
類型:發(fā)明
國別省市:韓國;KR
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