鈦聚焦環(huán)的清洗方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法，包括：提供鈦聚焦環(huán)；通過酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行第一清洗，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液，所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％；對所述鈦聚焦環(huán)進行第二清洗，去除鈦聚焦環(huán)表面的酸溶液。所述清洗方法能夠保證清洗后的鈦聚焦環(huán)具有較大的表面清潔度的情況下，降低對鈦聚焦環(huán)的損傷。

Cleaning method of titanium focusing ring

The invention provides a cleaning method, a titanium focusing ring comprises: providing a focus ring for the first ti; cleaned by acid solution on the titanium focus ring, the acid solution is mixed solution of nitric acid and hydrofluoric acid, nitric acid and water volume ratio of the acid solution was 25% ~ 50%, volume ratio hydrogen fluoride acid and water is 25% ~ 50%; the focus ring second titanium acid solution cleaning, removal of titanium surface of the focusing ring. The cleaning method can ensure that the titanium focusing ring after cleaning has a larger surface cleanliness, and reduces the damage to the titanium focus ring.

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
鈦聚焦環(huán)的清洗方法
本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體濺射靶材制造領(lǐng)域，尤其涉及一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法。
技術(shù)介紹
濺射工藝是物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)中的一種，是指以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量逸出固體表面而到達基板的工藝。通常情況下，濺射鍍膜過程中，金屬離子從濺射靶材表面濺射出來，沿多個不同方向離開靶材表面，這樣，到達基板上的靶材料很少，大部分靶材料被浪費了。為了避免這種問題，濺射設(shè)備中設(shè)置有聚焦環(huán)，所述聚焦環(huán)用于將離子匯聚到基板上。如果所述聚焦環(huán)表面雜質(zhì)較多，在濺射過程中容易對靶材造成污染。因此，在進行濺射之前需要對聚焦環(huán)進行清洗。然而，現(xiàn)有的鈦聚焦環(huán)的清洗方法存在對鈦聚焦環(huán)的損傷較大的問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)解決的問題是提供一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法，能夠提高鈦聚焦環(huán)表面清潔度，且能夠降低對鈦聚焦環(huán)的損傷。為解決上述問題，本專利技術(shù)提供一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法，包括：提供鈦聚焦環(huán)；通過酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行第一清洗，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液，所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％；對所述鈦聚焦環(huán)進行第二清洗，去除鈦聚焦環(huán)表面的酸溶液?？蛇x的，所述氫氟酸與水的體積比為50％?？蛇x的，所述第一清洗包括：第一鼓泡處理或第一超聲波處理；所述第一鼓泡處理的步驟包括：向所述酸溶液中通入第一氣體?？蛇x的，所述第一氣體為空氣或惰性氣體?？蛇x的，所述第一清洗的時間為5min～30min?？蛇x的，所述酸溶液的溫度為10℃～30℃?？蛇x的，所述第二清洗包括：第二鼓泡處理、第二超聲波處理、或者第二鼓泡處理和第二超聲波處理的組合使用?？蛇x的，所述第二鼓泡處理的步驟包括：向所述第二清洗的清洗液中通入第二氣體。可選的，所述第二氣體為空氣或惰性氣體；所述第二鼓泡處理的時間為4min～7min?？蛇x的，所述第二超聲波處理的次數(shù)為單次或多次。可選的，每次第二超聲波處理的時間為4min～7min?？蛇x的，所述第二清洗的清洗液為水?？蛇x的，進行第一清洗之前，還包括：通過有機溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行第三清洗。可選的，所述有機溶液為異丙醇溶液?？蛇x的，所述第三清洗的包括第三超聲波處理、浸泡處理或第三超聲波處理與浸泡處理的組合?？蛇x的，所述浸泡處理的時間為4min～7min。如權(quán)利要求15所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述第三超聲波處理的次數(shù)為單次或多次。可選的，每次第三超聲波處理的時間為4min～7min?？蛇x的，所述第三清洗之后，第一清洗之前，還包括：對所述鈦聚焦環(huán)進行第四清洗，去除所述鈦聚焦環(huán)表面的有機溶劑?？蛇x的，所述第四清洗為第四超聲波處理；所述第二清洗的清洗液為水。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點：本專利技術(shù)的鈦聚焦環(huán)清洗方法中，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液。所述酸溶液中的硝酸與氫氟酸能夠與鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦反應(yīng)，從而能夠去除鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦。硝酸和氫氟酸容易與所述鈦聚焦環(huán)發(fā)生反應(yīng)，導(dǎo)致鈦聚焦環(huán)被腐蝕。所述酸溶液與鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦的反應(yīng)速率與所述酸溶液中硝酸和氫氟酸與水的體積比有關(guān)；酸溶液對鈦聚焦環(huán)的腐蝕速率也與酸溶液中硝酸和氫氟酸與水的體積比有關(guān)。為了在保證鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦去除速率較大的情況下，降低酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)的腐蝕，則需要酸溶液中硝酸和氫氟酸與水的體積比具有合適的值。所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％，能夠使所述酸溶液能夠在保證與鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦反應(yīng)速率較大的情況下，與鈦聚焦環(huán)反應(yīng)較慢。因此，所述清洗方法能夠保證清洗后的鈦聚焦環(huán)具有較大的表面清潔度的情況下，降低對鈦聚焦環(huán)的損傷。附圖說明圖1是本專利技術(shù)的鈦聚焦環(huán)的清洗方法一實施例各步驟的流程圖；圖2至圖5是本專利技術(shù)的鈦聚焦環(huán)的清洗方法一實施例各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實施方式鈦聚焦環(huán)的清洗方法存在清洗后的鈦聚焦環(huán)損傷較大的問題?，F(xiàn)結(jié)合一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法，分析清洗后的鈦聚焦環(huán)表面不清潔，鈦聚焦環(huán)損傷較大的原因：所述清洗方法通過硝酸和氫氟酸的混合溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行清洗。硝酸和氫氟酸能夠與鈦聚焦環(huán)表面的雜質(zhì)和油污發(fā)生反應(yīng)，從而去除鈦聚焦環(huán)表面的雜質(zhì)和油污，所述雜質(zhì)和油污與硝酸和氫氟酸的反應(yīng)速率與硝酸和氫氟酸的濃度有關(guān)。此外，鈦聚焦環(huán)也容易與硝酸和氫氟酸反應(yīng)，且鈦聚焦環(huán)與硝酸和氫氟酸的反應(yīng)速率也與硝酸和氫氟酸的濃度有關(guān)。若要使鈦聚焦環(huán)表面的雜質(zhì)和油污去除干凈，且對鈦聚焦環(huán)的影響較小，就需要合理選擇硝酸和氫氟酸的濃度。然而，鈦聚焦環(huán)的清洗方法中，所述混合溶液中硝酸和氫氟酸的濃度不合理，導(dǎo)致對鈦聚焦環(huán)的損傷較大。為解決所述技術(shù)問題，本專利技術(shù)提供了一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法，包括：提供鈦聚焦環(huán)；通過酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行第一清洗，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液，所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％；對所述鈦聚焦環(huán)進行第二清洗，去除鈦聚焦環(huán)表面的酸溶液。其中，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液。所述酸溶液中的硝酸與氫氟酸能夠與鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦反應(yīng)，從而能夠去除鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦。硝酸和氫氟酸容易與所述鈦聚焦環(huán)發(fā)生反應(yīng)，導(dǎo)致鈦聚焦環(huán)被腐蝕。所述酸溶液與鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦的反應(yīng)速率與所述酸溶液中硝酸和氫氟酸與水的體積比有關(guān)；酸溶液對鈦聚焦環(huán)的腐蝕速率也與酸溶液中硝酸和氫氟酸與水的體積比有關(guān)。為了在保證鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦去除速率較大的情況下，降低酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)的腐蝕，則需要酸溶液中硝酸和氫氟酸與水的體積比具有合適的值。所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％，能夠使所述酸溶液能夠在保證與鈦聚焦環(huán)表面的油污、灰塵及氧化鈦反應(yīng)速率較大的情況下，與鈦聚焦環(huán)反應(yīng)較慢。因此，所述清洗方法能夠保證清洗后的鈦聚焦環(huán)具有較大的表面清潔度的情況下，降低對鈦聚焦環(huán)的損傷。為使本專利技術(shù)的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本專利技術(shù)的具體實施例做詳細的說明。圖1是本專利技術(shù)的鈦聚焦環(huán)的清洗方法一實施例各步驟的流程圖。請參考圖1，所述鈦聚焦環(huán)的清洗方法包括：S1：提供鈦聚焦環(huán)；S2：通過酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行第一清洗，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液，所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％；S3：對所述鈦聚焦環(huán)進行第二清洗，去除鈦聚焦環(huán)表面的酸溶液。圖2至圖4是本專利技術(shù)聚焦環(huán)的清洗方法一實施例各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖。以下結(jié)合附圖進行詳細說明。請參考圖2，提供鈦聚焦環(huán)100。鈦聚焦環(huán)100表面具有油污、灰塵、氧化鈦以及其他雜質(zhì)。本實施例中，所述鈦聚焦環(huán)100的直徑為200mm～1300nm。具體的，所述鈦聚焦環(huán)100的直徑為300mm或1200mm。請參考圖3，所述清洗方法還包括：通過有機溶液101對所述鈦聚焦環(huán)100進行第三清洗。所述第三清洗用于去除部分所述鈦聚焦環(huán)100表面的部分油污和雜質(zhì)。所述鈦聚焦環(huán)100表本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，包括：提供鈦聚焦環(huán)；通過酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行第一清洗，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液，所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％；對所述鈦聚焦環(huán)進行第二清洗，去除鈦聚焦環(huán)表面的酸溶液。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，包括：提供鈦聚焦環(huán)；通過酸溶液對所述鈦聚焦環(huán)進行第一清洗，所述酸溶液為硝酸與氫氟酸的混合溶液，所述酸溶液中硝酸與水的體積比值為25％～50％，氫氟酸與水的體積比值為25％～50％；對所述鈦聚焦環(huán)進行第二清洗，去除鈦聚焦環(huán)表面的酸溶液。2.如權(quán)利要求1所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述氫氟酸與水的體積比為50％。3.如權(quán)利要求1所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述第一清洗包括：第一鼓泡處理或第一超聲波處理；所述第一鼓泡處理的步驟包括：向所述酸溶液中通入第一氣體。4.如權(quán)利要求3所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述第一氣體為空氣或惰性氣體。5.如權(quán)利要求1所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述第一清洗的時間為5min～30min。6.如權(quán)利要求1所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述酸溶液的溫度為10℃～30℃。7.如權(quán)利要求1所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述第二清洗包括：第二鼓泡處理、第二超聲波處理、或者第二鼓泡處理和第二超聲波處理的組合使用。8.如權(quán)利要求7所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述第二鼓泡處理的步驟包括：向所述第二清洗的清洗液中通入第二氣體。9.如權(quán)利要求8所述的鈦聚焦環(huán)的清洗方法，其特征在于，所述第二氣體為空氣或惰性氣體；所述第二鼓泡處理的時間為4min～7min。10...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：姚力軍，潘杰，相原俊夫，王學(xué)澤，楊恕鑒，
申請(專利權(quán))人：寧波江豐電子材料股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：浙江,33