一種觸控顯示屏的制作方法及觸控顯示屏技術

本發明專利技術公開了一種觸控顯示屏的制作方法及觸控顯示屏。該制作方法先對大片TFT屏進行切割，形成若干小片TFT屏，然后在小片TFT屏的CF基板上低溫濺射一層ITO導電層，通過黃光工藝刻蝕出觸控功能層，制成觸控顯示屏，解決了on?cell觸控顯示屏只有大片制程的單一制作方法的問題，提高了On?cell觸控功能層制作的靈活性和制作精度，降低了On?cell的生產成本，解決了On?cell無法返修的問題。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及觸控顯示屏領域，尤其涉及一種觸控顯示屏的制作方法及觸控顯示屏。
技術介紹
On-cell觸控顯示屏是指將觸控功能集成到LCD的CF基板和偏光片之間的顯示屏結構，即在液晶面板上集成觸控傳感器。On-cell觸控顯示屏的制作方法主要是大片制程，即先在大片TFT屏上制作觸控功能層，再將大片TFT屏切割成若干小片TFT觸控顯示屏成品。目前，On-cell觸控顯示屏的大片制程專利主要被國外的面板廠商擁有，國內制作On-cell的廠家較少，而市場對On-cell的需求量卻越來越大，這導致國內On-cell的供貨量緊張，價格高，生產終端電子產品的公司經營成本較高，市場競爭力低，因此，市場急需要另一種On-cell的制作方法。同時，由于On-cell的大片制程是采用在大片TFT屏上刻蝕觸控功能層，生產過程出的小片TFT屏成品若發現不良品，則無法對其進行返修，從而導致On-cell TFT屏的不良率高，這也是On-cell的成本居高不下的原因之一。
技術實現思路
為了解決上述現有技術的不足，本專利技術提供一種觸控顯示屏的制作方法及觸控顯示屏。該觸控顯示屏的制作方法步驟簡單，操作靈活，解決了On-cell觸控顯示屏只有大片制程的單一制作方法的問題，提高了On-cell觸控顯示屏制作的靈活性，解決On-cell無法返修的問題，降低了On-cell的生產成本。本專利技術所要解決的技術問題通過以下技術方案予以實現：一種觸控顯示屏的制作方法，包括如下步驟：A）提供一大片TFT屏，將所述大片TFT屏切割成預定尺寸規格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能層涂覆一層保護層；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面濺射一層ITO導電層；D）將所述ITO導電層通過黃光工藝刻蝕出觸控功能層；E）在所述觸控功能層上綁定FPC，制成On-cell觸控顯示屏。進一步地，所述步驟B）中的保護層為一種耐濺射、耐酸堿的保護膠，厚度為1~3um。進一步地，所述步驟C）中，真空狀態下，在CF基板表面上磁控濺射一層ITO導電層，溫度：60℃以下，ITO導電層厚度：大于1100 ?。進一步地，所述步驟D）中的黃光工藝包括如下步驟：D1）在黃光環境下涂布光刻膠，將ITO導電層覆蓋，光刻膠的厚度：1~2um，均勻性：5%以上，預烘溫度：90~110℃；D2）對光刻膠進行曝光，形成光刻電極圖案，紫外光波長：365nm，光積量：110~150mj/cm2；D3）對光刻膠顯影并硬化，采用正膠顯影液，電導率大于38ms/cm，溫度：20~35℃，時間：180~300s，硬化溫度：100~120℃，時間：4~6min；D4）刻蝕導電層，形成觸控電極圖案，刻蝕材料：乙二酸，溫度 ：40~45℃，時間 ：180~300 s；D5）去除光刻膠，形成觸控功能層，使用材料 ：有機脫膜液，溫度 ：44~46℃，時間100秒~120秒，最后用純水漂洗。進一步地，所述CF基板和TFT基板為玻璃。一種按照上述的制作方法制成的觸控顯示屏，其特征在于，包括相對貼合的TFT基板和CF基板，所述觸控顯示屏的功能層涂覆有一層保護層，所述CF基板遠離TFT基板的一側表面上刻蝕有觸控功能層。進一步地，所述保護層為一種耐濺射、耐酸堿的保護膠，厚度為1~3um。進一步地，所述觸控功能層為ITO材料，厚度：大于1100 ?。進一步地，所述CF基板和TFT基板為玻璃。本專利技術具有如下有益效果：1、解決了On-cell觸控顯示屏只有大片制程的單一制作方法的問題，提高了面板廠商制作On-cell的靈活性，提高了面板廠商的競爭力；2、解決了On-cell長期被國外面板廠商壟斷的產業困局，可以增加國內制作On-cell的廠家，提高市場供貨量，解決On-cell市場供應量不足、價格高昂的問題，對國內的On-cell產業具有積極的促進作用；3、在小片TFT屏上刻蝕觸控功能層，提高了On-cell觸控顯示屏制作的靈活性，若后期發現產品不良，還可以進行返修，降低了不良率和生產成本。附圖說明圖1為本專利技術提供的觸控顯示屏的制作方法的流程框圖。具體實施方式下面結合附圖和實施例對本專利技術進行詳細的說明。實施例一一種觸控顯示屏的制作方法，包括如下步驟：A）提供一大片TFT屏，將所述大片TFT屏切割成預定尺寸規格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能層涂覆一層保護層；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面濺射一層ITO導電層；D）將所述ITO導電層通過黃光工藝刻蝕出觸控功能層；E）在所述觸控功能層上綁定FPC，制成On-cell觸控顯示屏?，F有技術中，On-cell觸控顯示屏一直都是采用大片制程，即先在大片TFT屏上刻蝕觸控功能層，然后再將大片TFT屏切割成預定規格的若干小片TFT屏。On-cell的大片制程工藝專利掌握在國外面板廠商手里，國內制作On-cell的廠家較少，而市場對On-cell的需求量卻越來越大，這導致國內On-cell的供貨量緊張，價格高，生產終端電子產品的公司經營成本高，市場競爭力低，這嚴重阻礙國內On-cell面板產業的發展。本專利技術提出On-cell觸控顯示屏的小片制程的技術方案，即先將大片TFT屏切割成預定規格的若干小片TFT屏，再分別在小片TFT屏上刻蝕觸控功能層，相比On-cell的大片制程，本技術方案的On-cell制作方法更加靈活，其最為重要的是解決了大片On-cell來料不良無法返修的問題。由于大片制程中觸控功能層是直接在大片TFT屏上刻蝕的，若下片TFT屏成品中發現不良品則無法對其進行返修，從而導致on-cell TFT屏的不良率高，生產成本高的問題。小片制程由于一開始就是在小片TFT屏上刻蝕觸控功能層，若成品中出現不良品，還能利用小片制程對其進行返修，降低了On-cell TFT屏的不良率以及生產成本。其中，所述步驟B）中的保護層為一種耐濺射、耐酸堿的保護膠，厚度為1~3um。保護膠的作用是為了對小片TFT屏的功能層（即綁定位）在后續的濺射ITO導電層、黃光工藝過程中進行保護。其中，所述步驟C）中，真空狀態下，在CF基板表面上磁控濺射一層ITO導電層，溫度：60℃以下，ITO導電層厚度：大于1100 ?。其中，所述步驟D）中的黃光工藝包括如下步驟：D1）在黃光環境下涂布光刻膠，將ITO導電層覆蓋，光刻膠的厚度：1~2um，均勻性：5%以上，預烘溫度：90~110℃；D2）對光刻膠進行曝光，形成光刻電極圖案，紫外光波長：365nm，光積量：110~150mj/cm2；D3）對光刻膠顯影并硬化，采用正膠顯影液，電導率大于38ms/cm，溫度：20~35℃，時間：180~300s，硬化溫度：100~120℃，時間：4~6min；D4）刻蝕導電層，形成觸控電極圖案，刻蝕材料：乙二酸，溫度 ：40~45℃，時間 ：180~300 s；D5）去除光刻膠，形成觸控功能層，使用材料 ：有機脫膜液，溫度 ：44~46℃，時間100秒~120秒，最后用純水漂洗。優選地，所述CF基板和TFT基板為玻璃。實施例二一種按照上述的制作方法制成的觸控顯示屏，其特征在于，包括相對貼合的TFT基板和CF基板，所述觸控顯示屏的功能層涂覆有一層保護層，所述CF基板遠離TFT基板的一側表面上刻蝕有觸控功能層本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種觸控顯示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：A）提供一大片TFT屏，將所述大片TFT屏切割成預定尺寸規格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能層涂覆一層保護層；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面低溫濺射一層ITO導電層；D）將所述ITO導電層通過黃光工藝刻蝕出觸控功能層；E）在所述觸控功能層上綁定FPC，制成On?cell觸控顯示屏。

【技術特征摘要】
1.一種觸控顯示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：A）提供一大片TFT屏，將所述大片TFT屏切割成預定尺寸規格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能層涂覆一層保護層；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面低溫濺射一層ITO導電層；D）將所述ITO導電層通過黃光工藝刻蝕出觸控功能層；E）在所述觸控功能層上綁定FPC，制成On-cell觸控顯示屏。2.根據權利要求1所述的觸控顯示屏的制作方法，其特征在于，所述步驟B）中的保護層為一種耐濺射、耐酸堿的保護膠，厚度為1~3um。3.根據權利要求1所述的觸控顯示屏的制作方法，其特征在于，所述步驟C）中，真空狀態下，在CF基板表面上磁控濺射一層ITO導電層，溫度：60℃以下，ITO導電層厚度：大于1100 ?。4.根據權利要求1所述的觸控顯示屏的制作方法，其特征在于，所述步驟D）中的黃光工藝包括如下步驟：D1）在黃光環境下涂布光刻膠，將ITO導電層覆蓋，光刻膠的厚度：1~2um，均勻性：5%以上，預烘溫度：90~110℃；D2）對光刻膠進行曝光，形成光刻電極圖案，紫外光波長：365nm，光積量：110~150mj/c...

【專利技術屬性】
技術研發人員：張家添，呂以森，黃遠科，
申請(專利權)人：信利光電股份有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44