一種On Cell結構觸摸顯示屏及其制作方法、顯示裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術公開一種On?Cell結構觸摸顯示屏及其制作方法、顯示裝置，涉及液晶顯示技術領域，以解決在對多層觸摸層對位曝光過程中，曝光機報錯率高的問題。該On?Cell結構觸摸顯示屏的制作方法包括在彩膜基板和偏光片之間沿光線傳播方向依次制作透明半導體層、第一保護層、金屬層和第二保護層；透明半導體層和第一保護層的對位標記均制作在彩膜基板的黑矩陣上，且其所采用的材料均為遮光材料；金屬層的對位標記采用光刻膠制成；第二保護層的對位標記采用反光材料制成。所述On?Cell結構觸摸顯示屏采用上述制作方法制作；本發明專利技術提供的On?Cell結構觸摸顯示屏的制作方法用于制作觸摸屏。

【技術實現步驟摘要】
一種OnCell結構觸摸顯示屏及其制作方法、顯示裝置
本專利技術涉及液晶顯示
，尤其涉及一種OnCell結構的觸摸顯示屏及其制作方法、顯示裝置。
技術介紹
目前，隨著液晶顯示技術的發展，人們對液晶顯示器的人機交互功能提出了越來越高的要求。而現有的技術中，人們一般采用OnCell技術將傳統的液晶顯示屏與觸摸傳感器結合，形成OnCell結構觸摸屏，以提高液晶顯示器的人機交互功能。具體來說，Oncell技術是指將觸摸層嵌入到液晶顯示屏的彩膜基板和偏光片之間的方法，且根據所嵌入的觸摸層的厚度可以分為單層觸摸層和多層觸摸層；其中，多層觸摸層一般包括氧化銦錫層、第一保護層，金屬層以及第二保護層。而由于多層觸摸層是在已經對盒后的液晶屏的彩膜基板上進行制作的，因此，需要使多層觸摸層與液晶顯示屏具有良好的對位精度才能保證觸摸屏的觸摸功能正常。但是由于氧化銦錫層、第一保護層、金屬層以及第二保護層在制作過程中需要進行對位曝光，且對位曝光時所采用的對位標記均采用透明的氧化銦錫材料制成。因此，在對位曝光時，由透明的氧化銦錫材料制成的對位標記為透明的，其與周邊的玻璃基板對比度比較低，曝光機不能清楚的識別；而且，在制作金屬層時，金屬層的對位標記被金屬層所遮蓋，且由于金屬層的對位標記采用透明的氧化銦錫制成，其厚度很??；因此，在對金屬層進行對位曝光時，金屬層的對位標記在曝光機所發出的強光下的凹凸感不強，導致曝光機根本無法識別金屬層的對位標記?？梢姡F有技術中，采用OnCell技術制作具有多層觸摸層的觸摸顯示屏時，曝光機對相應的對位標記識別度不高，使得多層觸摸層與液晶顯示屏的對位精度低，導致曝光機報錯率高。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種OnCell結構觸摸顯示屏及其制作方法、顯示裝置，以解決在對多層觸摸層對位曝光過程中，曝光機報錯率高的問題。為了實現上述目的，本專利技術提供如下技術方案：一種OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法，在彩膜基板用于與偏光片相對的一側沿光線傳播方向依次制作透明半導體層、第一保護層、金屬層和第二保護層，然后通過成盒工藝，得到OnCell結構觸摸顯示屏；其中，所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記均制作在所述彩膜基板的黑矩陣上，且所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記所采用的材料均為遮光材料；所述金屬層的對位標記采用光刻膠制成；所述第二保護層的對位標記采用反光材料制成。優選的，所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記所采用的材料均與黑矩陣的材料相同，所述金屬層的對位標記制作在所述第一保護層上，所述第二保護層的對位標記制作在所述金屬層上。優選的，所述透明半導體層采用氧化銦錫制成。優選的，所述金屬層的對位標記的厚度為0.5μm-2μm。較佳的，所述金屬層的對位標記的厚度為1.5μm。優選的，所述第一保護層和所述第二保護層均由光刻膠制成。優選的，所述金屬層的材料為Al、Cu或Fe。較佳的，所述金屬層的材料和所述反光材料的材料相同。本專利技術還提供了一種OnCell結構觸摸顯示屏，由上述技術方案所述的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法制作而成本專利技術還提供一種顯示裝置，包括上述技術方案所述的OnCell結構觸摸顯示屏。與現有技術相比，本專利技術的有益效果在于：本專利技術提供的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法中，透明半導體層的對位標記和第一保護層的對位標記均制作在彩膜基板的黑矩陣上，而且透明半導體層的對位標記和第一保護層的對位標記均采用遮光材料制成，因此，當對透明半導體層進行對位時，透明半導體層的對位標記與彩膜基板的玻璃基板具有顯著的對比度，且對第一保護層進行對位時，第一保護層的對位標記與透明半導體層的對比度比較大；因此，曝光機在對位曝光是能夠清楚的識別透明半導體層的對位標記和第一保護層的對位標記；而金屬層的對位標記位是由光刻膠制成的，且因為采用光刻膠制成的金屬層的對位標記較厚，因此，在對金屬層進行對位曝光時，雖然金屬層已經將金屬層的對位標記覆蓋，但是金屬層的對位標記在曝光機所發出的強光下具有顯著的凹凸感，使得曝光機夠清楚的識別。另外，本專利技術提供的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法中，第二保護層的對位標記是由反光材料制成，曝光機在對位曝光時通過由反光材料制成的對位標記的反光，即可成功識別第二保護層的對位標記。因此，本專利技術通過對對位標記所在的位置以及其所采用的材料的限定，就可以使曝光機在多層觸摸層對位曝光時，成功的識別各層的對位標記，提高了多層觸摸層與液晶顯示屏的對位精度低，避免在對多層觸摸層對位曝光過程中，出現曝光機報錯率高的問題。附圖說明此處所說明的附圖用來提供對本專利技術的進一步理解，構成本專利技術的一部分，本專利技術的示意性實施例及其說明用于解釋本專利技術，并不構成對本專利技術的不當限定。在附圖中：圖1為本專利技術實施例提供的多層觸摸層與彩膜基板以及偏光片的連接關系示意圖；圖2為圖1中透明半導體層的對位標記和第一保護層的對位標記示意圖；圖3為圖1中金屬層的對位標記示意圖；圖4為圖1中第二保護層的對位標記示意圖；附圖標記：1-彩膜基板，21-透明半導體層；210-透明半導體層的對位標記，22-第一保護層；220-第一保護層的對位標記，22B-第一保護層的上表面；23-金屬層，230-金屬層的對位標記；23B-金屬層的上表面，24-第二保護層；240-第二保護層的對位標記；3-偏光片。具體實施方式為了進一步說明本專利技術實施例提供的OnCell結構觸摸顯示屏及其制作方法、顯示裝置，下面結合附圖對本專利技術做進一步詳細說明。請參閱圖1，本專利技術實施例提供的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法，具體包括：在彩膜基板1和偏光片3之間沿光線傳播方向依次制作透明半導體層21、第一保護層22、金屬層23和第二保護層24；其中，請參閱圖2-4，透明半導體層的對位標記210和第一保護層的對位標記220均制作在彩膜基板1的黑矩陣上；透明半導體層的對位標記210和第一保護層的對位標記220所采用的材料均為遮光材料；金屬層的對位標記230采用光刻膠制成；第二保護層的對位標記240采用反光材料制成。本實施例提供的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法中，透明半導體層的對位標記210和第一保護層的對位標記220均制作在彩膜基板1的黑矩陣上，而且透明半導體層的對位標記210和第一保護層的對位標記220均采用遮光材料制成，因此，當對透明半導體層21進行對位時，透明半導體層的對位標記210與彩膜基板1的玻璃基板具有顯著的對比度，且對第一保護層22進行對位時，第一保護層的對位標記220與透明半導體層21的對比度比較大；因此，曝光機在對位曝光是能夠清楚的識別透明半導體層的對位標記210和第一保護層的對位標記220；而金屬層的對位標記位230是由光刻膠制成的，且因為采用光刻膠制成的金屬層的對位標記230較厚，因此，在對金屬層23進行對位曝光時，雖然金屬層23已經將金屬層的對位標記230覆蓋，但是金屬層的對位標230在曝光機所發出的強光下具有顯著的凹凸感，使得曝光機夠清楚的識別。另外，本實施例提供的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法中，第二保護層的對位標記240是由反光材料制成，曝光機在對位曝光時通過由反光材料制成的對位標記的反光，即可成功識別本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種On?Cell結構觸摸顯示屏的制作方法，其特征在于，在彩膜基板和偏光片之間沿光線傳播方向依次制作透明半導體層、第一保護層、金屬層和第二保護層；其中，所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記均制作在所述彩膜基板的黑矩陣上，且所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記所采用的材料均為遮光材料；所述金屬層的對位標記采用光刻膠制成；所述第二保護層的對位標記采用反光材料制成。

【技術特征摘要】
1.一種OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法，其特征在于，在彩膜基板和偏光片之間沿光線傳播方向依次制作透明半導體層、第一保護層、金屬層和第二保護層；其中，所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記均制作在所述彩膜基板的黑矩陣上，且所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記所采用的材料均為遮光材料；所述金屬層的對位標記采用光刻膠制成；所述第二保護層的對位標記采用反光材料制成。2.根據權利要求1所述的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法，其特征在于，所述透明半導體層的對位標記和所述第一保護層的對位標記所采用的材料均與黑矩陣的材料相同，所述金屬層的對位標記制作在所述第一保護層上，所述第二保護層的對位標記制作在所述金屬層上。3.根據權利要求1或2所述的OnCell結構觸摸顯示屏的制作方法，其特征在于，所述透明半導體層采用氧化銦錫制成。4.根據權利要求1...

【專利技術屬性】
技術研發人員：丁賢林，許鄒明，胡明，謝濤峰，李可豐，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，合肥鑫晟光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：北京;11