掩模板檢測裝置及方法、掩模板清洗裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術提供了一種掩模板檢測裝置及方法、掩模板清洗裝置，通過設置用于對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息的檢測模塊；用于基于檢測信息，確定檢測結果的控制模塊，所述檢測結果用于標識所述掩模板的清潔度。從而可自動實現掩模板清潔度的檢測，提高掩模板清洗效果檢測效率、準確性和安全性。

【技術實現步驟摘要】
掩模板檢測裝置及方法、掩模板清洗裝置
本專利技術涉及顯示
，具體可以一種掩模板檢測裝置及方法、掩模板清洗裝置。
技術介紹
在顯示基板，例如薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display，簡稱TFT-1XD)、有機發光二極管顯示器(又稱為有機電激光顯示器，Organic Light-Emitting D1de,簡稱0LED)等基板制作過程中，需要利用掩模板(MASK)進行工藝處理。在使用掩模板后，可以利用掩模板清洗裝置對掩模板進行清洗，以去除附著在掩模板上的有機材料殘留物。為了確保掩模板可以被再次使用，需要對掩模板清洗效果進行檢測，以便確定清洗后的掩模板是否存在有機材料的殘留。 現有掩模板清洗效果檢測，通常是由人工操作完成，此一作法不僅僅對于操作人員會有長期暴露在紫外光(UV)射中的危險，對于一個量產規劃的產線而言，更是難以接受。導致判斷清洗有機物完成與否，變得十分困難，尤其在掩模板尺寸越來越大的趨勢下針對安全性以及效率而言，人為判定方法將成為量產線的一大隱憂。
技術實現思路
本專利技術提供一種掩模板檢測裝置及方法、掩模板清洗裝置，可提高掩模板清洗效果檢測效率、準確性和安全性。 本專利技術提供方案如下: 本專利技術實施例提供了一種掩模板檢測裝置，包括: 用于對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息的檢測模塊； 用于基于檢測信息，確定檢測結果的控制模塊，所述檢測結果用于標識所述掩模板的清潔度。 優選的，所述檢測模塊包括: 用于向掩模板發射紫外光的照射單元； 用于偵測掩模板殘留物在所述照射單元照射下激發的光線的偵測單元； 用于基于所述偵測單元的偵測結果，生成檢測信息的檢測信息生成單元。 優選的，所述檢測信息中包括掩模板殘留物的位置信息。 優選的，所述控制模塊包括: 用于對檢測信息進行判斷，以確定偵測單元所偵測的光線是否為掩模板殘留物在所述照射單元照射下激發的光線的判斷單元。 優選的，所述控制模塊還用于在所述檢測結果標識掩模板清潔度符合預設要求時，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件對掩模板進行搬運；或者 所述控制模塊還用于在所述檢測結果標識掩模板清潔度不符合預設要求時，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件將掩模板傳輸至掩模板清洗裝置。 優選的，所述裝置設置于一暗房內。 本專利技術實施例還提供了一種掩模板檢測方法，包括: 對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息； 基于檢測信息，確定檢測結果，所述檢測結果用于標識所述掩模板的清潔度。 優選的，所述對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息包括: 向掩模板發射紫外光； 偵測掩模板殘留物在所述紫外光照射下激發的光線； 基于偵測結果，生成檢測信息。 優選的，所述基于檢測信息，確定檢測結果包括: 對檢測信息進行判斷，以確定偵測到的光線是否為掩模板殘留物在紫外光照射下激發的光線。 優選的，所述方法在基于所述檢測信息，確定檢測結果之后還包括: 在所述檢測結果標識掩模板清潔度符合預設要求時，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件對掩模板進行搬運；或者 在所述檢測結果標識掩模板清潔度不符合預設要求時，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件將掩模板傳輸至掩模板清洗裝置。 [0031 ] 本專利技術實施例還提供了一種掩模板清洗裝置，該掩模板清洗裝置具體可以包括上述本專利技術實施例提供的掩模板檢測裝置。 優選的，所述掩模板清洗裝置還包括:第一器件，用于在接收到第一控制指令時，對掩模板檢測裝置中的掩模板進行搬運； 第二器件，用于在接收到第二控制指令時，將掩模板檢測裝置中的掩模板傳輸至掩模板清洗裝置中。 從以上所述可以看出，本專利技術提供的掩模板檢測裝置及方法、掩模板清洗裝置，通過設置用于對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息的檢測模塊；用于基于檢測信息，確定檢測結果的控制模塊，所述檢測結果用于標識所述掩模板的清潔度。從而可自動實現掩模板清潔度的檢測，提高掩模板清洗效果檢測效率、準確性和安全性。 【附圖說明】 圖1為本專利技術實施例提供的掩模板檢測裝置結構示意圖一； 圖2為本專利技術實施例提供的檢測模塊結構示意圖； 圖3為本專利技術實施例提供的控制模塊結構示意圖； 圖4為本專利技術實施例提供的掩模板檢測裝置運作示意圖二； 圖5為本專利技術實施例提供的掩模板檢測方法流程示意圖一； 圖6為本專利技術實施例提供的掩模板檢測方法流程示意圖二。 【具體實施方式】 為使本專利技術實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本專利技術實施例的附圖，對本專利技術實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本專利技術的一部分實施例，而不是全部的實施例?；谒枋龅谋緦＠夹g的實施例，本領域普通技術人員所獲得的所有其他實施例，都屬于本專利技術保護的范圍。 除非另作定義，此處使用的技術術語或者科學術語應當為本專利技術所屬領域內具有一般技能的人士所理解的通常意義。本專利技術專利申請說明書以及權利要求書中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數量或者重要性，而只是用來區分不同的組成部分。同樣，“一個”或者“一”等類似詞語也不表示數量限制，而是表示存在至少一個?！斑B接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。“上”、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對位置關系，當被描述對象的絕對位置改變后，則該相對位置關系也相應地改變。 本專利技術實施例提供了一種掩模板檢測裝置，如圖1所示，該裝置具體可以包括: 用于對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息的檢測模塊I; 用于基于檢測信息，確定檢測結果的控制模塊2，所述檢測結果用于標識所述掩模板的清潔度。 本專利技術實施例所提供的掩模板檢測裝置，利用檢測器件代替人工進行掩模板清潔度檢測，可實現自動化的掩模板檢測，減少人為判定的誤差與安全性隱憂，可提高掩模板清洗效果檢測效率、準確性和安全性。 掩模板所殘留的物質通常為顯示面板制備各圖層所需的有機材料，而這些有機材料在例如紫外光等光線的照射下會激發出光線，因此，本專利技術實施例所提供的檢測裝置可通過對掩模板殘留物在紫外光照射下所激發的光線的偵測，來判定掩模板是否存在殘留物，從而實現掩模板清潔度的檢測。 那么，在一具體實施例中，如圖2所示，本專利技術實施例所涉及的檢測模塊I具體可以包括: 用于向掩模板發射紫外光的照射單元11 ； 用于偵測掩模板殘留物在照射單元11照射下激發的光線的偵測單元12 ； 用于基于偵測單元12的偵測結果，生成檢測信息的檢測信息生成單元13。 在具體實現時，本專利技術實施例所涉及的照射單元11，可在距離掩模板一預設高度的一位置固定設置，以實現照射單元11對掩模板的固定照射。 而在另一實施例中，照射單元11也可以設置于一可移動的器件上，該可移動器件可按預設高度、預設移動速度、預設移動方向等參數，在掩模板上方進行移動，以實現照射單兀11對掩模板的掃描照射。 本專利技術實施例所涉及的照射單元11具體可為一紫外線照射燈。 本專利技術實施例所涉及的偵測單元12，同樣可設置于一固定位置本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種掩模板檢測裝置，其特征在于，包括：用于對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息的檢測模塊；用于基于檢測信息，確定檢測結果的控制模塊，所述檢測結果用于標識所述掩模板的清潔度。

【技術特征摘要】
1.一種掩模板檢測裝置，其特征在于，包括: 用于對掩模板進行殘留物檢測并生成檢測信息的檢測模塊； 用于基于檢測信息，確定檢測結果的控制模塊，所述檢測結果用于標識所述掩模板的清潔度。2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述檢測模塊包括: 用于向掩模板發射紫外光的照射單元； 用于偵測掩模板殘留物在所述照射單元照射下激發的光線的偵測單元； 用于基于所述偵測單元的偵測結果，生成檢測信息的檢測信息生成單元。3.如權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述檢測信息中包括掩模板殘留物的位置信息。4.如權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述控制模塊包括: 用于對檢測信息進行判斷，以確定偵測單元所偵測的光線是否為掩模板殘留物在所述照射單元照射下激發的光線的判斷單元。5.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述控制模塊還用于在所述檢測結果標識掩模板清潔度符合預設要求時，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件對掩模板進行搬運；或者 所述控制模塊還用于在所述檢測結果標識掩模板清潔度不符合預設要求時，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件將掩模板傳輸至掩模板清洗裝置。6.如權利要求1至5任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置設置于一暗房內。7.—種掩模板檢測方法，其特征在于，包括: ...

【專利技術屬性】
技術研發人員：黃俊淞，葉嵐凱，
申請(專利權)人：合肥鑫晟光電科技有限公司，京東方科技集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：安徽;34