單槍多靶材的濺鍍裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術涉及一種單槍多靶材的濺鍍裝置，包含：一濺射腔，為腔體結構，該濺射腔為一可達到高真空的腔體；一標靶轉盤，包含一盤體位在該濺射腔之內，該盤體上包含至少兩穿孔，用于安置濺射所需要的靶材；一被鍍物，安裝在該濺射腔的一側，而且對齊該標靶轉盤中的一靶材；當該標靶轉盤轉動時，該被鍍物也跟著對齊該標靶轉盤中不同的靶材；當該標靶轉盤上的靶材受驅動后，急速濺射向該被鍍物，而在該被鍍物上形成一層膜，即所謂的濺鍍膜；一濺鍍槍，其投射端對齊該被鍍物，在安裝態時該標靶轉盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間；該濺鍍槍將會產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
單槍多靶材的濺鍍裝置
本技術是有關于一種濺鍍裝置，尤其是一種單槍多靶材的濺鍍裝置。
技術介紹
請參考圖1，現有技術中的濺射腔I’，如欲同時在一被鍍物上濺鍍數種靶材，則必須有數個濺鍍槍4’，各濺鍍槍的前端安裝有靶材，該濺鍍槍將會產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物3’上。該濺鍍槍的投射端是在該濺射腔內，而另一端則延伸到該濺射腔I’外，以使得操作人員可以進行所需要的操作。另外設有一轉盤2’，為一盤體2’位于該濺射腔I’之內，該盤體可乘載一被鍍物3’，該轉盤2’尚包含驅動結構，該驅動結構包含:一轉動軸，該轉動軸的一端固定在該標靶轉盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，并連接一驅動器(也位于該濺射腔外)，該驅動器可以進行徑向轉動而使得該轉盤旋轉。在濺鍍時轉動轉盤，使得濺鍍槍的靶材對齊轉盤上的被鍍物，然后濺鍍槍應用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。當完成一種靶材的濺鍍后，再旋轉該轉盤使得該被鍍物對齊到另一濺鍍槍，進行同一動作。使一操作反復進行直到得到所需要的濺鍍結果。在上述的現有技術中，一濺鍍槍只對齊一靶材，因此若要濺鍍兩種靶材則需要兩只濺鍍槍，以此類推，若需要多種靶材，就需要多把濺鍍槍，且濺射腔需要較大的空間，所以成本較高。另外操作時，必須反復打開該濺射腔，破壞其真空度，再建立真空，整體操作時間拉長，而且此一過程又會造成對被鍍物鍍膜的損害，而影響整個濺鍍品質。因此若能提出一種能夠簡省成本及空間的濺射程序，必能帶來更高的經濟效益，且增進濺鍍的品質。因此本技術的專利技術人鑒于對現有技術的了解，所以希望能提出一嶄新的結構，因此構思具新穎性的本技術以解決上述現有技術中的缺點。
技術實現思路
所以本技術的目的是為解決上述現有技術上的問題，本技術中提出一種單槍多靶材的濺鍍裝置，其優點為僅需使用一濺鍍槍，一方面節省成本，再者，濺射腔的體積可以縮小，一般體積可以減少到原來的一半，不只可以節省成本，而且抽真空的作業可以快速達成?？梢酝瑫r配置多個靶材，所以更換靶材的操作數也較少，因此可以使得該濺射腔維持良好的真空度。為達到上述目的本技術中提出的主要技術方案是:一種單槍多靶材的濺鍍裝置，其包含下列元件:一個濺射腔，為腔體結構，該濺射腔為一個可達到高真空的腔體；一個標靶轉盤，包含一個盤體位于該濺射腔之內，該盤體上包含用于安置濺射所需要的靶材的至少兩個穿孔；一個被鍍物，安裝在該濺射腔的一側，而且對齊該標靶轉盤中的一個靶材；當該標靶轉盤轉動時，該被鍍物也跟著對齊該標靶轉盤中不同的靶材；；一把能產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動靶材以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上的濺鍍槍，其投射端對齊該被鍍物，在安裝態時該標靶轉盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間。其中，當該標靶轉盤上的靶材受驅動后，急速濺射向該被鍍物，而在該被鍍物上形成一層膜，即所謂的濺鍍膜。本技術的一個實施例中，該標靶轉盤尚包含驅動結構，該驅動結構包含:一根轉動軸，該轉動軸的一端固定在該標靶轉盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，并連接一個也位于該濺射腔外且能使該轉動軸沿著軸向移動而推動該標靶轉盤或進行徑向轉動而使得該標靶轉盤旋轉的驅動器。本技術的一個實施例中，該濺鍍槍的投射端在該濺射腔內，而另一端則延伸到該濺射腔外以使得操作人員進行所需要的操作。本技術的一個實施例中，該標靶轉盤具有最多能容納四種不同的靶材的四個穿孔。本技術的有益效果是:本技術的單槍多靶材的濺鍍裝置，其僅需使用一濺鍍槍，一方面節省成本，再者，濺射腔的體積可以縮小，一般體積可以減少到原來的一半，不只可以節省成本，而且抽真空的作業可以快速達成?？梢酝瑫r配置多個靶材，所以更換靶材的操作數也較少，因此可以使得該濺射腔維持良好的真空度。由下文的說明可更進一步了解本技術的特征及其優點，閱讀時并請參考附圖。 【附圖說明】圖1顯示現有技術的示意圖。圖2顯示本技術的立體圖。圖3顯示本技術的應用示意圖。圖4顯示本技術的應用示意圖?！局饕栒f明】I 濺射腔2 標靶轉盤3 被鍍物4 濺鍍槍20 穿孔21轉動軸22驅動器201 靶材?！揪唧w實施方式】茲謹就本技術的結構組成，及所能產生的功效與優點，配合附圖，舉本技術的一較佳實施例詳細說明如下。請參考圖2至圖4所示，顯示本技術的單槍多靶材的濺鍍裝置，包含下列元件:一濺射腔1，為一腔體結構，用于容納本技術的其他元件；該濺射腔為一高真空的腔體。主要是濺射程序必須在高度真空下進行。一標靶轉盤2，包含一盤體位于該濺射腔之內，該盤體上包含至少兩穿孔20，是用于安置濺射所需要的靶材；圖中顯示該標靶轉盤具有四個穿孔，所以最多可容納四種不同的革巴材201 ;該標祀轉盤尚包含驅動結構,該驅動結構包含:一轉動軸21,該轉動軸的一端固定在該標靶轉盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，并連接一驅動器22(也位于該濺射腔外)，該驅動器可以使該轉動軸沿著軸向移動而推動該標靶轉盤；或進行徑向轉動而使得該標靶轉盤旋轉。其中該靶材201可為各種不同的金屬、玻璃等材料，而可應用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動后，而使該靶材的粒子脫離靶材而射出。一被鍍物3，安裝在該濺射腔的一側，而且對齊該標靶轉盤中的一靶材。當該標靶轉盤轉動時，該被鍍物也跟著對齊該標靶轉盤中不同的靶材。當該標靶轉盤上的靶材受驅動后，急速濺射向該被鍍物，而在該被鍍物上形成一層膜，即所謂的濺鍍膜。一濺鍍槍4，其投射端對齊該被鍍物，在安裝態時該標靶轉盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間；該濺鍍槍將會產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。該濺鍍槍的投射端是在該濺射腔內，而另一端則延伸到該濺射腔外，以使得操作人員可以進行所需要的操作。本技術的操作方式說明如下:首先依據濺射靶材的種類數，在該標靶轉盤盤體的穿孔，安裝所需要的濺射靶材。并且將被鍍物安裝到濺射腔的既定位置，然后對該濺射腔抽取空氣，達到所需要的真空度，然后將該轉盤調整到所需要的位置點，即將需要的靶材調整到介于該被鍍物及濺射腔之間的位置，而使得該濺射腔的投射端、該靶材、及該被鍍物位于一直線上，然后再驅動該轉盤進行軸向移動，而使得需濺射的靶材緊貼在該濺射腔的投射端。然后該濺鍍槍投射熱源以使得該靶材上的分子濺射向被鍍物。當被鍍物上的薄膜達到所需要的厚度及濃度時，則旋轉該轉盤使得下一個濺射靶材對齊該濺射腔的投射端，進行濺射的動作。上述操作可以反復進行，而在該被鍍物上濺射出所需要的薄膜。本技術的優點為僅需使用一濺鍍槍，一方面節省成本，再者，濺射腔的體積可以縮小，一般體積可以減少到原來的一半，不只可以節省成本，而且抽真空的作業可以快速達成?？梢酝瑫r配置多個靶材，所以更換靶材的操作數也較少，因此可以使得該濺射腔維持良好的真空度。綜上所述，本技術人性化的體貼設計，相當符合實際需求。其具體改進現有缺失，相較于現有技術明顯具有突破性的進步優點，確實具有功效的增進，且非易于達成。本技術未曾公開或揭露于國內與國外的文獻與市場上，已符合專利法規定。上列詳細說明是針對本技術的一可行實施例的具體本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于，包含下列元件：一個濺射腔，為腔體結構，該濺射腔為一個可達到高真空的腔體；一個標靶轉盤，包含一個盤體位于該濺射腔之內，該盤體上包含用于安置濺射所需要的靶材的至少兩個穿孔；?一個被鍍物，安裝在該濺射腔的一側，而且對齊該標靶轉盤中的一個靶材；當該標靶轉盤轉動時，該被鍍物也跟著對齊該標靶轉盤中不同的靶材；一把能產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源來驅動靶材以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上的濺鍍槍，其投射端對齊該被鍍物，在安裝態時該標靶轉盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間。

【技術特征摘要】
1.一種單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于，包含下列元件: 一個濺射腔，為腔體結構，該濺射腔為一個可達到高真空的腔體； 一個標靶轉盤，包含一個盤體位于該濺射腔之內，該盤體上包含用于安置濺射所需要的靶材的至少兩個穿孔； 一個被鍍物，安裝在該濺射腔的一側，而且對齊該標靶轉盤中的一個靶材；當該標靶轉盤轉動時，該被鍍物也跟著對齊該標靶轉盤中不同的靶材； 一把能產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源來驅動靶材以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上的濺鍍槍，其投射端對齊該被鍍物，在安裝態時該標靶轉盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間。2.如權利要求1所述的單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于:還設有對該濺射腔抽取空氣達到所需要的真空度的抽真空裝置，當將該轉盤調整到濺射所需要的位置點時，需要濺射的靶材被調整到介...

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳金龍，徐永桓，
申請(專利權)人：亮杰科技有限公司，
類型：新型
國別省市：中國臺灣;71