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本實用新型涉及一種單槍多靶材的濺鍍裝置，包含：一濺射腔，為腔體結(jié)構(gòu)，該濺射腔為一可達(dá)到高真空的腔體；一標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤，包含一盤體位在該濺射腔之內(nèi)，該盤體上包含至少兩穿孔，用于安置濺射所需要的靶材；一被鍍物，安裝在該濺射腔的一側(cè)，而且對齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤...該專利屬于亮杰科技有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過亮杰科技有限公司授權(quán)不得商用。