本發明具備：多個掩模圖案(2)，其在與基板的搬運方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使光通過；以及多個對準標記(4)，其形成為各具備一對細線(4a、4b)的結構，相對于多個掩模圖案2配置在與基板搬運方向相反一側的位置，在基板搬運方向上...

本發明提供一種取向處理方法及取向處理裝置，其使涂敷了取向膜的基板與具有第一掩模圖案組（6A）和第二掩模圖案組（6B）的光掩模（7）靠近對置，將該基板（4）在與所述第一及第二掩模圖案組（6A）、（6B）交叉的方向上移動，第一掩模圖案組（6...

本發明提供一種光掩模及曝光裝置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上將掩模圖案不同的多種圖案區域(11)按照其中心軸相互平行的方式排列設置，并具備：在與各所述圖案區域(11)的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處，分...

本發明提供一種向印刷配線基板(9)照射激光(L)而在印刷配線基板(9)上的預定的多個位置分別加工孔(22)的激光加工裝置，在激光(L)的光路上，從該光路的上游側依次具備：第二復眼透鏡(6)，該第二復眼透鏡(6)使激光(L)的強度分布均勻...

本發明提供一種激光退火方法、裝置以及微透鏡，能夠以不同于非晶硅膜中的晶體管形成預定區域的間距的較大間距來構成微透鏡陣列，又能夠以小于微透鏡陣列的排列間距的間距來形成通過對非晶硅膜進行激光退火而產生的微小多晶硅膜區域。第1組（11）、第2...

本發明的曝光方法邊使基板沿著一定方向移動，邊在所述基板上的圖案形成區域經由光掩模而使預先設定的圖案依次曝光，其中，執行如下步驟：在所述基板上使所述圖案曝光，另一方面，使激光束向與基板移動方向交叉的交叉方向的所述圖案形成區域外照射，在所述...

本發明提供一種對準方法、對準裝置及曝光裝置。一邊輸送將圖案形成為矩陣狀的基板，一邊對通過攝像機構以一定的時間間隔拍攝到的多個圖像依次進行處理而檢測受光元件的排列方向上的亮度變化的位置，在基板移動一定距離期間，將在相同位置檢測到的亮度變化...

本發明公開了一種形成設備和形成方法，其能生產不經歷晶粒尺寸波動并且具有均勻的晶粒尺寸的低溫多晶硅膜。形成掩模，使得激光束阻斷區域和激光束透射區域以網狀圖案排列，以便彼此不相鄰。通過掩模，利用微透鏡，使用激光束照射預定的通道區形成區域。使...

本發明的曝光裝置，具備：光束點生成單元(9)，其接受光源光(L1)并以規定間隔相互錯開地至少排列成2列而生成多個光束點；光掃描單元(10)，其使上述多個光束點沿它們的排列方向在各組的規定范圍內進行往返掃描；圖案產生器(11)，其被配置成...

本發明提供一種光掩模，具有：在透明基板(4)的下表面(4a)形成有規定形狀的多個掩模圖案(5)的掩模基板(2)；在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有將多個掩模圖案(5)的像縮小投影在被對置配置的被曝光體上的多個投影透鏡(10)，且...

本發明涉及一種曝光方法，將被曝光體沿著一方向以恒定速度搬運，并同時在沿著該被曝光體的搬運方向以規定間隔配置的第一及第二曝光區域的每一個上形成不同的曝光圖案，該曝光方法具有：將與各曝光圖案對應的第一及第二掩模圖案組沿著被曝光體的搬運方向以...

本發明提供一種曝光裝置，其具有：光掩模（10、24），該光掩模形成有與被曝光在TFT用基板（4）的表面上的曝光圖案相同形狀的掩膜圖案，該TFT用基板（4）被保持在載物臺（8）上；透鏡組裝體（11、25），該透鏡組裝體將多個單元透鏡組（1...

本發明中，光掩模(3)具備：沿著與被曝光體的搬運方向(A)大致正交的方向以規定間距排列形成多個掩模圖案(13)的多個掩模圖案列(15)；與多個掩模圖案列(15)的各掩模圖案(13)分別對應而形成在被曝光體側，并將各掩模圖案(13)縮小投...

本發明是一種曝光裝置，將在透明基板(9)的一面上設置的遮光膜(10)中形成有規定形狀的多個開口(11)的光掩模(4)與被曝光體(6)接近、相對地配設，對該光掩模(4)照射光源光(L1)而在上述被曝光體(6)上以與上述開口(11)對應的圖...

本實用新型提供一種液晶部件制作裝置，其不會對活性區域照射紫外線，能夠有選擇地對涂敷了密封劑的區域照射紫外線。所述液晶部件制作裝置包括：平臺部，其設置有液晶部件，并由能使紫外線透過的材料構成；第一紫外線照射部，其對設置在平臺部的液晶部件的...

本發明提供包含截止電流小、電位保持特性優異、消耗功率低的同時動作速度也快的低溫多晶硅晶體管的薄膜晶體管、該薄膜晶體管的制造方法及使用它的液晶顯示裝置。該薄膜晶體管是在玻璃基板上形成柵電極、柵極絕緣膜、溝道區、源/漏電極的反交錯結構的薄膜...

本實用新型涉及一種三維視效偏振膜以及三維圖像顯示裝置，其可進行三維圖像顯示裝置的薄型化，實現制造成本的下降，并且可提高在三維圖像顯示裝置中所顯示的三維圖像的亮度。所述三維視效偏振膜包括：第一保護膜，用于保護三維圖像顯示裝置的顯示面；圖案...

本發明公開一種輸送圖案為矩陣狀的基板，并對通過攝像機構以一定的時間間隔拍攝到的多個圖像依次進行處理而檢測受光元件的排列方向上的亮度變化的位置，在基板移動一定距離期間，將在相同位置檢測到的亮度變化的次數進行累計，而得到多個邊緣個數數據，根...

本發明提供一種激光退火方法及激光退火裝置。在沿著被設定成矩陣狀的TFT形成區域的縱橫方向的任一排列方向搬送基板的同時利用拍攝機構對基板表面進行拍攝，并基于該拍攝圖像檢測在基板表面預先設定的對準基準位置；將與多個TFT形成區域對應地沿著與...

本發明公開一種曝光方法及曝光裝置，其中一邊將被曝光體(8)沿箭頭A方向輸送，一邊在對使用光掩模(11)的第一掩模圖案組12進行的被曝光體(8)的第一曝光區域(9)的曝光結束時使快門(5)與被曝光體(8)的輸送速度同步移動遮斷光源光，將被...